[發明專利]一種溫灸足療罐有效
| 申請號： | 201310313543.4 | 申請日： | 2013-07-24 |
| 公開（公告）號： | CN103340743A | 公開（公告）日： | 2013-10-09 |
| 發明（設計）人： | 胡木明 | 申請（專利權）人： | 胡木明 |
| 主分類號： | A61H39/04 | 分類號： | A61H39/04;A61H39/06;A61F7/00 |
| 代理公司： | 北京集佳知識產權代理有限公司 11227 | 代理人： | 魏曉波 |
| 地址： | 412007 湖南省株洲*** | 國省代碼： | 湖南;43 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 溫灸足療罐 | ||
1.一種溫灸足療罐，包括主體、控制器和發熱體，所述發熱體固定在所述主體的底部，所述控制器固定在所述主體的內部，所述控制器與所述發熱體用導線連接，在所述發熱體的側面設置有用于按摩穴位的錐點，其特征在于，在所述錐點上設置有穴位刺激點。
2.根據權利要求1所述的溫灸足療罐，其特征在于，所述錐點設置有兩個，一個大錐點，一個小錐點，所述大錐點與所述小錐點相鄰，所述大錐點與所述小錐點形成一個角度。
3.根據權利要求2所述的溫灸足療罐，其特征在于，所述穴位刺激點設置在所述大錐點上，所述穴位刺激點為4個。
4.根據權利要求3所述的溫灸足療罐，其特征在于，在所述發熱體底部邊緣位置設置有凸點，所述凸點為兩個或兩個以上。
5.根據權利要求4所述的溫灸足療罐，其特征在于，在所述發熱體底部邊緣位置設置有齒狀點，所述齒狀點為兩個或者兩個以上，所述齒狀點的分布位置與所述凸點的分布位置相對應。
6.根據權利要求1～5任意一項所述的溫灸足療罐，其特征在于，所述發熱體包括PTC發熱器件和負離子礦粉，所述PTC器件與所述負離子礦粉通過聚酯樹脂澆鑄在一起。
7.根據權利要求6所述的溫灸足療罐，其特征在于，所述PTC發熱器件為兩個，所述兩個PTC發熱器件的居里點不同。
8.根據權利要求7所述的溫灸足療罐，其特征在于，在所述主體上靠近所述發熱體的部位設置有保護墊片，所述保護墊片為皮革墊片。
9.根據權利要求8所述的溫灸足療罐，其特征在于，所述主體采用鐵木制作，所述主體上設置有便于手持的凹陷部位。
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