[發明專利]壓力緩沖設備和懸掛設備有效
| 申請號: | 201310320219.5 | 申請日: | 2013-07-26 |
| 公開(公告)號: | CN103836108B | 公開(公告)日: | 2016-11-23 |
| 發明(設計)人: | 遠藤裕 | 申請(專利權)人: | 株式會社昭和 |
| 主分類號: | F16F9/348 | 分類號: | F16F9/348 |
| 代理公司: | 北京奉思知識產權代理有限公司 11464 | 代理人: | 吳立;鄒軼鮫 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 壓力 緩沖 設備 懸掛 | ||
1.一種壓力緩沖設備,包括:
缸體,該缸體被配置成存儲液體;
分隔構件,該分隔構件被配置成將所述缸體內的空間分隔成用于存儲所述液體的第一液體腔和第二液體腔;
通道部,該通道部被配置成形成從所述第二液體腔到所述第一液體腔的液體通道;
放開和阻斷部,該放開和阻斷部被配置成放開和阻斷經由所述通道部從所述第二液體腔流向所述第一液體腔的液體流;
第一空間形成部,該第一空間形成部與所述放開和阻斷部的一側相對,并且被配置成形成用于接收所述液體的流入的空間;
第二空間形成部,該第二空間形成部與所述放開和阻斷部的另一側相對,并且被配置成形成用于接收所述液體的流入的空間;
連接至所述通道部的第一流入部,該第一流入部被配置成形成所述液體從所述通道部到所述第一空間形成部的流入路徑,并且具有比所述通道部的通道截面積小的通道截面積;以及
連接至所述通道部的第二流入部,該第二流入部被配置成形成液體從所述通道部到所述第二空間形成部的流入路徑,并且具有比所述第一流入部的通道截面積大且比所述通道部的通道截面積小的通道截面積。
2.如權利要求1所述的壓力緩沖設備,其中:
所述分隔構件包括連通通道,該連通通道被配置成允許所述液體在所述第一液體腔與所述第二液體腔之間的流動;
所述壓力緩沖設備進一步包括桿構件,該桿構件為棒狀構件;
所述桿構件被配置成保持所述分隔構件在軸向上的一端側并在軸向上運動;并且
所述通道部形成在所述桿構件中。
3.如權利要求1或2所述的壓力緩沖設備,進一步包括:
對向構件,該對向構件設置成與所述放開和阻斷部相對;
其中,所述第二流入部是由設置在所述對向構件中的切口配置而成,并且所述第二流入部形成為連接所述通道部和所述第二空間形成部。
4.如權利要求1或2所述的壓力緩沖設備,進一步包括:
對向構件,該對向構件設置成與所述放開和阻斷部相對;
其中,所述第二流入部是由設置在所述對向構件中的孔配置而成,并且所述第二流入部形成為連接所述通道部和所述第二空間形成部。
5.一種懸掛設備,包括:
彈簧,該彈簧被配置成減小振動和沖擊;以及
壓力緩沖設備,該壓力緩沖設備被配置成通過所述彈簧來衰減振動;
其中,所述壓力緩沖設備包括:
缸體,該缸體被配置成存儲液體;
分隔構件,該分隔構件被配置成將所述缸體內的空間分隔成用于存儲所述液體的第一液體腔和第二液體腔;
通道部,該通道部被配置成形成從所述第二液體腔到所述第一液體腔的液體通道;
放開和阻斷部,該放開和阻斷部被配置成放開和阻斷經由所述通道部從所述第二液體腔流向所述第一液體腔的液體流;
第一空間形成部,該第一空間形成部與所述放開和阻斷部的一側相對,并且被配置成形成用于接收所述液體的流入的空間;
第二空間形成部,該第二空間形成部與所述放開和阻斷部的另一側相對,并且被配置成形成用于接收所述液體的流入的空間;
連接至所述通道部的第一流入部,該第一流入部被配置成形成所述液體從所述通道部到所述第一空間形成部的流入路徑,并且具有比所述通道部的通道截面積小的通道截面積;以及
連接至所述通道部的第二流入部,該第二流入部被配置成形成液體從所述通道部到所述第二空間形成部的流入路徑,并且具有比所述第一流入部的通道截面積大且比所述通道部的通道截面積小的通道截面積。
6.如權利要求5所述的懸掛設備,其中:
所述分隔構件包括連通通道,該連通通道被配置成允許所述液體在所述第一液體腔與所述第二液體腔之間的流動;
所述壓力緩沖設備進一步包括桿構件,該桿構件為棒狀構件;
所述桿構件被配置成保持所述分隔構件在軸向上的一端側并在軸向上運動;并且
所述通道部形成在所述桿構件中。
7.如權利要求5或6所述的懸掛設備,進一步包括:
對向構件,該對向構件設置成與所述放開和阻斷部相對;
其中,所述第二流入部是由設置在所述對向構件中的切口配置而成,并且所述第二流入部形成為連接所述通道部和所述第二空間形成部。
8.如權利要求5或6所述的懸掛設備,進一步包括:
對向構件,該對向構件設置成與所述放開和阻斷部相對;
其中,所述第二流入部是由設置在所述對向構件中的孔配置而成,并且所述第二流入部形成為連接所述通道部和所述第二空間形成部。
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