[發(fā)明專(zhuān)利]三元鎢硼氮薄膜及其形成方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201310320848.8 | 申請(qǐng)日： | 2013-07-26 |
| 公開(kāi)（公告）號(hào)： | CN103579184B | 公開(kāi)（公告）日： | 2017-04-12 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 雷威;高舉文 | 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人： | 朗姆研究公司 |
| 主分類(lèi)號(hào)： | H01L23/532 | 分類(lèi)號(hào)： | H01L23/532;H01L21/768 |
| 代理公司： | 上海勝康律師事務(wù)所31263 | 代理人： | 李獻(xiàn)忠 |
| 地址： | 美國(guó)加利*** | 國(guó)省代碼： | 暫無(wú)信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 三元 鎢硼氮 薄膜 及其 形成 方法 | ||
1.一種方法，其包括：
執(zhí)行循序地引入含硼反應(yīng)物、含氮反應(yīng)物和含鎢反應(yīng)物的脈沖進(jìn)入容納襯底的反應(yīng)室的多個(gè)循環(huán)，從而沉積三元鎢硼氮膜至所述襯底，其中所述含硼反應(yīng)物的脈沖數(shù)與含鎢前體的脈沖數(shù)之比至少為三。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中，每個(gè)循環(huán)包括多個(gè)循序的交替的含硼反應(yīng)物和含氮反應(yīng)物的脈沖而沒(méi)有任何中間的含鎢反應(yīng)物的脈沖的子循環(huán)。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中，每個(gè)循環(huán)包括多個(gè)循序的含硼反應(yīng)物的脈沖而沒(méi)有任何中間的含氮或含鎢反應(yīng)物的脈沖。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中，所述襯底在暴露于任何含鎢反應(yīng)物的脈沖之前，暴露于含硼反應(yīng)物的脈沖。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中，所述襯底在暴露于任何含硼反應(yīng)物和含氮反應(yīng)物的脈沖之前，暴露于含鎢反應(yīng)物的脈沖。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中，所述三元鎢硼氮膜被沉積在氧化物上。
7.根據(jù)權(quán)利要求1-6中的任何一項(xiàng)所述的方法，其中，每個(gè)循環(huán)包括在任何兩個(gè)循序的含硼反應(yīng)物的脈沖之間的清除氣體脈沖。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的方法，其中，含硼反應(yīng)物的脈沖具有第一持續(xù)時(shí)間，直接接著所述含硼反應(yīng)物的脈沖的清除氣體脈沖具有第二持續(xù)時(shí)間，且所述第二持續(xù)時(shí)間與所述第一持續(xù)時(shí)間的比率為至少約5。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的方法，其中，所述比率為至少約10。
10.根據(jù)權(quán)利要求1-6中的任何一項(xiàng)所述的方法，其中，所述三元鎢硼氮膜中的鎢的原子百分比介于約5％和70％之間，其中，所述三元鎢硼氮膜中的硼的原子百分比介于約5％和60％之間，所述三元鎢硼氮膜中的氮的原子百分比介于約20％和80％之間。
11.根據(jù)權(quán)利要求1-6中的任何一項(xiàng)所述的方法，其還包括在溫度為至少約750℃將所述三元鎢硼氮膜退火。
12.根據(jù)權(quán)利要求1-6中的任何一項(xiàng)所述的方法，其還包括在所述三元鎢硼氮膜上沉積鎢成核層。
13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的方法，其中，通過(guò)引入交替的含硼和含鎢反應(yīng)物的脈沖至容納所述襯底的室來(lái)沉積所述鎢成核層。
14.根據(jù)權(quán)利要求13所述的方法，其中，在介于約250℃和350℃之間的溫度沉積所述鎢成核層。
15.一種裝置，其包括：
反應(yīng)室；
在所述反應(yīng)室中的襯底支撐件；
配置成傳輸氣體至所述反應(yīng)室的一個(gè)或多個(gè)氣體入口；以及
控制器，其包括機(jī)器可讀指令，所述指令包括用于執(zhí)行循序地引入含硼反應(yīng)物、含氮反應(yīng)物和含鎢反應(yīng)物的脈沖進(jìn)入容納襯底的反應(yīng)室的多個(gè)循環(huán)的指令，從而沉積三元鎢硼氮膜至所述襯底，其中所述含硼反應(yīng)物的脈沖數(shù)與含鎢前體的脈沖數(shù)的比率至少為三。
16.一種三元鎢硼氮膜，其具有介于約5％和70％之間的鎢的原子百分比，介于約5％和60％之間的硼的原子百分比，介于約20％和80％之間的氮的原子百分比。
17.根據(jù)權(quán)利要求16所述的三元鎢硼氮膜，其中，鎢的所述原子百分比介于約15％和50％之間，硼的所述原子百分比介于約15％和50％之間，氮的所述原子百分比介于約20％和50％之間。
18.根據(jù)權(quán)利要求16所述的三元鎢硼氮膜，其中，所述三元鎢硼氮膜是用于相變存儲(chǔ)器單元的加熱器元件。
19.根據(jù)權(quán)利要求16所述的三元鎢硼氮膜，其中，所述三元鎢硼氮膜是用于鎢通孔的阻擋層。
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