[發(fā)明專利]一種顯示基板及其制造方法、顯示裝置

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201310324992.9
• 申請日: 2013-07-30
• 公開（公告）號(hào): CN103399367A
• 公開（公告）日: 2013-11-20
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 郭磊;涂志中;申瑩;尹傛俊
• 申請（專利權(quán)）人: 合肥京東方光電科技有限公司;京東方科技集團(tuán)股份有限公司
• 主分類號(hào): G02B1/11
• 分類號(hào): G02B1/11
• 代理公司: 北京中博世達(dá)專利商標(biāo)代理有限公司 11274
• 代理人: 申健

1.一種顯示基板，包括襯底基板以及形成在所述襯底基板上的黑矩陣，其特征在于，所述顯示基板還包括：形成于所述襯底基板上的防反射結(jié)構(gòu)，所述防反射結(jié)構(gòu)包括多個(gè)第一凸?fàn)罱Y(jié)構(gòu)；

其中，所述第一凸?fàn)罱Y(jié)構(gòu)的位置與所述黑矩陣的位置相對應(yīng)。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示基板，其特征在于，

所述防反射結(jié)構(gòu)位于所述襯底基板和所述黑矩陣之間。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示基板，其特征在于，

所述顯示基板為彩膜基板，所述防反射結(jié)構(gòu)位于所述彩膜基板的遠(yuǎn)離所述黑矩陣的一側(cè)的表面。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示基板，其特征在于，所述第一凸?fàn)罱Y(jié)構(gòu)包括透明光刻膠層和/或透明樹脂層。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示基板，其特征在于，所述防反射結(jié)構(gòu)還包括所述第一凸?fàn)罱Y(jié)構(gòu)底部的膜材層，所述膜材層平鋪在所述襯底基板上，且位于所述第一凸?fàn)罱Y(jié)構(gòu)和所述襯底基板之間。

6.根據(jù)權(quán)利要求1-5所述的顯示基板，其特征在于，所述第一凸?fàn)罱Y(jié)構(gòu)的寬度以及相鄰的兩個(gè)所述第一凸?fàn)罱Y(jié)構(gòu)的間距均小于等于可見光的波長；

所述第一凸?fàn)罱Y(jié)構(gòu)的高度大于等于所述第一凸?fàn)罱Y(jié)構(gòu)的寬度。

7.根據(jù)權(quán)利要求1-5所述的顯示基板，其特征在于，所述防反射結(jié)構(gòu)還包括多個(gè)第二凸?fàn)罱Y(jié)構(gòu)，所述第二凸?fàn)罱Y(jié)構(gòu)位于所述黑矩陣對應(yīng)區(qū)域之外；且相鄰的所述第二凸?fàn)罱Y(jié)構(gòu)之間、相鄰的所述第一凸?fàn)罱Y(jié)構(gòu)和所述第二凸?fàn)罱Y(jié)構(gòu)之間的距離均小于等于可見光的波長。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的顯示基板，其特征在于，所述第二凸?fàn)罱Y(jié)構(gòu)包括：

涂覆于所述膜材層表面并通過掩膜板進(jìn)行曝光顯影和刻蝕工藝處理形成的所述透明光刻膠層和/或所述透明樹脂層。

9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的顯示基板，其特征在于，所述膜材層的材料為透明光刻膠或透明樹脂。

10.一種顯示裝置，其特征在于，包括如權(quán)利要求1-9任一所述顯示基板。

11.一種顯示基板的制造方法，所述顯示基板包括襯底基板以及形成在所述襯底基板上的黑矩陣，其特征在于，所述方法包括：

在所述襯底基板上形成防反射結(jié)構(gòu)，所述防反射結(jié)構(gòu)包括多個(gè)第一凸?fàn)罱Y(jié)構(gòu)；

其中，所述第一凸?fàn)罱Y(jié)構(gòu)的位置與所述黑矩陣的位置相對應(yīng)。

12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的制造方法，其特征在于，在所述襯底基板與所述黑矩陣之間制作所述防反射結(jié)構(gòu)。

13.根據(jù)權(quán)利要求11所述的制造方法，其特征在于，所述顯示基板為彩膜基板，在所述彩膜基板的遠(yuǎn)離所述黑矩陣的一側(cè)的表面制作所述防反射結(jié)構(gòu)。

14.根據(jù)權(quán)利要求11所述的制造方法，其特征在于，所述第一凸?fàn)罱Y(jié)構(gòu)包括透明光刻膠層和/或透明樹脂層。

15.根據(jù)權(quán)利要求11所述的制造方法，其特征在于，

在所述第一凸?fàn)罱Y(jié)構(gòu)和所述襯底基板之間形成平鋪于所述襯底基板上的膜材層；

其中，所述防反射結(jié)構(gòu)還包括所述膜材層。

16.根據(jù)權(quán)利要求11-15所述的制造方法，其特征在于，所述第一凸?fàn)罱Y(jié)構(gòu)的寬度以及相鄰的兩個(gè)所述第一凸?fàn)罱Y(jié)構(gòu)的間距均小于等于可見光的波長；

所述第一凸?fàn)罱Y(jié)構(gòu)的高度大于等于所述凸?fàn)罱Y(jié)構(gòu)的寬度。

17.根據(jù)權(quán)利要求11-15所述的制造方法，其特征在于，

在所述黑矩陣對應(yīng)區(qū)域之外制作多個(gè)第二凸?fàn)罱Y(jié)構(gòu)，且相鄰的所述第二凸?fàn)罱Y(jié)構(gòu)之間、相鄰的所述第一凸?fàn)罱Y(jié)構(gòu)和所述第二凸?fàn)罱Y(jié)構(gòu)之間的距離均小于等于可見光的波長；

其中，所述防反射結(jié)構(gòu)還包括所述多個(gè)第二凸?fàn)罱Y(jié)構(gòu)。

18.根據(jù)權(quán)利要求17所述的制造方法，其特征在于，所述第二凸?fàn)罱Y(jié)構(gòu)包括：

涂覆于所述膜材層表面并通過掩膜板進(jìn)行曝光顯影和刻蝕工藝處理形成的所述透明光刻膠層和/或所述透明樹脂層。

19.根據(jù)權(quán)利要求18所述的制造方法，其特征在于，所述膜材層的材料為透明光刻膠或透明樹脂。