[發(fā)明專利]利用標(biāo)準(zhǔn)輻射溫度計(jì)測量高溫表面溫度均勻性的方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201310320862.8 | 申請(qǐng)日: | 2013-07-26 |
| 公開(公告)號(hào): | CN103411685A | 公開(公告)日: | 2013-11-27 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 張俊祺;孫富韜;王文革;張曉菲;趙化業(yè) | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 北京航天計(jì)量測試技術(shù)研究所;中國運(yùn)載火箭技術(shù)研究院 |
| 主分類號(hào): | G01J5/52 | 分類號(hào): | G01J5/52 |
| 代理公司: | 核工業(yè)專利中心 11007 | 代理人: | 莫丹 |
| 地址: | 100076 *** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 利用 標(biāo)準(zhǔn) 輻射 溫度計(jì) 測量 高溫 表面溫度 均勻 方法 | ||
1.一種利用標(biāo)準(zhǔn)輻射溫度計(jì)測量高溫表面溫度均勻性的方法,其特征在于,該方法包括如下步驟:
(1)在被測物體表面噴涂上黑色、發(fā)射率大于0.88的涂料,涂層厚度控制在0.05~0.1mm;
(2)待步驟(1)所述的涂料干燥后,加熱被測物體至500~1000℃,保持溫度30min以上,采用光譜發(fā)射率測量儀測得涂料的發(fā)射率數(shù)據(jù)ε,測量發(fā)射率的準(zhǔn)確度<0.01;
(3)在步驟(2)測量后穩(wěn)定10min以上,采用可調(diào)發(fā)射率參數(shù)的標(biāo)準(zhǔn)輻射溫度計(jì)進(jìn)行測量,測量前先調(diào)節(jié)標(biāo)準(zhǔn)輻射溫度計(jì)發(fā)射率參數(shù)為ε,以抑制發(fā)射率對(duì)表面溫度測量的影響,然后開始測量被測物體表面溫度T:
在被測物體表面選取5~9個(gè)位置,分別測量這些位置處的溫度值T1~T5,記錄最大值為Tmax,溫度最小值為Tmin,計(jì)算被測物體表面溫度均勻性為Tmax-Tmin。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種利用標(biāo)準(zhǔn)輻射溫度計(jì)測量高溫表面溫度均勻性的方法,其特征在于,所述的高溫表面的溫度上限為1000℃。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種利用標(biāo)準(zhǔn)輻射溫度計(jì)測量高溫表面溫度均勻性的方法,其特征在于,所述的涂料為意大利OMP公司的黑色高發(fā)射率涂料。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種利用標(biāo)準(zhǔn)輻射溫度計(jì)測量高溫表面溫度均勻性的方法,其特征在于,所述的光譜發(fā)射率測量儀為美國ET公司的ET100光譜發(fā)射率測量儀。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種利用標(biāo)準(zhǔn)輻射溫度計(jì)測量高溫表面溫度均勻性的方法,其特征在于,所述的標(biāo)準(zhǔn)輻射溫度計(jì)為德國斯圖加特大學(xué)的LP5標(biāo)準(zhǔn)輻射溫度計(jì)。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于北京航天計(jì)量測試技術(shù)研究所;中國運(yùn)載火箭技術(shù)研究院,未經(jīng)北京航天計(jì)量測試技術(shù)研究所;中國運(yùn)載火箭技術(shù)研究院許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
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