[發明專利]等離子體處理裝置的冷卻液處理系統及方法

在審

• 申請號: 201310332796.6
• 申請日: 2013-08-01
• 公開（公告）號: CN104347338A
• 公開（公告）日: 2015-02-11
• 發明（設計）人: 李財;袁群藝;倪圖強
• 申請（專利權）人: 中微半導體設備（上海）有限公司
• 主分類號: H01J37/32
• 分類號: H01J37/32;H01J37/02
• 代理公司: 上海天辰知識產權代理事務所(特殊普通合伙) 31275
• 代理人: 吳世華;林彥之

1.一種等離子體處理裝置的冷卻液處理系統，包括：

至少一個用于冷卻等離子體處理裝置基臺和/或基片的冷卻液通道；

與所述冷卻液通道相連的冷卻液循環裝置，其包括與所述冷卻液通道入口端相連的供液管道以及與所述冷卻液通道出口端相連的回液管道；

分別布置于所述供液管道和回液管道上的第一隔離裝置和第二隔離裝置，其中，所述第一隔離裝置用于控制所述供液管道的啟閉，所述第二隔離裝置用于控制所述回液管道的啟閉；

其特征在于，還包括

冷卻液處理單元，其包括位于所述供液管道和/或所述回液管道上的一個或多個控制閥，用于當所述第一隔離裝置關閉時，通過所述一個或多個控制閥的啟閉配合，以去除所述冷卻液通道、供液管道和/或回液管道中的殘留冷卻液。

2.根據權利要求1所述的等離子體處理裝置的冷卻液處理系統，其特征在于，所述供液管道上布置有一控制閥，其中，所述控制閥位于所述冷卻液通道入口端和第一隔離裝置之間，以及

所述控制閥端口處還通入有氣體，以去除所述冷卻液通道、供液管道和/或回液管道中的殘留冷卻液。

3.根據權利要求1所述的等離子體處理裝置的冷卻液處理系統，其特征在于，所述回液管道上布置有一控制閥，其中，所述控制閥位于所述冷卻液通道出口端和第二隔離裝置之間，以及

所述控制閥外還有一真空泵，當所述第二隔離裝置關閉時，用以抽除所述冷卻液通道、供液管道和/或回液管道中的殘留冷卻液。

4.根據權利要求1所述的等離子體處理裝置的冷卻液處理系統，其特征在于，所述供液管道和回液管道上各布置有一控制閥，分別為第一控制閥和第二控制閥，其中，所述第一控制閥位于所述冷卻液通道入口端和第一隔離裝置之間，所述第二控制閥位于所述冷卻液通道出口端和第二隔離裝置之間，以及

所述第一控制閥端口處還通入有氣體，當所述第二隔離裝置關閉時，用以去除所述冷卻液通道、供液管道和/或回液管道中的殘留冷卻液。

5.根據權利要求2或4所述的等離子體處理裝置的冷卻液處理系統，其特征在于，所述氣體為N₂、空氣或CO₂中的任意一種或多種氣體的混合物。

6.根據權利要求2或4所述的等離子體處理裝置的冷卻液處理系統，其特征在于，所述通入氣體的壓強為0.3-0.5MPa。

7.一種等離子體處理裝置的冷卻液處理方法，其特征在于，包括如下步驟：

步驟S1：關閉第一隔離裝置，以停止供液；

步驟S2：向所述控制閥端口處通入氣體，以驅動殘留冷卻液的流動；

步驟S3：開啟所述控制閥，以去除冷卻液通道、供液管道和回液管道中的殘留冷卻液。

步驟S4：關閉所述控制閥和第二隔離裝置。

8.根據權利要求7所述的冷卻液處理方法，其特征在于，在關閉所述第一隔離裝置前，所述控制閥處于關閉狀態。

9.一種等離子體處理裝置的冷卻液處理方法，其特征在于，包括如下步驟：

步驟S11：關閉第一隔離裝置和第二隔離裝置，以停止供液和回液；

步驟S21：開啟控制閥，通過置于所述控制閥外的真空泵來抽除冷卻液通道、供液管道和回液管道中的殘留冷卻液；

步驟S31：所述真空泵無明顯滴液時，關閉真空泵。

10.一種等離子體處理裝置的冷卻液處理方法，其特征在于，包括如下步驟：

步驟S12：關閉第一隔離裝置和第二隔離裝置，以停止供液和回液；

步驟S22：向第一控制閥端口處通入氣體，以驅動殘留冷卻液的流動；

步驟S32：開啟所述第一控制閥和第二控制閥，以去除冷卻液通道、供液管道和回液管道中的殘留冷卻液；

步驟S42：所述第二隔離裝置處無明顯滴液時，關閉所述的第一控制閥和第二控制閥。

11.根據權利要求9或10所述的冷卻液處理方法，其特征在于，在關閉第一隔離裝置和第二隔離裝置前，所述控制閥處于關閉狀態。