[發(fā)明專利]一種條碼表面UV轉移鐳射消除工藝有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201310327648.5 | 申請日： | 2013-07-31 |
| 公開（公告）號： | CN103358738A | 公開（公告）日： | 2013-10-23 |
| 發(fā)明（設計）人： | 程斌;韓軍;李文莉;蘇元聰;金勝武;楊樞華;段新澤;雷幸格 | 申請（專利權）人： | 陜西金葉印務有限公司 |
| 主分類號： | B41M3/00 | 分類號： | B41M3/00 |
| 代理公司： | 西安新思維專利商標事務所有限公司 61114 | 代理人： | 李罡 |
| 地址： | 710061 *** | 國省代碼： | 陜西;61 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 條碼 表面 uv 轉移 鐳射 消除 工藝 | ||
【權利要求書】：
1.一種條碼表面UV轉移鐳射消除工藝，其特征在于：
由以下步驟實現(xiàn)：
步驟一：在含條碼的印刷產品進行UV鐳射轉移時，使用全幅面印刷，形成UV轉移鐳射表層；
步驟二：在UV轉移鐳射表層局部印刷水性光油，形成局部的水性光油表層，局部的水性光油表層可對光線進行漫反射，從而消除UV轉移鐳射表層的鐳射反射效果。
2.根據權利要求1所述的一種條碼表面UV轉移鐳射消除工藝，其特征在于：
步驟二中，局部上光采用單張紙凹版印刷機、水性光油進行加工，水性光油選用油墨，上光光油的厚度采用100線23μm。
3.根據權利要求2所述的一種條碼表面UV轉移鐳射消除工藝，其特征在于：
步驟二中，UV轉移鐳射表層上進行局部上光的上光面積小于鐳射面積，特指條碼框范圍的矩形。
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