[發明專利]一種量子點修飾ZnO納米棒陣列電極及其制備方法有效
| 申請號: | 201310337248.2 | 申請日: | 2013-08-05 |
| 公開(公告)號: | CN103400699A | 公開(公告)日: | 2013-11-20 |
| 發明(設計)人: | 劉丹青;劉紹琴;楊彬 | 申請(專利權)人: | 哈爾濱工業大學 |
| 主分類號: | H01G9/20 | 分類號: | H01G9/20;H01G9/042;H01B5/00;H01B13/00;B82Y30/00;B82Y40/00 |
| 代理公司: | 哈爾濱市松花江專利商標事務所 23109 | 代理人: | 牟永林 |
| 地址: | 150001 黑龍*** | 國省代碼: | 黑龍江;23 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 量子 修飾 zno 納米 陣列 電極 及其 制備 方法 | ||
1.一種量子點修飾ZnO納米棒陣列電極,其特征在于一種量子點修飾ZnO納米棒陣列電極包括基底、ZnO納米棒陣列和量子點包覆層;
其中,所述基底為導電基底,所述的ZnO納米棒陣列是由濃度為0.08~0.12M的六水硝酸鋅和濃度為0.08~0.12M的六次甲基四胺制成的,所述的六水硝酸鋅和六次甲基四胺的體積比為1:1,所述的量子點包覆層由陽離子聚電解質-鄰菲啰啉鈷層和量子點納米顆粒層交替包覆而成,所述的陽離子聚電解質-鄰菲啰啉鈷層包覆在ZnO納米棒陣列上,量子點納米顆粒層包覆在陽離子聚電解質-鄰菲啰啉鈷層上,其中,所述的量子點納米顆粒層為CdTe納米顆粒層、CdS納米顆粒層或CdSe納米顆粒層。
2.根據權利要求1所述的一種量子點修飾ZnO納米棒陣列電極,其特征在于所述的導電基底為ITO或FTO。
3.根據權利要求1或2所述的一種量子點修飾ZnO納米棒陣列電極,其特征在于所述的陽離子聚電解質-鄰菲啰啉鈷層的制備方法如下:將ZnO納米棒陣列浸泡在pH為6.2~8.5的陽離子聚電解質-鄰菲啰啉鈷溶液中5~20min后,取出并用去離子水沖洗,吹干,即完成;
其中,所述的陽離子聚電解質-鄰菲啰啉鈷溶液是由濃度為0.5~2mg/mL的鄰菲啰啉鈷和濃度為0.2~1mg/mL的陽離子聚電解質組成的;其中,所述的陽離子聚電解質-鄰菲啰啉鈷層中的陽離子聚電解質為聚乙烯亞胺、聚丙烯胺鹽酸鹽或聚二甲基二烯丙基氯化銨。
4.根據權利要求1所述的一種量子點修飾ZnO納米棒陣列電極,其特征在于所述的量子點納米顆粒層的制備方法如下:將包覆了陽離子聚電解質-鄰菲啰啉鈷層的ZnO納米棒陣列浸泡在量子點納米顆粒溶液中5~20min后,取出并用去離子水沖洗,吹干,即完成;
其中,所述的量子點納米顆粒溶液為CdTe納米顆粒溶液、CdS納米顆粒溶液或CdSe納米顆粒溶液;
所述的CdTe納米顆粒溶液按以下方法制備:a、稱取0.5~1.4g六水合高氯酸鎘溶于100~150mL二次蒸餾水中,加入0.2~0.8mL3-巰基丙酸后,用濃度為0.5~2M的NaOH溶液調節溶液的pH至9~11,得到溶液A;b、在氮氣氣氛下,向0.1~0.4g碲化鋁粉末中加入10~20mL濃度為0.2~0.7M的硫酸溶液,將反應產生的氣體導入到溶液A中,同時將溶液A在80~150℃下回流反應12~48h,反應過程中用磁子攪拌,得到CdTe納米顆粒溶液;
所述的CdS納米顆粒溶液按以下方法制備:a、稱取0.5~1.4g六水合高氯酸鎘溶于100~150mL二次蒸餾水中,加入0.2~0.8mL3-巰基丙酸后,用濃度為0.5~2M的NaOH溶液調節溶液的pH至9~11,得到溶液A;b、在氮氣氣氛下,向溶液A中加入0.09~0.25g硫代乙酰胺,同時將溶液A在80~150℃下回流反應12~48h,反應過程中用磁子攪拌,得到CdS納米顆粒溶液;
所述的CdSe納米顆粒溶液按以下方法制備:稱取0.04~0.09g六水合高氯酸鎘溶于60~100mL去離子水中,加入0.08~0.13g的檸檬酸鈉,然后使用0.5~2M氫氧化鈉溶液將pH值調至9~11,通氮氣10min;稱取0.004~0.007g硒脲溶于4mL的去離子水中,超聲混勻后加入上述混合液,混合液在900W的微波爐中超聲50s,得到CdSe納米顆粒溶液。
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