[發(fā)明專利]顯示裝置和其制造方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201310319535.0 | 申請日: | 2013-07-26 |
| 公開(公告)號: | CN103579291A | 公開(公告)日: | 2014-02-12 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 佐藤敏浩;豐田裕訓(xùn) | 申請(專利權(quán))人: | 株式會社日本顯示器 |
| 主分類號: | H01L27/32 | 分類號: | H01L27/32;H01L51/52;H01L21/77 |
| 代理公司: | 北京尚誠知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11322 | 代理人: | 邸萬杰 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 顯示裝置 制造 方法 | ||
1.一種顯示裝置,其由第一基板和第二基板貼合而成,該第一基板與多個(gè)像素分別對應(yīng)地形成有發(fā)光元件,該第二基板與所述多個(gè)像素分別對應(yīng)地配置有彩色濾光部,所述顯示裝置的特征在于:
所述第二基板包括:
疊層于所述彩色濾光部的保護(hù)膜;和
通過對疊層在所述保護(hù)膜上的遮光膜進(jìn)行圖案化而形成,并且沿著所述像素的邊界配置的遮光部件,其中
所述彩色濾光部形成沿著所述像素的邊界將所述彩色濾光部間分離的分離槽,
所述遮光部件覆蓋所述分離槽的內(nèi)表面和所述彩色濾光部的上表面的一部分。
2.如權(quán)利要求1所述的顯示裝置,其特征在于:
所述分離槽分別將多個(gè)所述彩色濾光部和所述保護(hù)膜沿著所述像素的邊界在所述彩色濾光部間分離,
所述遮光部件覆蓋所述分離槽的內(nèi)表面和所述彩色濾光部的上表面的周緣部。
3.如權(quán)利要求2所述的顯示裝置,其特征在于:
所述保護(hù)膜有選擇地配置在所述彩色濾光部的上表面,
所述遮光部件在所述周緣部具有與所述保護(hù)膜重疊的部分。
4.如權(quán)利要求2或3所述的顯示裝置,其特征在于:
在所述像素的排列中包含在所述第二基板上沒有配置所述彩色濾光部的無濾光部像素,
在所述像素的邊界中與所述無濾光部像素相接的部分,所述遮光部件覆蓋所述彩色濾光部的側(cè)面和上表面的邊緣部。
5.如權(quán)利要求1~3中的任一項(xiàng)所述的顯示裝置,其特征在于:
在所述第一基板設(shè)置將所述多個(gè)發(fā)光元件的相互之間分離的像素分離區(qū)域,
所述遮光部件具有與所述像素分離區(qū)域?qū)?yīng)的平面形狀。
6.如權(quán)利要求1~3中的任一項(xiàng)所述的顯示裝置,其特征在于:
所述保護(hù)膜由能夠耐受將所述遮光膜圖案化的處理的材料構(gòu)成。
7.一種顯示裝置的制造方法,其特征在于,包括:
與多個(gè)像素分別對應(yīng)地在第一基板上形成發(fā)光元件的發(fā)光元件形成工序;
與所述多個(gè)像素分別對應(yīng)地在第二基板上形成彩色濾光部的彩色濾光部形成工序;
在所述彩色濾光部上疊層保護(hù)膜的保護(hù)膜疊層工序;
在所述保護(hù)膜上疊層遮光膜的遮光膜疊層工序;
在利用所述保護(hù)膜保護(hù)所述彩色濾光部的同時(shí)將所述遮光膜圖案化,形成由沿著所述像素的邊界有選擇地殘留的所述遮光膜構(gòu)成的遮光部件的遮光部件形成工序;和
將經(jīng)過所述發(fā)光元件形成工序后的所述第一基板和經(jīng)過所述遮光部件形成工序后的所述第二基板相對貼合的貼合工序。
8.如權(quán)利要求7所述的顯示裝置的制造方法,其特征在于:
在所述保護(hù)膜疊層工序與所述遮光膜疊層工序之間,具有通過蝕刻處理將所述保護(hù)膜和所述彩色濾光部從沿著所述像素的邊界的區(qū)域除去而形成將所述彩色濾光部間分離的分離槽的分離槽形成工序,
所述遮光部件形成工序形成所述遮光部件,該遮光部件具有與在所述分離槽形成工序中有選擇地殘留在所述彩色濾光部的上表面的所述保護(hù)膜的周緣部重疊的部分,并且覆蓋所述分離槽的內(nèi)表面。
9.如權(quán)利要求7所述的顯示裝置的制造方法,其特征在于:
所述彩色濾光部形成工序包括通過蝕刻處理將所述彩色濾光部從沿著所述像素的邊界的區(qū)域除去而形成將所述彩色濾光部間分離的分離槽的分離槽形成工序,
所述遮光部件形成工序形成所述遮光部件,該遮光部件覆蓋疊層所述保護(hù)膜后的所述分離槽的內(nèi)表面,并且在所述彩色濾光部的上表面的周緣部具有與所述保護(hù)膜重疊的部分。
10.如權(quán)利要求8或9所述的顯示裝置的制造方法,其特征在于:
所述顯示裝置在所述像素的排列中包括在所述第二基板上沒有配置所述彩色濾光部的無濾光部像素,
所述遮光部件形成工序形成所述遮光部件,該遮光部件在所述像素的邊界中與所述無濾光部像素相接的部分,覆蓋所述彩色濾光部的側(cè)面和上表面的邊緣部。
11.如權(quán)利要求7~9中的任一項(xiàng)所述的顯示裝置的制造方法,其特征在于:
所述發(fā)光元件形成工序在所述多個(gè)發(fā)光元件的相互之間設(shè)置像素分離區(qū)域,將該多個(gè)發(fā)光元件相互分離地配置,
所述遮光部件形成工序形成具有與所述像素分離區(qū)域?qū)?yīng)的平面形狀的所述遮光部件。
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L27-00 由在一個(gè)共用襯底內(nèi)或其上形成的多個(gè)半導(dǎo)體或其他固態(tài)組件組成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共絕緣襯底上形成的無源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有專門適用于整流、振蕩、放大或切換的半導(dǎo)體組件并且至少有一個(gè)電位躍變勢壘或者表面勢壘的;包括至少有一個(gè)躍變勢壘或者表面勢壘的無源集成電路單元的
H01L27-14 . 包括有對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射或者微粒子輻射并且專門適用于把這樣的輻射能轉(zhuǎn)換為電能的,或適用于通過這樣的輻射控制電能的半導(dǎo)體組件的
H01L27-15 .包括專門適用于光發(fā)射并且包括至少有一個(gè)電位躍變勢壘或者表面勢壘的半導(dǎo)體組件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料結(jié)點(diǎn)的熱電元件的;包括有熱磁組件的





