[發明專利]進氣裝置及反應腔室

無效

• 申請號: 201310335533.0
• 申請日: 2013-08-02
• 公開（公告）號: CN103397309A
• 公開（公告）日: 2013-11-20
• 發明（設計）人: 譚華強;喬徽;林翔;蘇育家
• 申請（專利權）人: 光壘光電科技（上海）有限公司
• 主分類號: C23C16/455
• 分類號: C23C16/455
• 代理公司: 上海思微知識產權代理事務所(普通合伙) 31237
• 代理人: 鄭瑋

1.一種進氣裝置，用于向反應區域提供反應氣體，其特征在于，所述進氣裝置包括堆疊設置的主體和可移除層，所述主體至少包括第一氣體腔室，所述主體和該主體下方的可移除層之間的區域構成第二氣體腔室；所述可移除層與所述主體之間通過定位配合裝置可拆卸連接，所述定位配合裝置用于確定所述可移除層與主體之間的相對位置關系，并且將定位配合裝置的固定件與所述主體鎖定；所述第一氣體腔室和第二氣體腔室皆具有氣體通道，以向所述可移除層下方的反應區域提供反應氣體。

2.如權利要求1所述的進氣裝置，其特征在于，所述定位配合裝置設置在所述可移除層的邊緣。

3.如權利要求1所述的進氣裝置，其特征在于，所述定位配合裝置包括：定位件、配合件和所述固定件，所述定位件設置于所述可移除層下方，所述配合件設置于可移除層與定位件之間，所述定位件和配合件用于確定所述可移除層與主體之間的相對位置關系，然后通過將所述固定件和主體鎖定，實現可移除層與主體之間的固定連接。

4.如權利要求3所述的進氣裝置，其特征在于，所述定位件與所述可移除層相對的一側各設置有凹槽，所述配合件的兩端分別位于所述定位件與可移除層的凹槽中。

5.如權利要求4所述的進氣裝置，其特征在于，所述定位件和配合件為條狀，環繞可移除層的邊緣一周。

6.如權利要求4所述的進氣裝置，其特征在于，所述定位件和配合件為塊狀，沿可移除層的邊緣一周均勻排布。

7.如權利要求3所述的進氣裝置，其特征在于，所述固定件為螺栓，所述可移除層設置有螺絲孔，所述螺絲孔在沿所述可移除層徑向的尺寸大于所述螺栓的尺寸。

8.如權利要求3所述的進氣裝置，其特征在于，所述固定件為定位銷，所述可移除層設置有通孔，所述通孔在沿所述可移除層徑向的尺寸大于所述定位銷的尺寸。

9.如權利要求1所述的進氣裝置，其特征在于，所述可移除層邊緣周向設置有多個用于對準中心的部件，以使得可移除層在受熱膨脹后所述可移除層的中心與所述主體的中心對準。

10.如權利要求1所述的進氣裝置，其特征在于，所述主體與所述可移除層之間設置有隔熱件，以隔離所述主體與所述可移除層之間的熱傳導。

11.如權利要求10所述的進氣裝置，其特征在于，所述隔熱件的材料為陶瓷。

12.如權利要求10所述的進氣裝置，其特征在于，所述主體的邊緣設置有凹槽，所述隔熱件設置于所述主體的邊緣的凹槽中。

13.如權利要求1所述的進氣裝置，其特征在于，在所述第二氣體腔室邊緣外側且所述可移除層與主體之間設置有勻氣環和勻氣件，所述勻氣件嵌套于所述勻氣環內；所述勻氣件位于所述第二氣體腔室和勻氣環之間，沿勻氣環的邊緣一周均勻分布有多個進氣孔，沿勻氣件一周均勻設置多個氣體通道，來自氣體源的第二氣體通過進氣孔進入勻氣環和勻氣件之間的區域進行緩沖，之后通過所述氣體通道進入所述第二氣體腔室。

14.如權利要求13所述的進氣裝置，其特征在于，所述第一氣體腔室通入第一氣體，所述第二氣體腔室通入第二氣體，所述第一氣體為III族氣體，所述第二氣體為V族氣體。

15.如權利要求14所述的進氣裝置，其特征在于，所述勻氣環背離所述勻氣件的一側、所述主體及所述可移除層之間圍繞成吹掃氣體腔室，圍繞成所述吹掃氣體腔室的所述可移除層設置有吹掃氣體通道，所述吹掃氣體腔室與外部吹掃氣體源相連通，來自吹掃氣體源的吹掃氣體經過吹掃氣體腔室和吹掃氣體通道向下方流出。

16.如權利要求1所述的進氣裝置，其特征在于，所述第一氣體腔室與第二氣體腔室之間層疊設置有隔離腔室和冷卻腔室，所述隔離腔室用于提供隔離氣體，將所述III族氣體和V族氣體進行隔離，防止預反應發生；所述冷卻腔室用于將所述第一氣體腔室與第二氣體腔室進行熱隔離。

17.如權利要求16所述的進氣裝置，其特征在于，所述第一氣體腔室的氣體通道貫穿所述隔離腔室和冷卻腔室及第二氣體腔室到達所述可移除層的下表面；所述第二氣體腔室的氣體通道為貫穿所述可移除層的通孔。

18.一種反應腔室，包括：腔體、用于裝載襯底的托盤和進氣裝置，所述托盤設置于所述腔體的底部，所述進氣裝置設置在所述腔體的頂部并與所述托盤相對設置，所述托盤與所述進氣裝置之間限定氣體反應區域，所述進氣裝置用于向所述反應區域輸出反應氣體；其特征在于，所述進氣裝置為如權利要求1-17中任意一項所述的進氣裝置。