[發明專利]漿料的濃度測量用器具及漿料的濃度的測量方法

有效

• 申請號: 201310320669.4
• 申請日: 2013-07-26
• 公開（公告）號: CN103575627B
• 公開（公告）日: 2017-04-12
• 發明（設計）人: 鈴木幸徳;日比野一路;平塚陽一郎
• 申請（專利權）人: 新東工業株式會社
• 主分類號: G01N15/06
• 分類號: G01N15/06
• 代理公司: 北京林達劉知識產權代理事務所(普通合伙)11277
• 代理人: 劉新宇,張會華

1.一種漿料的濃度測量用器具，其用于測量與高壓氣體一起自濕式噴砂加工裝置的噴嘴噴射的、噴射材料分散在液體中而成的漿料的濃度，其特征在于，

該漿料的濃度測量用器具包括：

濃度測量容器，其具有用于將上述漿料導入內部的開口部；以及

開閉構件，其一端連接于上述濃度測量容器的開口部，該開閉構件具有用于對供自上述噴嘴噴射出的漿料通過的路徑進行開閉的機構，

在上述濃度測量容器上設有用于將自噴嘴噴射出的高壓氣體排出的排氣部。

2.根據權利要求1所述的漿料的濃度測量用器具，其中，

該漿料的濃度測量用器具還包括：

導入構件，其為中空狀，一端連接于上述開閉構件的另一端，用于將上述漿料導入上述開閉構件，該導入構件以在其上述一端的外周與上述開閉構件的另一端的內周之間設有間隙的方式連接于上述開閉構件；以及

連結構件，其用于將上述導入構件的另一端和上述噴嘴的噴射口連結起來。

3.根據權利要求1或2所述的漿料的濃度測量用器具，其特征在于，

在上述濃度測量容器的開口部連結有用于對被導入到該濃度測量容器的內部的漿料的流動進行整流的整流構件。

4.根據權利要求1或2所述的漿料的濃度測量用器具，其特征在于，

在上述濃度測量容器的內部配置有用于防止被導入的漿料彈回的防飛散構件。

5.根據權利要求1或2所述的漿料的濃度測量用器具，其特征在于，

上述漿料中的噴射材料的沉淀速度為0.20mm/sec～200mm/sec。

6.一種漿料的濃度的測量方法，其使用權利要求1～5中任一項所述的漿料的濃度測量用器具，其特征在于，

該漿料的濃度的測量方法包括：

封閉上述開閉構件的路徑的工序；

向上述噴嘴輸送漿料的工序；

向上述噴嘴導入高壓氣體，并且將上述漿料和高壓氣體混合而形成為固氣液三相流并自該噴嘴噴射固氣液三相流的工序；

自噴射上述固氣液三相流起經過規定時間之后，開放上述開閉構件的上述路徑的工序；

利用上述濃度測量容器收集上述漿料，并且利用上述排氣部將與上述漿料一起流入到該濃度測量容器的高壓氣體排出的工序；以及

使用由上述濃度測量容器收集到的漿料來求得漿料的濃度的工序。

7.根據權利要求6所述的漿料的濃度的測量方法，其特征在于，

在將上述漿料與高壓氣體混合而形成為固氣液三相流并自該噴嘴噴射固氣液三相流的工序中，在自上述噴嘴噴射的固氣液三相流到達上述開閉構件為止的期間內，使該固氣液三相流的速度減慢。

8.根據權利要求6或7所述的漿料的濃度的測量方法，其特征在于，

在求得上述漿料的濃度的工序中，測量利用上述濃度測量容器收集到的漿料和噴射材料的質量或體積中的至少任一者，根據測量結果計算漿料的濃度。

9.根據權利要求8所述的漿料的濃度的測量方法，其特征在于，

求得上述漿料的濃度的工序包括：測量在上述開閉構件的路徑封閉的期間內堆積在上述開閉構件處的漿料的質量或體積中的至少任一者的初期測量工序；以及測量堆積在上述開閉構件處的漿料和自上述噴嘴噴射了規定時間的漿料的質量或體積中的至少任一者的穩定期測量工序，

利用在上述初期測量工序和穩定期測量工序中測量出的值來計算自噴嘴噴射的漿料的濃度。