[發明專利]一種處理銅/銅阻擋層拋光液的廢液的方法

無效

• 申請號: 201310319470.X
• 申請日: 2013-07-26
• 公開（公告）號: CN104341046A
• 公開（公告）日: 2015-02-11
• 發明（設計）人: 周文婷;王雨春
• 申請（專利權）人: 安集微電子（上海）有限公司
• 主分類號: C02F5/08
• 分類號: C02F5/08
• 代理公司: 上海翰鴻律師事務所 31246
• 代理人: 李佳銘

1.一種處理銅/銅阻擋層拋光液的廢液的方法，其特征在于：所述方法包括采用化學溶液處理所述廢液，所述化學溶液包含氨水或銨鹽。

2.如權利要求1所述的方法，其特征在于：所述銅/銅阻擋層拋光液的廢液進一步包含能與銅離子生成凝膠的化合物。

3.如權利要求2所述的方法，其特征在于：所述能與銅離子生成凝膠的化合物為唑類化合物和/或羧基類聚合物及其鹽。

4.如權利要求3所述的方法，其特征在于：所述唑類化合物及其衍生物選自1，2，3-三氮唑，1H-四氮唑，1，2，4-三氮唑，1-甲基-5氨基四氮唑，5-甲基四氮唑，1-氨基-5-巰基-1，2，4四氮唑，5-苯基四氮唑和1-苯基-5-巰基四氮唑，苯并三氮唑，5-甲基-1，2，3-苯并三氮唑，5-羧基苯并三氮唑、1-羥基-苯并三氮唑，3-氨基-1，2，4-三氮唑、3，5-二氨基-1，2，4-三氮唑、5-羧基-3-氨基-1，2，4-三氮唑、3-氨基-5-巰基-1，2，4-三氮唑、5-乙酸-1H-四氮唑、5-甲基四氮唑和5-氨基-1H-四氮唑中的一種或多種。

5.如權利要求3所述的方法，其特征在于：所述的唑類化合物的濃度為0.001-3wt%。

6.如權利要求5所述的方法，其特征在于：所述的唑類化合物的濃度為0.001-1wt%。。

7.如權利要求3所述的方法，其特征在于：所述羧基類聚合物選自聚丙烯酸，聚甲基丙烯酸，丙烯酸酯共聚物，聚羧酸和聚丙烯酰胺中的一種或多種。

8.如權利要求7所述的方法，其特征在于：所述羧基類聚合物的分子量為1000-300000。

9.如權利要求8所述的方法，其特征在于：所述羧基類聚合物的分子量為1000-10000。

10.如權利要求3所述的方法，其特征在于：所述羧基類聚合物的濃度為0.001-3wt%。

11.如權利要求10所述的方法，其特征在于：所述羧基類聚合物的濃度為0.001-1wt%。

12.如權利要求3所述的方法，其特征在于：所選鹽為鉀鹽，鈉鹽和/或氨鹽。

13.如權利要求1所述的方法，其特征在于：所述銨鹽選自氯化銨，硫酸氫銨，硫酸氨，硝酸銨，碳酸銨，碳酸氫銨，氟化銨，碘化銨，溴化銨，檸檬酸三銨，檸檬酸氫二銨，檸檬酸二氫胺的一種或多種。

14.如權利要求1所述的方法，其特征在于：所述氨水或銨鹽的質量百分比濃度為0.1～10wt%。

15.如權利要求14所述的方法，其特征在于：所述氨水或銨鹽的質量百分比濃度為0.5～5wt%。