[發(fā)明專利]陣列光學器件

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 201310331511.7
• 申請日: 2013-08-01
• 公開（公告）號: CN103576314A
• 公開（公告）日: 2014-02-12
• 發(fā)明（設計）人: A.弗蘭;J.維特佐雷克
• 申請（專利權）人: 霍夫曼-拉羅奇有限公司
• 主分類號: G02B27/00
• 分類號: G02B27/00;G02B3/00;G01N21/64
• 代理公司: 北京市柳沈律師事務所 11105
• 代理人: 張貴東

1.一種儀器，包括：

具有多個空間隔開的反應區(qū)域的塊；

發(fā)射包括至少一個激發(fā)頻率的光的光源；

包括物鏡系統(tǒng)的透鏡系統(tǒng)，其中所述物鏡系統(tǒng)被布置在光源和多個反應區(qū)域之間，所述物鏡系統(tǒng)包括場透鏡陣列和光瞳面，其中所述光瞳面和所述光源位于場透鏡陣列的相對側，其中所述場透鏡陣列被布置在所述光源與所述多個反應區(qū)域之間，所述場透鏡陣列包括多個場透鏡陣列元件，其中場透鏡陣列中的任意一個場透鏡陣列元件的曲率半徑、曲率中心的厚度和位置是可變的，并且布置在所述光源和所述反應區(qū)域之間的光束路徑中，從而所述場透鏡陣列元件的任何一個能夠將位于所述光源和所述場透鏡陣列之間的光瞳光圈成像到位于所述光瞳面上的光瞳，其中位于光瞳面上的光瞳的陣列由所述場透鏡陣列產生，

檢測器，布置來接收從多個反應區(qū)域發(fā)射的發(fā)射光束，

其中所述物鏡系統(tǒng)被進一步布置在所述多個反應區(qū)域和所述檢測器之間，并且其中所述透鏡系統(tǒng)另外還包括在所述場透鏡陣列和所述檢測器之間的發(fā)射光物鏡，使得反應區(qū)域在檢測器上成像。

2.根據(jù)權利要求1所述的儀器，其中所述光源是發(fā)光二極管。

3.根據(jù)權利要求1所述的儀器，其中所述物鏡系統(tǒng)包括所述場透鏡陣列和布置在所述場透鏡陣列和包括多個光瞳透鏡的所述多個反應區(qū)域之間的另外的光瞳透鏡陣列，其中所述場透鏡陣列包括場平面，并且所述光瞳透鏡陣列將位于所述場平面上的場點成像到位于所述反應區(qū)域的第二場平面上的場點。

4.根據(jù)權利要求1或2所述的儀器，其中所述光瞳面重合于所述反應區(qū)域。

5.根據(jù)權利要求1到4的任何一個所述的儀器，其中所述透鏡系統(tǒng)另外還包括布置在所述光源和所述場透鏡陣列之間的激發(fā)光物鏡。

6.根據(jù)權利要求1到5的任何一個所述的儀器，其中所述儀器另外包括用于向所述反應區(qū)域的頂端提供熱量的加熱蓋，所述加熱蓋包括與反應區(qū)域對齊的開口，以及其中所述物鏡系統(tǒng)布置在所述光源與所述反應區(qū)域之間，使得透射通過所述物鏡系統(tǒng)的光聚焦到接近于反應區(qū)域的加熱蓋側。

7.一種同時檢測包含在多個反應位點的至少一個中的至少一種分析物的方法，包括：

將所述分析物的任一個與包括染料的分子反應，

利用激發(fā)光束照射所述染料，

其中所述激發(fā)光束通過透鏡系統(tǒng)，所述透鏡系統(tǒng)包括布置在光源和多個反應區(qū)域之間的物鏡系統(tǒng)，所述物鏡系統(tǒng)包括場透鏡陣列和光瞳面，其中所述光瞳面和所述光源位于場透鏡陣列的相對側，其中所述場透鏡陣列被布置在所述光源與所述多個反應區(qū)域之間，所述場透鏡陣列包括多個場透鏡陣列元件，其中場透鏡陣列中的任意一個場透鏡陣列元件的曲率半徑、曲率中心的厚度和位置是可變的，并且布置在所述光源和所述反應區(qū)域之間的光束路徑中，從而所述場透鏡陣列元件的任何一個能夠將位于所述光源和所述場透鏡陣列之間的光瞳光圈成像到位于所述光瞳面上的光瞳，其中位于光瞳面上的光瞳的陣列由所述場透鏡陣列產生，

使用檢測器檢測由所述染料發(fā)射的發(fā)射光束，其中，所述發(fā)射光束通過所述物鏡系統(tǒng)，并且通過布置在所述物鏡系統(tǒng)和所述檢測器之間的發(fā)射光物鏡聚焦到所述檢測器。

8.一種利用激發(fā)光束照明多個空間隔開的區(qū)域的方法，包括

提供根據(jù)權利要求1到7的任何一個所述的儀器，

利用光源產生激發(fā)光束，

傳遞激發(fā)光束通過透鏡系統(tǒng)，其中在所述場透鏡陣列的場平面上聚焦的激發(fā)光的任一簇被分成至少兩個光束，

通過傳遞所述至少兩個光束通過所述光瞳透鏡陣列，將所述至少兩個光束定向到所述反應區(qū)域的場平面，從而照射包括在所述反應區(qū)域中的所述樣本，

傳遞發(fā)射光束通過所述物鏡系統(tǒng)從所述反應區(qū)域到所述檢測器。