[發明專利]一種基于輻射標定的亞像素光學元件損傷在線檢測方法

有效

• 申請號: 201310328928.8
• 申請日: 2013-07-31
• 公開（公告）號: CN103389310A
• 公開（公告）日: 2013-11-13
• 發明（設計）人: 劉國棟;馮博;劉炳國;莊志濤;盧丙輝
• 申請（專利權）人: 哈爾濱工業大學
• 主分類號: G01N21/88
• 分類號: G01N21/88
• 代理公司: 哈爾濱市松花江專利商標事務所 23109
• 代理人: 楊立超

1.一種基于輻射標定的亞像素光學元件損傷在線檢測方法，其特征在于基于輻射標定的亞像素光學元件損傷在線檢測方法包括以下內容：

一、通過傳統在線檢測方法得到光學元件全部損傷區域的總灰度后，隨機抽取N個損傷區域，在離線檢測系統中得到損傷區域的準確尺寸，建立樣本集

D＝{(x₁，y₂)，....，(x_k，y_k)，....，(x_N，y_N)}，x_k，y_k∈R；其中x_k為在線圖像中各損傷區域的總灰度，y_k為損傷區域在高精度離線系統下獲得的高精度尺寸；

二、估算樣品集非離群點概率ε，通過式計算需要進行隨機抽樣的組數M；

三、從樣本集D中隨機抽取M組小樣本{W₁(x_1，1，y_1，1，...，x_1，I，y_1，I)，...，W_m(x_{m，1，}y_m，1，...，x_m，Iy_m，I)，...，W_M(x_M，1，y_M，1，...，x_M，I，y_M，I)}，W_m∈D；

四、將一定數量損傷區域的精確尺寸與損傷區域在線檢測方法得到光學元件全部損傷區域的總灰度作為樣本建立回歸模型，通過交叉驗證法建立一系列LSSVM回歸模型{f(W₁)，...，f(W_m)，...，f(W_M)}；

五、通過樣本集D，選取合適的誤差評價函數Z(x)逐一驗證回歸模型[f(W₁)，...，f(W_m)，...，f(W_M)}，得到誤差評價結果{Z(f(W₁))，...，Z(f(W_m))，...，Z(f(W_M))}；

其中，Z_min＝min{Z(f(W₁))，...，Z(f(W_m))，...，Z(f(W_M))}所對應的樣本集W_min即為一組無離群點樣本集，由該樣本集建立的回歸模型f(W_min)即為最優回歸模型；

六、在進行檢測該光學元件時，首先將檢測條件調整到與建模時相同，通過像素級檢測算法得到全部損傷區域的總灰度，帶入到第五步中的回歸模型f(W_min)中，即可得到全部損傷區域的高精度亞像素尺寸。

2.根據權利要求1所述的一種基于輻射標定的亞像素光學元件損傷在線檢測方法，其特征在于所述步驟二中非離群點概率ε的定義為：

樣本的ε一般無法得到確切值，但是可以通過對原始數據的分析得到其近似值，不同于一般RANSAC方法，用于建立LSSVM模型的最小樣本數I只與樣本質量有關，合適的I可通過實驗獲得。