[發(fā)明專利]實(shí)現(xiàn)多晶硅鑄錠無(wú)黑邊的坩堝及其制備方法

無(wú)效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201310318044.4
• 申請(qǐng)日: 2013-07-26
• 公開（公告）號(hào): CN103382572A
• 公開（公告）日: 2013-11-06
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 譚毅;熊華江;劉東雷;王永國(guó);劉燕;黃佳琪;黃凱;李左;李鵬廷;王峰
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 青島隆盛晶硅科技有限公司
• 主分類號(hào): C30B28/06
• 分類號(hào): C30B28/06;C30B29/06;B32B18/00
• 代理公司: 暫無(wú)信息
• 代理人: 暫無(wú)信息

1.一種實(shí)現(xiàn)多晶硅鑄錠無(wú)黑邊的坩堝，包括氮化硅坩堝，其特征在于氮化硅坩堝內(nèi)壁依次噴涂有氮化硅涂層和硅粉涂層。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的實(shí)現(xiàn)多晶硅鑄錠無(wú)黑邊的坩堝，其特征在于氮化硅涂層的厚度為0.5～2mm。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的實(shí)現(xiàn)多晶硅鑄錠無(wú)黑邊的坩堝，其特征在于硅粉涂層的厚度為0.5～2mm。

4.一種權(quán)利要求1所述的實(shí)現(xiàn)多晶硅鑄錠無(wú)黑邊的坩堝制備方法，其特征在于包括以下步驟：

（1）氮化硅涂層的配料：將氮化硅粉體、蒸餾水和硅溶膠混合攪拌1～2h，得到氮化硅涂層用的懸濁液，靜置待用；

（2）氮化硅涂層的噴涂：用噴槍將步驟（1）得到的懸濁液均勻的噴涂到氮化硅坩堝的內(nèi)表面，直至外觀上無(wú)明顯露點(diǎn)且厚度均勻?yàn)橹梗?/p>

（3）氮化硅涂層的燒結(jié)處理：將經(jīng)過(guò)噴涂氮化硅涂層后的氮化硅坩堝置于真空熔煉爐中，加熱升溫至1050～1100℃，保溫1～2h后出爐冷卻至室溫，從而形成致密的氮化硅涂層；

（4）硅粉涂層的配料：將硅粉與酒精混合攪拌1～2h，得到硅粉涂層用的懸濁液，靜置待用；

（5）硅粉涂層的噴涂：用噴槍將步驟（4）得到的懸濁液均勻的噴涂到經(jīng)步驟（3）處理得到的氮化硅坩堝的內(nèi)表面，直至外觀上無(wú)明顯露點(diǎn)且厚度均勻?yàn)橹梗?/p>

（6）硅粉涂層的風(fēng)干：將經(jīng)過(guò)噴涂硅粉涂層后的氮化硅坩堝在自然條件下風(fēng)干12～15h，從而得到實(shí)現(xiàn)多晶硅鑄錠無(wú)黑邊的鑄錠用坩堝。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的實(shí)現(xiàn)多晶硅鑄錠無(wú)黑邊的坩堝制備方法，其特征在于步驟（1）中氮化硅粉體中的有效氮化硅質(zhì)量分?jǐn)?shù)為99.99%以上。

6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的實(shí)現(xiàn)多晶硅鑄錠無(wú)黑邊的坩堝制備方法，其特征在于步驟（1）中氮化硅粉體的粒度為0.05～3μm。

7.根據(jù)權(quán)利要求4所述的實(shí)現(xiàn)多晶硅鑄錠無(wú)黑邊的坩堝制備方法，其特征在于步驟（1）中氮化硅粉體、蒸餾水和硅溶膠三者的質(zhì)量比為4～5:10～15:2。

8.根據(jù)權(quán)利要求4所述的實(shí)現(xiàn)多晶硅鑄錠無(wú)黑邊的坩堝制備方法，其特征在于步驟（4）中硅粉的純度為9N以上。

9.根據(jù)權(quán)利要求4所述的實(shí)現(xiàn)多晶硅鑄錠無(wú)黑邊的坩堝制備方法，其特征在于步驟（4）中硅粉的粒度為0.05～3μm。

10.根據(jù)權(quán)利要求4所述的實(shí)現(xiàn)多晶硅鑄錠無(wú)黑邊的坩堝制備方法，其特征在于步驟（4）中硅粉與酒精的比例為0.2～0.25kg：500～1000ml。