[發明專利]一種利用雙光譜成像進行霧場粒徑平面分布測量的裝置有效
| 申請號: | 201310337431.2 | 申請日: | 2013-08-05 |
| 公開(公告)號: | CN103398925A | 公開(公告)日: | 2013-11-20 |
| 發明(設計)人: | 劉維來;張鐘秀;王克逸;王聲波 | 申請(專利權)人: | 中國科學技術大學 |
| 主分類號: | G01N15/02 | 分類號: | G01N15/02 |
| 代理公司: | 北京科迪生專利代理有限責任公司 11251 | 代理人: | 楊學明;顧煒 |
| 地址: | 230026 安*** | 國省代碼: | 安徽;34 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 利用 光譜 成像 進行 粒徑 平面 分布 測量 裝置 | ||
1.一種利用雙光譜成像進行霧場粒徑平面分布測量的裝置,其特征在于:該裝置由四大部分組成:激光器(1)、時序控制器(21)、激光束轉激光片光路以及成像光路,其中:
激光器(1)作為激光光源,產生激光束;
時序控制器(21)分別控制激光器外觸發源和相機的快門控制端,使得在脈沖激光到達測量區域時,時序控制器啟動相機快門并保持一段曝光時間,以便相機完成熒光散射光和Mie散射光成像;
激光束轉激光片光路是將激光束(3)轉換為激光片(7),激光束轉激光片光路由第一反射鏡(2)、凹柱面透鏡(4)、凸透鏡(5)和凸柱面透鏡(6)組成,該激光束轉激光片光路將束激光展成一定寬度和一定厚度的片激光;激光片(7)通過激發面,可以使激發面中的微液滴群受激發,產生熒光散射光和Mie散射光;
成像光路由Mie散射光成像光路和熒光散射光成像光路以及ICCD相機構成;熒光散射光成像光路由第二反射鏡(11),第三反射鏡(12)和低通濾光鏡(14)組成,激發面中微液滴群發出熒光散射光和Mie散射光中的一部分被第二反射鏡(11)反射至第三反射鏡(12),然后由低通濾光鏡(14)將波長與激光波長相等的Mie散射光濾除掉,而讓波長比激發激光長的熒光通過,因此,光線經過低通濾光鏡(14)而在ICCD相機(20)形成了半幅圖像,這半幅圖像是激發面的微液滴群發出的熒光散射光圖像;Mie散射光成像光路由第四反射鏡(16),第五反射鏡(18)以及窄帶濾光鏡(17)組成,激發面中微液滴群發出熒光散射光和Mie散射光中的一部分被第五反射鏡(18)反射至第四反射鏡(16),然后由窄帶帶通濾光鏡(17)將熒光濾除而讓Mie散射光通過并被ICCD相機(20)成像,因此,光線經過窄帶濾光鏡(17)而在ICCD相機(20)形成了半幅圖像,這半幅圖像是激發面微液滴群散發出的Mie散射光圖像;ICCD相機(20)每次拍一幅圖像,圖像的一半是由激發面的微液滴群發出的Mie散射光成的像,另一半是由激發面的微液滴群發出的熒光散射光成的像。
2.根據權利要求1所述的一種利用雙光譜成像進行霧場粒徑平面分布測量的裝置,其特征在于:為了能夠提供高能量密度的激光,以便使激發面中的霧滴群能夠被激發出足夠強的熒光散射光和Mie散射光,從而提高ICCD成像質量,采用脈沖激光器作為激光器(1)。
3.根據權利要求1所述的一種利用雙光譜圖像進行霧場粒徑平面分布測量的裝置,其特征在于:該激光束轉激光片光路將激光束展成寬度在20mm-100mm之間,且厚度約為0.5mm的片激光。
4.根據權利要求1所述的一種利用雙光譜成像進行霧場粒徑平面分布測量的裝置,其特征在于:通過成像光路,獲得由半幅熒光散射光圖像和半幅Mie散射光圖像組成所需要拍攝的一幅圖像,成像系統只需要一部ICCD相機。
5.根據權利要求4所述的一種利用雙光譜成像進行霧場粒徑平面分布測量的裝置,其特征在于,所述的成像光路,包含兩組平面反射鏡,每組反射鏡由兩片反射鏡組成,成像光路還包括一個用于濾除熒光而讓Mie散射光通過的窄帶帶通濾光鏡以及用于濾除Mie散射光而讓熒光通過的低通濾光鏡。
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