[發明專利]玻璃基板的清洗方法及實現該方法的裝置

有效

• 申請號: 201310314174.0
• 申請日: 2013-07-24
• 公開（公告）號: CN103341405A
• 公開（公告）日: 2013-10-09
• 發明（設計）人: 孫世英
• 申請（專利權）人: 深圳市華星光電技術有限公司
• 主分類號: B03C1/30
• 分類號: B03C1/30;B08B5/02;B08B5/04
• 代理公司: 深圳市德力知識產權代理事務所 44265
• 代理人: 林才桂

技術領域

本發明涉及一種清洗方法，尤其涉及一種玻璃基板的清洗方法及實現該方法的裝置。

背景技術

液晶顯示裝置（LCD，Liquid?Crystal?Display）具有機身薄、省電、無輻射等眾多優點，得到了廣泛的應用。現有市場上的液晶顯示裝置大部分為背光型液晶顯示器，其包括液晶顯示面板及背光模組（backlight?module）。液晶顯示面板的工作原理是在兩片平行的玻璃基板中放置液晶分子，通過給玻璃基板的電路通電來控制液晶分子改變方向，將背光模組的光線折射出來產生畫面。

在液晶顯示面板的制作過程中，經常會有雜質殘留于玻璃基板，而導致液晶顯示面板出現亮點或亮線等缺陷，影響顯示效果。

現有的玻璃基板清洗裝置一般為干式清洗機，請參閱圖1，該干式清洗機包括：用于承載及運輸玻璃基板的傳送平臺100、位于傳送平臺100上方的兩個吹氣裝置300及位于傳送平臺100上方的吸氣裝置500，所述吸氣裝置500具有一吸氣口502及與吸氣口502連通設置的儲雜部504，該吸氣口502位于所述兩吹氣裝置300之間，所述儲雜部504位于兩吹氣裝置300上方，其中，兩個吹氣裝置300上分別設有一超聲波發生器302，用于發射超聲波至玻璃基板700表面，以使得附著于該表面的雜質702受到振動而脫離玻璃基板700，同時，所述吸氣裝置500對該雜質702吸氣，將雜質702吸入吸氣裝置500內，并存儲于儲雜部504內，進而實現玻璃基板700的表面除雜。

然而，請參閱圖2，當雜質702為顆粒較大的金屬雜質時，由于該雜質702的重量較大，可能導致該雜質702無法被吸附于吸氣裝置500內，導致玻璃基板700的清洗不徹底，進而影響用該玻璃基板700制得的液晶顯示面板的顯示效果。

發明內容

本發明的目的在于提供一種玻璃基板的清洗方法，能有效去除玻璃基板上的雜質，尤其對磁性雜質的除雜效果更為明顯。

本發明的另一目的在于提供一種玻璃基板的清洗裝置，其結構簡單，對磁性雜質的除雜效果好。

為實現上述目的，提供一種玻璃基板的清洗方法，包括以下步驟：

步驟1、提供一傳送平臺及待清洗的玻璃基板，所述待清洗的玻璃基板上附著有雜質，所述雜質包括磁性雜質與非磁性雜質；

步驟2、將待清洗的玻璃基板置于該傳送平臺上；

步驟3、提供兩個吹氣裝置，該兩吹氣裝置間隔設置于傳送平臺上方；

步驟4、該兩個吹氣裝置向待清洗的玻璃基板吹氣，以使得附著于待清洗的玻璃基板上的雜質脫離玻璃基板；

步驟5、提供吸附裝置，該吸附裝置包括吸氣裝置及磁吸裝置，該吸氣裝置包括置于兩吹氣裝置之間的吸氣口，所述磁吸裝置位于吸氣裝置吸氣口內；

步驟6、所述吸氣裝置對待清洗的玻璃基板進行吸氣，且該磁吸裝置對待清洗的玻璃基板上的磁性雜質產生磁吸力，進而將待清洗的玻璃基板上的雜質吸入吸附裝置內。

所述每一吹氣裝置內設有一超聲波發生器，該兩個吹氣裝置內的兩超聲波發生器發出的超聲波相對傾斜并匯聚于待清洗的玻璃基板上，超聲波發生器的頻率為30K～100K?Hz。

所述吸氣裝置還包括連通吸氣口的儲雜部及設于儲雜部遠離吸氣口端的抽氣裝置。

所述抽氣裝置與儲雜部之間設有隔離網。

所述磁吸裝置為一柱狀電磁鐵。

本發明還提供一種玻璃基板的清洗裝置，包括：機架、安裝于機架上的傳送平臺、安裝于機架上且位于傳送平臺上方的間隔設置的兩個吹氣裝置及安裝于機架上的吸附裝置，所述吸附裝置包括吸氣裝置及磁吸裝置，該吸氣裝置包括置于兩吹氣裝置之間的吸氣口，所述磁吸裝置位于吸氣裝置吸氣口內。

所述每一吹氣裝置內設有一超聲波發生器，該兩個吹氣裝置內的兩超聲波發生器發出的超聲波相對傾斜并匯聚于待清洗的玻璃基板上，超聲波發生器的頻率為30K～100K?Hz。

所述吸氣裝置還包括連通吸氣口的儲雜部及設于儲雜部遠離吸氣口端的抽氣裝置。

所述抽氣裝置與儲雜部之間設有隔離網。

所述磁吸裝置為一柱狀電磁鐵。

本發明的有益效果：本發明的玻璃基板的清洗方法及實現該方法的裝置，通過在吸氣裝置的吸氣口內設置磁吸裝置，配合吸氣裝置，能有效去除磁性雜質，進而克服了現有清洗裝置對玻璃基板上重量較大的磁性雜質去除能力差的缺陷，避免了因此導致的使用該玻璃基板的液晶顯示面板亮點、亮線等缺陷，有效提升液晶顯示面板的品質。