[發明專利]冷卻裝置

在審

• 申請號: 201310326007.8
• 申請日: 2013-07-30
• 公開（公告）號: CN103898453A
• 公開（公告）日: 2014-07-02
• 發明（設計）人: 安田淳一;降矢新治;森本秀敏;増田行男
• 申請（專利權）人: 愛發科低溫泵株式會社
• 主分類號: C23C14/34
• 分類號: C23C14/34
• 代理公司: 北京英特普羅知識產權代理有限公司 11015
• 代理人: 齊永紅

技術領域

本發明涉及一種冷卻裝置,其具有冷凍機和由該冷凍機冷卻的冷卻面板,在配置有處理對象的處理室內使冷卻面板的主面接近或接觸處理對象從而冷卻處理對象。

背景技術

例如，在平板顯示器面板的制造步驟中，作為處理對象的玻璃基板被依次傳送到熱處理裝置、成膜裝置或干蝕刻裝置等各種真空處理裝置，并對該玻璃基板表面分別實施各種處理。此處，以成膜處理為例進行說明，成膜處理中通常使用濺鍍（以下稱為“濺射”）裝置，在濺射裝置中，將由保持裝置保持在真空處理室（下稱“處理室”）內的玻璃基板和根據要成膜的薄膜成分而形成的靶相對配置，在處理室內形成等離子氣氛使稀有氣體的離子向著靶加速碰撞，由此使產生的濺射粒子（靶原子）散射，附著、堆積到基板表面而成膜。濺射成膜時，由于濺射粒子與基板表面的碰撞或等離子體的輻射熱導致基板溫度上升。一旦基板溫度上升，則其特性因在基板表面形成的薄膜而變化，所以成膜中需要冷卻基板。以往，作為在處理室內冷卻基板的冷卻裝置，已知例如專利文獻1中的在緊密保持基板的臺架內設置使冷卻水循環的機構，通過和臺架的熱交換冷卻基板的裝置。

然而，將處理對象依次傳送到各種真空處理裝置進行各種處理時，由于各處理裝置的布局或處理對象品質管理等原因，有時傳送時的處理對象的姿勢和在各處理裝置上實施規定處理時的姿勢（在上述濺射裝置的例子中，是使玻璃基板的處理面與靶相對的姿勢）彼此不同。因此，對于分別包括在各種處理裝置內的冷卻裝置，近年來需要的是一種通用性高的產品，其具有在該處理裝置內對應處理對象的姿勢而改變姿勢，能更有效地使處理對象冷卻的結構。在這種情況下，如上述以往例，在使冷卻水循環通過緊密保持著處理對象的臺架的裝置上，需要的是即便在改變臺架的姿勢時冷卻水也不會漏出的結構，存在部件數量增加使裝置結構復雜化的問題。

現有技術文獻

專利文獻

專利文獻1專利公開2008－281958號公報

發明內容

發明要解決的技術問題

鑒于以上內容，本發明要解決的技術問題是提供一種具有通用性的冷卻裝置，其結構簡單，可根據處理對象的姿勢改變姿勢并有效地冷卻該處理對象。

解決技術問題的手段

為解決上述技術問題，本發明的冷卻裝置，其特征在于：具有冷凍機和由該冷凍機冷卻的冷卻面板，在配置有處理對象的處理室內使冷卻面板的主面接近或接觸處理對象冷卻處理對象，以冷卻面板的主面與處理對象接近或接觸時的冷卻面板的姿勢為第一姿勢，以冷卻面板的主面與處理對象分離時的冷卻面板的姿勢為第二姿勢，冷卻面板在第一姿勢和第二姿勢之間可自由擺動地設置在處理室內，并且冷卻面板是第一姿勢和第二姿勢中至少一種時，冷凍機的冷卻部與冷卻面板接觸通過熱傳遞使冷卻面板冷卻。

根據本發明的冷卻裝置，由冷卻面板和冷凍機構成，冷卻面板設置為可自由擺動，由于可根據在組裝本發明的冷卻裝置的各種真空處理室內的處理對象的姿勢來使冷卻面板擺動改變其姿勢，所以通用性高。而且，因為只要具有至少僅在冷卻面板改變姿勢時使冷凍機的冷卻部分回縮的結構即可，所以無需如上述以往例那樣，設置用于防止冷卻水泄漏的復雜結構，可簡化冷卻裝置自身的結構。另外，例如，也可以如下方式使用上述冷卻裝置，預先將本發明的冷卻裝置的冷卻面板設置在真空處理裝置內，直到將處理對象傳送到真空處理裝置內為止，將冷卻面板設置為不阻礙順暢傳送處理對象的姿勢，使處理對象保持傳送時的姿勢裝入真空處理裝置內后，即根據裝入真空處理裝置內的處理對象的姿勢，擺動冷卻面板變為使其主面與處理對象接近或接觸的姿勢。

此時，優選具有安裝有所述冷卻面板上的旋轉軸、驅動該旋轉軸旋轉的第一驅動裝置、以及驅動所述冷卻部相對所述冷卻面板自由進退的第二驅動裝置，采用由第一驅動裝置驅動旋轉軸旋轉，并且在冷卻面板分別采取第一姿勢和第二姿勢時由第二驅動裝置使冷卻部與冷卻面板接觸的結構。由此，可實現只在采取第一姿勢和第二姿勢中的一種姿勢時，冷卻面板由冷凍機可靠地冷卻的結構。