[發(fā)明專利]晶圓承載裝置

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201310330151.9
• 申請(qǐng)日: 2013-07-31
• 公開（公告）號(hào): CN104347466A
• 公開（公告）日: 2015-02-11
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 王堅(jiān);金一諾;王暉
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 盛美半導(dǎo)體設(shè)備(上海)有限公司
• 主分類號(hào): H01L21/683
• 分類號(hào): H01L21/683
• 代理公司: 上海專利商標(biāo)事務(wù)所有限公司 31100
• 代理人: 陸嘉

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及集成電路器件制造裝置，尤其涉及一種晶圓承載裝置。

背景技術(shù)

在集成電路器件制造裝置中，晶圓承載裝置用于保持晶圓，以便對(duì)晶圓進(jìn)行工藝處理或僅供暫放晶圓。常見的晶圓承載裝置包括晶圓承載臺(tái)和支撐晶圓承載臺(tái)的承載臺(tái)支柱。以電化學(xué)拋光為例，電化學(xué)拋光腔室內(nèi)設(shè)置有晶圓承載裝置。進(jìn)行電化學(xué)拋光工藝時(shí)，機(jī)械手將待拋光晶圓放置在晶圓承載裝置的晶圓承載臺(tái)上，然后，真空夾盤夾持晶圓承載臺(tái)上的晶圓并將晶圓移至電化學(xué)拋光裝置處以進(jìn)行電化學(xué)拋光工藝。電化學(xué)拋光工藝結(jié)束后，真空夾盤將晶圓卸載在晶圓承載臺(tái)上，然后機(jī)械手從晶圓承載臺(tái)上取走晶圓。

這種常見的晶圓承載裝置在使用過程中存在的弊端如下：

晶圓電化學(xué)拋光工藝結(jié)束后，雖然晶圓有經(jīng)過高速旋轉(zhuǎn)甩干，但晶圓表面仍會(huì)殘留一些拋光液，如果不對(duì)這些殘留的拋光液進(jìn)行處理，殘留的拋光液容易在晶圓從電化學(xué)拋光腔室傳輸至清洗腔室過程中污染機(jī)械手和機(jī)械手所在的空間。而目前的晶圓承載裝置不具備處理晶圓表面殘留拋光液的功能。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明的目的是提供一種晶圓承載裝置，該晶圓承載裝置可以對(duì)晶圓進(jìn)行預(yù)清洗，以去除晶圓表面殘留的化學(xué)液。

為實(shí)現(xiàn)上述目的，本發(fā)明提出的晶圓承載裝置，包括：晶圓承載臺(tái)、支撐晶圓承載臺(tái)的承載臺(tái)支柱、設(shè)置在承載臺(tái)支柱內(nèi)的緩沖裝置和預(yù)清洗裝置。預(yù)清洗裝置包括：能豎直升降的防護(hù)罩、能豎直升降的噴頭及收集槽。防護(hù)罩設(shè)置在晶圓承載臺(tái)的外圍并環(huán)繞晶圓承載臺(tái)。噴頭設(shè)置在晶圓承載臺(tái)的中心軸上。收集槽具有底壁及自底壁向上延伸形成的側(cè)壁，收集槽的底壁及側(cè)壁圍成一空間以放置晶圓承載臺(tái)、承載臺(tái)支柱、緩沖裝置、防護(hù)罩及噴頭。

在一個(gè)實(shí)施例中，收集槽開設(shè)有排液口。

在一個(gè)實(shí)施例中，緩沖裝置為彈簧。

綜上所述，本發(fā)明晶圓承載裝置通過設(shè)置預(yù)清洗裝置，在晶圓卸載至晶圓承載臺(tái)之前，對(duì)晶圓進(jìn)行預(yù)清洗，去除晶圓表面殘留的化學(xué)液，避免殘留的化學(xué)液對(duì)已加工完成的晶圓產(chǎn)生腐蝕，及后續(xù)機(jī)械手取晶圓時(shí)，化學(xué)液污染機(jī)械手，從而提高晶圓加工質(zhì)量及延長機(jī)械手的使用壽命。

附圖說明

圖1揭示了根據(jù)本發(fā)明一實(shí)施例的晶圓承載裝置的剖面結(jié)構(gòu)示意圖。

圖2揭示了根據(jù)本發(fā)明一實(shí)施例的晶圓承載裝置的俯視圖。

圖3揭示了根據(jù)本發(fā)明一實(shí)施例的晶圓承載裝置預(yù)清洗晶圓的剖面結(jié)構(gòu)示意圖。

圖4揭示了根據(jù)本發(fā)明一實(shí)施例的晶圓承載裝置保持晶圓的剖面結(jié)構(gòu)示意圖。

具體實(shí)施方式

為詳細(xì)說明本發(fā)明的技術(shù)內(nèi)容、構(gòu)造特征、所達(dá)成目的及功效，下面將結(jié)合實(shí)施例并配合圖式予以詳細(xì)說明。

參閱圖1和圖2，揭示了根據(jù)本發(fā)明一實(shí)施例的晶圓承載裝置的剖面結(jié)構(gòu)示意圖以及俯視圖。該晶圓承載裝置100包括晶圓承載臺(tái)110及用于支撐晶圓承載臺(tái)110的數(shù)個(gè)承載臺(tái)支柱120，在本實(shí)施例中，雖然承載臺(tái)支柱120的數(shù)量為3個(gè)，但承載臺(tái)支柱120的數(shù)量并不僅限于3個(gè)。每個(gè)承載臺(tái)支柱120內(nèi)均設(shè)置有緩沖裝置130，具體地，該緩沖裝置130為彈簧。在支撐臺(tái)支柱120內(nèi)設(shè)置緩沖裝置130的目的是當(dāng)晶圓承載臺(tái)110承受較重負(fù)載時(shí)，緩沖裝置130可以起到緩沖作用，避免因負(fù)載過重導(dǎo)致晶圓承載臺(tái)110及放置晶圓承載臺(tái)110上的晶圓損壞。

晶圓承載裝置100還包括預(yù)清洗裝置，該預(yù)清洗裝置包括收集槽140、防護(hù)罩150及噴頭160。收集槽140具有底壁142及自底壁142向上延伸形成的側(cè)壁141。晶圓承載臺(tái)110、設(shè)置有緩沖裝置130的支撐臺(tái)支柱120、防護(hù)罩150及噴頭160設(shè)置在收集槽140的底壁142及側(cè)壁141圍成的空間內(nèi)。收集槽140的底壁142開設(shè)有排液口（圖中未示）。防護(hù)罩150及噴頭160均可豎直升降。防護(hù)罩150設(shè)置在晶圓承載臺(tái)110的外圍并環(huán)繞晶圓承載臺(tái)110。噴頭160設(shè)置在晶圓承載臺(tái)110的中心軸上。