[發明專利]一種耐磨抗蝕Ni-P/TiAlN梯度鍍層及其制備方法有效
| 申請號: | 201310320128.1 | 申請日: | 2013-07-26 |
| 公開(公告)號: | CN103436867A | 公開(公告)日: | 2013-12-11 |
| 發明(設計)人: | 周宏明;高志成 | 申請(專利權)人: | 中南大學;清遠市新日特殊鋼帶制品有限公司 |
| 主分類號: | C23C18/32 | 分類號: | C23C18/32;C23C18/18 |
| 代理公司: | 長沙市融智專利事務所 43114 | 代理人: | 顏勇 |
| 地址: | 410083 湖南*** | 國省代碼: | 湖南;43 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 耐磨 ni tialn 梯度 鍍層 及其 制備 方法 | ||
1.一種耐磨抗蝕Ni-P/TiAlN梯度鍍層,其特征在于:以質量百分比計包括下述組分:
Ni?80-84%;
P?9-12%;
TiAlN?1-10%;
TiAlN在鍍層中呈梯度分布;TiAlN的濃度沿垂直于基體與鍍層交界面的方向遞減。
2.一種制備如權利要求1所述的耐磨抗蝕Ni-P/TiAlN梯度鍍層的方法,其特征在于:
將經過表面預處理的基材浸入鍍液中,先在基材表面鍍一層5-10μm厚的鎳磷合金,然后向鍍液中添加改性納米TiAlN粉末,控制改性納米TiAlN粉末在鍍液中的初始濃度為1-15g/L,每施鍍10-30min后,加入改性納米TiAlN粉末,使改性TiAlN粉末的濃度提高1-5g/L,直至得到具有所需厚度鍍層的鍍件;
所述鍍液以質量濃度計包括下述組分:硫酸鎳25-30g/L、次亞磷酸鈉35-44g/L、醋酸鈉12-18g/L、乳酸21.5-26.6g/L、檸檬酸7.5-10.5g/L、硫脲3-6mg/L;
所述改性納米TiAlN粉末為包覆有鎳的TiAlN粉末,鎳的包覆厚度為2-3μm;
施鍍時,裝載量為0.8-1.2dm2/L,溫度為85-95℃,pH值為4.8-5.1;施鍍的總時間為60-180min。
3.根據權利要求2所述的一種耐磨抗蝕Ni-P/TiAlN梯度鍍層的制備方法,其特征在于:將具有所需厚度鍍層的鍍件浸入SiO2溶膠1-5min,使其充分潤濕Ni-P/TiAlN鍍層表面,取出鍍件,經25-40℃下風干處理12-36h后在280-320℃恒溫熱處理15-30min,得到封孔處理的鍍件。
4.根據權利要求3所述的一種耐磨抗蝕Ni-P/TiAlN梯度鍍層的制備方法,其特征在于:將封孔處理后的鍍件以速率2-5℃/min升溫至400-420℃,恒溫處理0.5h-1.5h后,取出樣品空冷,得到成品。
5.根據權利要求2所述的一種耐磨抗蝕Ni-P/TiAlN梯度鍍層的制備方法,其特征在于:基材為油墨刮刀。
6.根據權利要求5所述的一種耐磨抗蝕Ni-P/TiAlN梯度鍍層的制備方法,其特征在于:基材表面處理是將基材進行除油、除銹、活化處理;
除油是通過堿浸實現的,除油所用堿液以質量濃度計包括:48-52g/L?NaOH、4-6g/L?NaSiO3、28-32g/L?NaCO3,堿浸的溫度為70-85℃,堿浸的時間為30-60min;堿浸后用去離子水清洗;
除銹是通過酸浸實現的,除銹所用酸液為15-20v%的HCl,酸浸的時間為20-60s,酸浸后用去離子水清洗;
活化是將除油、除銹的基材放入濃度為5-10v%的HCl浸泡8-15s;活化后的基材用去離子水沖洗干凈,待鍍。
7.根據權利要求2所述的一種耐磨抗蝕Ni-P/TiAlN梯度鍍層的制備方法,其特征在于:
改性納米TiAlN粉末是通過下述步驟制備的:
步驟一粗化
將納米TiAlN粉末浸入濃度為8-12wt%的NH4F溶液中,在室溫下電磁磁力攪拌20-30min后,離心分離;
步驟二敏化
將粗化后的粉末放在10-11g/L?SnCl2和4-5g/L?HCl溶液中,室溫下電磁磁力攪拌3-8min,離心分離;
步驟三活化
將敏化后的粉末放在0.4-0.6g/L?PdCl2和20-22ml/L?HCl活化液中,室溫下電磁磁力攪拌3-8min,離心分離后烘干;
步驟四包覆
將活化后的粉末放入改性液中進行包覆,得到包覆有2-3μm厚鎳層的TiAlN粉末;所述改性液以質量濃度計包括下述組分:硫酸鎳25-30g/L、水合肼82.5-134.5g/L、酒石酸鈉15-20g/L、EDTA二鈉7-9.1g/L;改性時,裝載量為4.0-15g/L,改性液的pH值為11-12、溫度為85-95℃。
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C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴散法,化學轉化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C18-00 通過液態化合物分解抑或覆層形成化合物溶液分解、且覆層中不留存表面材料反應產物的化學鍍覆
C23C18-02 .熱分解法
C23C18-14 .輻射分解法,例如光分解、粒子輻射
C23C18-16 .還原法或置換法,例如無電流鍍
C23C18-54 .接觸鍍,即無電流化學鍍
C23C18-18 ..待鍍材料的預處理





