[發明專利]過濾器介質和包括其的過濾器裝置有效
| 申請號： | 201310331786.0 | 申請日： | 2013-08-01 |
| 公開（公告）號： | CN103566657A | 公開（公告）日： | 2014-02-12 |
| 發明（設計）人： | E.R.賈里耶;M.G.哈特菲爾德;P.S.布賴恩特 | 申請（專利權）人： | 通用電氣公司 |
| 主分類號： | B01D39/14 | 分類號： | B01D39/14;B01D46/52;B01D46/54;F02C7/055 |
| 代理公司： | 中國專利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人： | 肖日松;傅永霄 |
| 地址： | 美國*** | 國省代碼： | 美國;US |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 過濾器 介質 包括 裝置 | ||
1.?一種過濾器裝置，包括：
基礎介質；以及
覆蓋所述基礎介質的第一面上的第一隔膜面積的第一隔膜，其中，所述第一隔膜面積小于所述第一隔膜配置于其上的所述第一面的總面積。
2.?根據權利要求1所述的過濾器裝置，其特征在于，所述第一面是所述基礎介質的上游面。
3.?根據權利要求1所述的過濾器裝置，其特征在于，所述第一面是所述基礎介質的下游面。
4.?根據權利要求1所述的過濾器裝置，其特征在于，所述第一隔膜面積覆蓋所述基礎介質的第一面的總面積的90%或更少。
5.?根據權利要求1所述的過濾器裝置，其特征在于，所述第一隔膜面積覆蓋所述基礎介質的第一面的總面積的50%或更多。
6.?根據權利要求1所述的過濾器裝置，其特征在于，所述基礎介質形成多個褶皺。
7.?一種過濾器裝置，包括：
基礎介質；
覆蓋所述基礎介質的第一面上的第一隔膜面積的第一隔膜，其中，所述第一隔膜面積小于所述第一隔膜配置于其上的所述第一面的總面積；以及
覆蓋所述基礎介質的第二面上的第二隔膜面積的第二隔膜，其中，所述第二隔膜面積小于所述第二隔膜配置于其上的所述第二面的總面積。
8.?根據權利要求7所述的過濾器裝置，其特征在于，所述第二隔膜面積覆蓋所述基礎介質的第二面的總面積的90%或更少。
9.?根據權利要求7所述的過濾器裝置，其特征在于，所述第一隔膜面積覆蓋所述基礎介質的第一面的總面積的90%或更少。
10.?根據權利要求7所述的過濾器裝置，其特征在于，所述第一隔膜面積覆蓋所述基礎介質的第一面的總面積的40%或更多，并且其中，所述第二隔膜覆蓋所述基礎介質的第二面的總面積的40%或更多。
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