[發明專利]基于震蕩式反應氣體控制的反應濺射系統

有效

• 申請號: 201310312221.8
• 申請日: 2013-07-24
• 公開（公告）號: CN103436847B
• 公開（公告）日: 2016-11-23
• 發明（設計）人: 郭俊
• 申請（專利權）人: 無錫元創華芯微機電有限公司;江蘇永康機械有限公司
• 主分類號: C23C14/34
• 分類號: C23C14/34;C23C14/54;C23C14/08
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• 代理人: 暫無信息

1.一種基于震蕩式反應氣體控制的反應濺射系統，包括真空腔室(1)及分別與所述真空腔室(1)相連通的反應氣體管路(5)與載氣管路(6)，所述真空腔室(1)內設置有相對的陽極晶圓載臺(4)與陰極靶材(3)；其特征是：所述反應濺射系統還包括氣體流量控制系統，所述氣體流量控制系統包括計算機(7)、流量控制器(8)、反應氣體質量流量計(9)及載氣質量流量計(10)，所述反應氣體質量流量計(9)與所述載氣質量流量計(10)分別設置在所述反應氣體管路(5)與所述載氣管路(6)中，所述反應氣體質量流量計(9)及所述載氣質量流量計(10)分別與所述流量控制器(8)相連，所述流量控制器(8)與所述計算機(7)相連；所述計算機(7)通過所述流量控制器(8)控制所述反應氣體質量流量計(9)，使從所述反應氣體管路(5)進入所述真空腔室(1)的反應氣體流量為周期性震蕩流量。

2.按照權利要求1所述的基于震蕩式反應氣體控制的反應濺射系統，其特征是：所述陽極晶圓載臺(4)設置于所述真空腔室(1)的底部，所述陰極靶材(3)設置于所述真空腔室(1)的頂部，所述反應氣體管路(5)與所述載氣管路(6)分別設置于所述真空腔室(1)的側壁上。

3.按照權利要求2所述的基于震蕩式反應氣體控制的反應濺射系統，其特征是：所述反應氣體管路(5)的出口位置與所述陰極靶材(3)相對應，所述載氣管路(6)的出口位置與所述陽極晶圓載臺(4)相對應。

4.按照權利要求1所述的基于震蕩式反應氣體控制的反應濺射系統，其特征是：所述反應氣體為氧氣，所述載氣為氬氣，所述陰極靶材(3)為5N純釩靶材。