[發明專利]極紫外光刻機光源系統及極紫外曝光方法

有效

• 申請號: 201310315299.5
• 申請日: 2013-07-24
• 公開（公告）號: CN104345570B
• 公開（公告）日: 2017-03-29
• 發明（設計）人: 徐依協
• 申請（專利權）人: 中芯國際集成電路制造（上海）有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 北京集佳知識產權代理有限公司11227
• 代理人: 駱蘇華

1.一種極紫外光刻機光源系統，其特征在于，包括：?

激光輻射裝置，適于提供激光輻射；?

極紫外光激發源，適于接受激光輻射而產生極紫外光，在激光輻射中產生凝聚態顆粒飛出極紫外光激發源；?

收集器，用于匯聚極紫外光；?

冷凝器，用于冷凝飛出的凝聚態顆粒，其中，所述冷凝器環繞構成外墻，所述外墻包覆預定空間，所述空間適于極紫外光匯聚。?

2.如權利要求1所述的極紫外光刻機光源系統，其特征在于，所述冷凝器的內部冷凝材料為：冷卻水、液氮、或液氦；或所述冷凝器為電熱冷凝式冷凝器。?

3.如權利要求1所述的極紫外光刻機光源系統，其特征在于，所述激光輻射為脈沖模式。?

4.如權利要求1所述的極紫外光刻機光源系統，其特征在于，所述激光輻射為持續模式。?

5.如權利要求3所述的極紫外光刻機光源系統，其特征在于，所述收集器包括若干反射鏡，當所述激光輻射為脈沖模式時，所述反射鏡在收集極紫外光時配置成反射態和非反射態，所述反射態適于反射極紫外光，非反射態適于躲避凝聚態顆粒污染；其中，凝聚態顆粒于激光輻射后T時間到達收集器。?

6.如權利要求5所述的極紫外光刻機光源系統，其特征在于，當所述反射鏡配置成反射態時，若干反射鏡配置成匯聚極紫外光；當所述反射鏡配置成非反射態時，所述反射鏡轉動反射面與凝聚態顆粒飛行方向平行。?

7.如權利要求5所述的極紫外光刻機光源系統，其特征在于，所述反射鏡配置為非反射態的時間滯后于激光脈沖持續時間，以躲避凝聚態顆粒飛行方向。?

8.如權利要求7所述的極紫外光刻機光源系統，其特征在于，所述激光輻射為脈沖模式，所述反射鏡配置為非反射態的時間為與脈沖持續時間滯后T?時間，所述T時間在范圍2毫秒至12毫秒。?

9.如權利要求5所述的極紫外光刻機光源系統，其特征在于，所述反射鏡材料為鉬、鉬合金、硅、釕或釕合金；或所述反射鏡基體為硅，且基體表面鍍有多層硅鉬膜、鉬合金、釕或釕合金膜層結構。?

10.如權利要求1所述的極紫外光刻機光源系統，其特征在于，還包括：設置于收集器外圍的凝聚態顆粒收集器。?

11.一種極紫外光刻機光源系統，其特征在于，?

高壓放電等離子體施加裝置，適于施加高電壓；?

極紫外光激發源，適于接受高電壓放電而產生極紫外光，所述極紫外光激發源在高電壓放電中產生凝聚態顆粒飛出極紫外光激發源；?

收集器，用于匯聚極紫外光；?

冷凝器，用于冷凝飛出的凝聚態顆粒，其中，所述冷凝器環繞構成外墻，所述外墻包覆預定空間，所述空間適于極紫外光匯聚。?

12.如權利要求11所述的極紫外光刻機光源系統，其特征在于，所述冷凝器的內部冷凝材料為：冷卻水、液氮、或液氦；或所述冷凝器為電熱冷凝式冷凝器。?

13.如權利要求11所述的極紫外光刻機光源系統，其特征在于，所述施加高電壓為脈沖模式。?

14.如權利要求11所述的極紫外光刻機光源系統，其特征在于，所述施加高電壓為持續模式。?

15.如權利要求13所述的極紫外光刻機光源系統，其特征在于，所述收集器包括若干反射鏡，所述反射鏡在收集極紫外光時配置成反射態和非反射態，所述反射態適于反射極紫外光，非反射態適于躲避凝聚態顆粒污染；其中，凝聚態顆粒于高電壓放電后T2時間到達收集器。?

16.如權利要求15所述的極紫外光刻機光源系統，其特征在于，當所述反射鏡配置成反射態時，若干反射鏡配置成匯聚極紫外光；當所述反射鏡配置成非反射態時，所述反射鏡轉動至凝聚態顆粒飛行方向。?

17.如權利要求15所述的極紫外光刻機光源系統，其特征在于，當所述高電壓施加為脈沖模式時，所述反射鏡配置為非反射態的時間滯后于脈沖持續時間，以躲避凝聚態顆粒飛行方向。?