[發明專利]電容式觸摸屏及其制作方法

有效

• 申請號: 201310310973.0
• 申請日: 2013-07-23
• 公開（公告）號: CN103383616A
• 公開（公告）日: 2013-11-06
• 發明（設計）人: 劉芳;張迅;張芙嘉;易偉華
• 申請（專利權）人: 江西沃格光電科技有限公司
• 主分類號: G06F3/044
• 分類號: G06F3/044
• 代理公司: 廣州華進聯合專利商標代理有限公司 44224
• 代理人: 吳平

1.一種電容式觸摸屏，其特征在于，包括透明基板、光阻層、抗反射復合層及導電圖案層；所述光阻層設在所述透明基板上，且所述光阻層的中部開設有貫穿至所述透明基板表面的凹槽；所述抗反射復合層包括基底部及設在所述基底部一側表面上的與所述凹槽適配的凸臺，所述基底部蓋設在所述光阻層上，所述凸臺填充在所述凹槽內并與所述透明基板接觸；所述導電圖案層設在所述基底部的另一側表面上。

2.如權利要求1所述的電容式觸摸屏，其特征在于，所述凹槽為梯形臺形狀，且底面積較大的底面遠離所述透明基板設置，所述凹槽的內壁與所述透明基板表面之間的夾角為10°～30°。

3.如權利要求1所述的電容式觸摸屏，其特征在于，所述透明基板的材質玻璃。

4.如權利要求1所述的電容式觸摸屏，其特征在于，所述光阻層包括一層或多層子光阻層，所述子光阻層的顏色為黑色、白色、藍色、粉色或咖啡色。

5.如權利要求1或4所述的電容式觸摸屏，其特征在于，所述光阻層的厚度為0.7～2.0μm。

6.如權利要求1所述的電容式觸摸屏，其特征在于，所述抗反射復合層包括兩層二氧化硅層及夾設在所述兩層二氧化硅層中間的抗反射層。

7.如權利要求6所述的電容式觸摸屏，其特征在于，所述二氧化硅層的厚度為所述抗反射層的厚度為

8.如權利要求1所述的電容式觸摸屏，其特征在于，所述導電圖案層的材質為氧化銦錫、氧化銦鋅、氧化鋁鋅或氧化鎵鋅。

9.如權利要求1所述的電容式觸摸屏，其特征在于，所述導電圖案層的材質為氧化銦錫，厚度為方塊電阻為20～150Ω/口。

10.一種電容式觸摸屏的制作方法，其特征在于，包括如下步驟：

在潔凈的透明基板表面涂布一層光阻層，經預烤后，再對所述光阻層進行光罩曝光和顯影處理，在所述光阻層的中部開設一貫穿至所述透明基板表面的凹槽；

采用真空磁控濺射的方法，在所述凹槽內濺射制作填充所述凹槽并蓋設在所述光阻層上的抗反射復合層；

采用真空磁控濺射的方法，在所述抗反射復合層的表面濺射制備導電金屬層；

在所述導電金屬層表面涂布光刻膠，再依次通過曝光、顯影和刻蝕的方法對所述導電金屬層進行處理，得到預設的導電圖案層。