[發(fā)明專利]一種撞擊流-旋轉盤耦合反應裝置及其用于合成超細氫氧化鎂阻燃劑的方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201310338819.4
• 申請日: 2013-08-06
• 公開（公告）號: CN103395807A
• 公開（公告）日: 2013-11-20
• 發(fā)明（設計）人: 劉有智;申紅艷;張巧玲;栗秀萍;焦緯洲
• 申請（專利權）人: 中北大學
• 主分類號: C01F5/22
• 分類號: C01F5/22
• 代理公司: 太原市科瑞達專利代理有限公司 14101
• 代理人: 江淑蘭

1.?一種撞擊流-旋轉盤耦合反應裝置，其特征在于：包括撞擊流-旋轉盤耦合反應器，撞擊流-旋轉盤耦合反應器包括殼體，殼體內(nèi)部中央設有圓盤，圓盤隨其下方連接的轉軸旋轉，殼體頂部安裝A進液管和B進液管，A進液管和B進液管的下端連接液體再分布器，A進液管和B進液管管道下方分別設有噴嘴，且兩噴嘴相向對稱設置，液體再分布器安裝于圓盤的中心位置上方，反應器底部的轉軸通過電機、變頻器控制；反應器兩側分別設有A儲液槽和B儲液槽，A儲液槽和B儲液槽分別通過泵、流量計連接反應器的A進液管和B進液管。

2.根據(jù)權利要求1所述的撞擊流-旋轉盤耦合反應裝置，其特征在于：所述A進液管和B進液管的下端內(nèi)側的噴嘴為圓形孔，其直徑為1～3mm。

3.根據(jù)權利要求1所述的撞擊流-旋轉盤耦合反應裝置，其特征在于：所述的液體再分布器上部設置為圓筒形，下部設置錐形出液口，液體再分布器焊接在A進液管和B進液管上；所述液體再分布器的出料端與圓盤相距2mm~20mm。

4.根據(jù)權利要求1所述的撞擊流-旋轉盤耦合反應裝置，其特征在于：所述反應器殼體底部為雙錐形出液口，殼體安裝于水平臺上，出液口與電機置于水平臺下方。

5.根據(jù)權利要求1所述的撞擊流-旋轉盤耦合反應裝置，其特征在于：所述A儲液槽和B儲液槽設置為密閉槽，在儲液槽和進液管外壁均設有加熱保溫裝置。

6.根據(jù)權利要求5所述的撞擊流-旋轉盤耦合反應裝置，其特征在于：所述的加熱保溫裝置是加熱帶。

7.一種利用權利要求1~6任一項所述的撞擊流-旋轉盤耦合反應裝置合成超細氫氧化鎂阻燃劑的方法，其特征在于：包括以下步驟：

（1）開啟攪拌裝置，在A儲液槽中配制氯化鎂溶液，在B儲液槽中配制氫氧化鈉溶液；

（2）開啟加熱保溫裝置將其加熱，其溫度控制在50～80℃；

（3）同時開啟耐腐蝕泵以體積流量為30~80L/h的速度進入A進液管和B進液管，并在進液管的噴嘴處以5～12m/s的初速相向撞擊，形成扇形液面；

（4）撞擊后的溶液匯集到液體再分布器中，分布到以600~1000rpm轉速旋轉的圓盤中心，在離心力作用下，由內(nèi)向外徑向在轉盤上分布為薄液膜，反應形成的氫氧化鎂漿料從雙錐形出液口排出；

（5）經(jīng)過濾、洗滌、干燥、研磨后制得氫氧化鎂粉體。

8.根據(jù)權利要求7所述的合成超細氫氧化鎂阻燃劑的方法，其特征在于：原料液氯化鎂的濃度為0.5~2.0mol/L，氫氧化鈉的濃度為1.0~4.0mol/L，采用變頻器將撞擊流-旋轉盤耦合反應器的轉速調節(jié)為600~1000rpm。