[發明專利]基于介電泳效應的保持架偏心轉擺式雙平面研磨/拋光圓柱形零件設備

有效

• 申請號: 201310333313.4
• 申請日: 2013-08-01
• 公開（公告）號: CN103433840A
• 公開（公告）日: 2013-12-11
• 發明（設計）人: 鄧乾發;姚蔚峰;呂冰海;袁巨龍;鐘美鵬;郭偉剛;王潔;趙天晨;周芬芬
• 申請（專利權）人: 浙江工業大學
• 主分類號: B24B37/08
• 分類號: B24B37/08;B24B37/32;B24B29/00
• 代理公司: 杭州斯可睿專利事務所有限公司 33241
• 代理人: 王利強

1.一種基于介電泳效應的保持架偏心轉擺式雙平面研磨/拋光圓柱形零件設備，包括上拋光盤、保持架和下拋光盤。所述上拋光盤位于下拋光盤上方，所述保持架位于上拋光盤與下拋光盤之間，上拋光盤的轉軸和下拋光盤的轉軸呈同軸設置；其特征在于：所述保持架的軸心線和上、下拋光盤的轉軸存在確定偏距，所述保持架與保持架驅動曲軸相連；所述的上拋光盤上安裝第一電極板，所述第一電極板與交流電源的第一引出端連接，所述下拋光盤上安裝第二電極板，所述第二電極板與所述交流電源的第二引出端連接；所述的交流電源的電流輸入端與用于控制所述的交流電源的電壓與頻率的調頻調壓控制器連接。

2.如權利要求1所述的基于介電泳效應的保持架偏心轉擺式雙平面研磨/拋光圓柱形零件設備，其特征在于：所述的上拋光盤內安裝有第一絕緣板，所述第一電極板安裝在所述第一絕緣板上；所述的下拋光盤內安裝有第二絕緣板，所述第二電極板安裝在所述第二絕緣板上。

3.如權利要求1所述的基于介電泳效應的保持架偏心轉擺式雙平面研磨/拋光圓柱形零件設備，其特征在于：所述的上拋光盤為絕緣材料拋光盤，所述的下拋光盤為絕緣材料拋光盤。

4.如權利要求1～3之一所述的基于介電泳效應的保持架偏心轉擺式雙平面研磨/拋光圓柱形零件設備，其特征在于：所述保持架驅動曲軸為折線形狀的軸，所述曲軸上下兩端的軸心線之間存在確定偏距，所述下研磨盤的轉軸呈中空狀，下拋光盤的中部開有通孔，所述曲軸穿過所述下拋光盤的轉軸內腔和通孔。

5.如權利要求4所述的基于介電泳效應的保持架偏心轉擺式雙平面研磨/拋光圓柱形零件設備，其特征在于：所述保持架的中心孔與保持架驅動曲軸相連。

6.如權利要求1～3之一所述的基于介電泳效應的保持架偏心轉擺式雙平面研磨/拋光圓柱形零件設備，其特征在于：所述保持架呈圓盤狀，所述保持架的盤面上開有供待加工零件放置的加工槽，呈放射狀、同心圓狀或柵格狀分布。