[發明專利]一種電容式觸摸屏的雙掩膜方式生產工藝

有效

• 申請號: 201310315755.6
• 申請日: 2013-07-25
• 公開（公告）號: CN103425371A
• 公開（公告）日: 2013-12-04
• 發明（設計）人: 朱志強
• 申請（專利權）人: 浙江金指科技有限公司
• 主分類號: G06F3/044
• 分類號: G06F3/044
• 代理公司: 湖州金衛知識產權代理事務所(普通合伙) 33232
• 代理人: 趙衛康

1.一種電容式觸摸屏的雙掩膜方式生產工藝，其特征在于包括以下步驟：

步驟1：先在玻璃板上做好氧化銦錫層，然后制作第一保護層；

步驟2：制作金屬層，分為：第一次掩膜加工：包括清洗、涂光刻膠、前烘、曝光、顯影、堅膜、酸性蝕刻、去膠、清洗；制作第二保護層；第二次掩膜加工；包括清洗、涂光刻膠、前烘、曝光、顯影、堅膜、酸性蝕刻、去膠、清洗；

步驟3：絲印雙面可剝膠、切割、電測。

2.根據權利要求1所述的一種電容式觸摸屏的雙掩膜方式生產工藝，其特征在于：步驟2中第一次掩膜加工和第二次掩膜加工中的曝光工序均使用掩膜板，第二次掩膜加工中的掩膜板的遮掩圖形為金屬層的圖形，且在第二次掩膜加工中的曝光工序時掩膜板與金屬層的距離控制在50μm-100μm。

3.根據權利要求2所述的一種電容式觸摸屏的雙掩膜方式生產工藝，其特征在于：步驟2中第二次掩膜加工中的曝光工序采用紫外光照射，曝光量40mj/cm2?-100?mj/cm2,時間1?s?-5s,照度20?mw/?cm2-50mw/?cm2。

4.根據權利要求3所述的一種電容式觸摸屏的雙掩膜方式生產工藝，其特征在于：?步驟2中第一次掩膜加工和第二次掩膜加工中的涂光刻膠工序中涂膠膜厚1μm-2μm。

5.根據權利要求4所述的一種電容式觸摸屏的雙掩膜方式生產工藝，其特征在于：步驟2中第二次掩膜加工中的前烘工序時在100℃-150℃下，烘烤8?min-13?min。

6.根據權利要求5所述的一種電容式觸摸屏的雙掩膜方式生產工藝，其特征在于：步驟2中第二次掩膜加工中的顯影工序時采用濃度為0.5%-1.5%的NaOH堿液，顯影時間50s?-150s。

7.根據權利要求6所述的一種電容式觸摸屏的雙掩膜方式生產工藝，其特征在于：步驟2中第二次掩膜加工中的酸性蝕刻工序采用的酸性溶液為：磷酸60%~100%+?醋酸10%~15%。

8.根據權利要求7所述的一種電容式觸摸屏的雙掩膜方式生產工藝，其特征在于：步驟2中第二次掩膜加工中的酸性蝕刻工序時間為5-15分鐘。

9.根據權利要求8所述的的一種電容式觸摸屏的雙掩膜方式生產工藝，其特征在于：步驟2中第二次掩膜加工中的去膠工序采用有機溶液：二甘醇丁醚80%~90%+?已醇胺10%~20%。