[發明專利]用于MOCVD設備的噴淋頭

無效

• 申請號: 201310333192.3
• 申請日: 2013-08-01
• 公開（公告）號: CN103397308A
• 公開（公告）日: 2013-11-20
• 發明（設計）人: 譚華強;喬徽;林翔;蘇育家
• 申請（專利權）人: 光壘光電科技（上海）有限公司
• 主分類號: C23C16/455
• 分類號: C23C16/455
• 代理公司: 上海思微知識產權代理事務所(普通合伙) 31237
• 代理人: 鄭瑋

1.一種用于MOCVD設備的噴淋頭，用于向位于所述噴淋頭下方的襯底提供反應氣體，其特征在于，包括：

主體層，所述主體層中靠近所述襯底的一側為出氣面，所述反應氣體在所述出氣面與所述襯底之間形成氣流；

限流環，所述限流環與所述出氣面連接，并圍繞設置于所述出氣面的周圍，用于控制所述氣流的方向；

所述限流環與所述出氣面之間設置有隔熱層。

2.如權利要求1所述的用于MOCVD設備的噴淋頭，其特征在于，所述主體層包括一頂壁、一底壁和連接所述頂壁和所述底壁的一側壁，所述側壁環繞于所述頂壁和所述底壁的邊緣；

其中，所述底壁上設置有若干個貫穿于所述底壁的出氣孔。

3.如權利要求2所述的用于MOCVD設備的噴淋頭，其特征在于，所述底壁中背離所述頂壁的表面為出氣面，所述隔熱層圍繞于所述底壁的邊緣。

4.如權利要求2所述的用于MOCVD設備的噴淋頭，其特征在于，所述主體層還包括熱壁板，所述熱壁板位于所述底壁和所述限流環之間；

所述熱壁板與所述底壁之間具有間隙；

所述熱壁板中靠近所述限流環的一側為出氣面，所述隔熱層圍繞于所述出氣面的邊緣。

5.如權利要求4所述的用于MOCVD設備的噴淋頭，其特征在于，所述熱壁板與所述底壁之間設置有氣體通道，所述氣體通道的一端連接所述出氣孔，所述氣體通道的另一端穿過所述熱壁板。

6.如權利要求1至5任一項所述的用于MOCVD設備的噴淋頭，其特征在于，所述隔熱層采用的材料是石英或者石棉。

7.一種MOCVD設備，其特征在于，包括：

反應室、托盤和如權利要求1至6中任一項所述的用于MOCVD設備的噴淋頭；

所述托盤和所述噴淋頭均設置于所述反應室的內部且相對設置；

所述噴淋頭具有熱壁板，所述熱壁板位于鄰近所述托盤的一側。