[發(fā)明專利]線圈盤及其制造方法和具有該線圈盤的電磁爐

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201310329580.4
• 申請日: 2013-07-31
• 公開（公告）號: CN104349523A
• 公開（公告）日: 2015-02-11
• 發(fā)明（設計）人: 任玉潔;蒙劍友;韓平英
• 申請（專利權）人: 美的集團股份有限公司;佛山市順德區(qū)美的電熱電器制造有限公司
• 主分類號: H05B6/40
• 分類號: H05B6/40;H05B6/44;F24C7/06
• 代理公司: 北京清亦華知識產(chǎn)權代理事務所(普通合伙) 11201
• 代理人: 宋合成;黃德海

1.一種線圈盤，其特征在于，包括：

支架，所述支架上設有兩個以上繞線區(qū)；和

至少一個線圈，每個所述線圈包括兩個以上子線圈，兩個以上所述子線圈分別對應地設在兩個以上所述繞線區(qū)中的至少一部分內(nèi)，其中每個所述線圈的兩個以上所述子線圈中的至少一個的耦合電阻和/或耦合電感與每個所述線圈的兩個以上所述子線圈中的其余部分的耦合電阻和/或耦合電感不同。

2.根據(jù)權利要求1所述的線圈盤，其特征在于，每個所述線圈的兩個以上所述子線圈的耦合電阻和/或耦合電感彼此不同。

3.根據(jù)權利要求1所述的線圈盤，其特征在于，每個所述線圈的兩個以上所述子線圈中的至少兩個沿上下方向間隔開。

4.根據(jù)權利要求3所述的線圈盤，其特征在于，每個所述線圈的兩個以上所述子線圈沿上下方向間隔開。

5.根據(jù)權利要求1所述的線圈盤，其特征在于，每個所述線圈的兩個以上所述子線圈中的至少一個的繞制層數(shù)與每個所述線圈的兩個以上所述子線圈中的其余部分的繞制層數(shù)不同。

6.根據(jù)權利要求5所述的線圈盤，其特征在于，每個所述線圈的兩個以上所述子線圈的繞制層數(shù)彼此不同。

7.根據(jù)權利要求1所述的線圈盤，其特征在于，所述線圈為兩個以上，第一個所述繞線區(qū)內(nèi)的第一個所述線圈的子線圈的耦合電阻和/或耦合電感大于第二個所述繞線區(qū)內(nèi)的第一個所述線圈的子線圈的耦合電阻和/或耦合電感，第一個所述繞線區(qū)內(nèi)的第二個所述線圈的子線圈的耦合電阻和/或耦合電感小于第二個所述繞線區(qū)內(nèi)的第二個所述線圈的子線圈的耦合電阻和/或耦合電感。

8.根據(jù)權利要求7所述的線圈盤，其特征在于，所述繞線區(qū)為兩個，所述線圈為兩個且每個所述線圈包括兩個所述子線圈，每個所述線圈的兩個所述子線圈分別對應地設在兩個所述繞線區(qū)內(nèi)。其中第一個所述繞線區(qū)內(nèi)的第一個所述線圈的第一個所述子線圈的耦合電阻和/或耦合電感大于第二個所述繞線區(qū)內(nèi)的第一個所述線圈的第二個所述子線圈的耦合電阻和/或耦合電感，第一個所述繞線區(qū)內(nèi)的第二個所述線圈的第一個所述子線圈的耦合電阻和/或耦合電感小于第二個所述繞線區(qū)內(nèi)的第二個所述線圈的第二個所述子線圈的耦合電阻和/或耦合電感。

9.根據(jù)權利要求1所述的線圈盤，其特征在于，每個所述繞線區(qū)內(nèi)設有隔層且所述隔層位于相鄰兩個所述子線圈之間，其中兩個以上所述繞線區(qū)內(nèi)的所述隔層的高度彼此不同。

10.一種根據(jù)權利要求1-9中任一項所述的線圈盤的繞制方法，其特征在于，包括以下步驟：

A）在支架上設置兩個以上繞線區(qū)；和

B）將至少一個繞線繞制在兩個以上所述繞線區(qū)中的至少一部分內(nèi)以形成至少一個線圈。

11.根據(jù)權利要求10所述的繞制方法，其特征在于，所述步驟B）包括：

B-1）將一個繞線繞制在兩個以上所述繞線區(qū)中的一個內(nèi)以形成一個子線圈；

B-2）將所述一個繞線牽引至兩個以上所述繞線區(qū)中的另一個，并在兩個以上所述繞線區(qū)中的所述另一個內(nèi)進行繞制以形成另一個子線圈；

B-3）重復所述步驟B-2），直至將所述一個繞線繞制完畢；和

B-4）重復所述步驟B-1）、所述步驟B-2）和所述步驟B-3），直至將全部繞線繞制完畢。

12.根據(jù)權利要求10所述的繞制方法，其特征在于，所述步驟B）包括：

B-1）利用繞線在兩個以上所述繞線區(qū)中的一個內(nèi)繞制出一個子線圈；

B-2）利用繞線在兩個以上所述繞線區(qū)中的另一個內(nèi)繞制出另一個子線圈；

B-3）重復所述步驟B-2）以繞制出兩個以上所述子線圈，然后將兩個以上所述子線圈連接在一起以形成一個線圈；和

B-4）重復所述步驟B-1）、所述步驟B-2）和所述步驟B-3），直至將全部繞線繞制完畢。

13.一種電磁爐，其特征在于，包括根據(jù)權利要求1-9中任一項所述的線圈盤。