[發(fā)明專利]核殼納米粒子無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201310308983.0 | 申請日: | 2007-09-05 |
| 公開(公告)號: | CN103487849A | 公開(公告)日: | 2014-01-01 |
| 發(fā)明(設計)人: | 納尼·喬格·阿福斯坦;史蒂文·艾美斯;帕斯卡·約瑟夫·保羅·布司肯斯;延斯·克里斯托·蒂斯;帕特里克·威廉默斯·安東尼厄·韋瑞嘉德豪溫 | 申請(專利權)人: | 帝斯曼知識產(chǎn)權資產(chǎn)管理有限公司 |
| 主分類號: | G02B1/11 | 分類號: | G02B1/11;C09D7/00;C08K3/22;C08K9/00 |
| 代理公司: | 北京東方億思知識產(chǎn)權代理有限責任公司 11258 | 代理人: | 李劍 |
| 地址: | 荷蘭*** | 國省代碼: | 荷蘭;NL |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 納米 粒子 | ||
1.一種用于形成抗反射涂層的涂層組合物,所述組合物包含:
·核殼納米粒子,所述核殼納米粒子包含:(a)含有陽離子共聚物的核材料,所述陽離子共聚物的陽離子基團在聚合期間摻入所述共聚物中;和(b)含有金屬氧化物的殼材料,并且所述核殼納米粒子具有100-200nm的平均尺寸;
·粘結劑,所述粘結劑包括無機材料;和
·溶劑。
2.如權利要求1所述的涂層組合物,其中所述核殼納米粒子的殼具有1-50nm的厚度。
3.如權利要求1所述的涂層組合物,其中所述核殼納米粒子的殼具有5-25nm的厚度。
4.如權利要求1所述的涂層組合物,其中,所述殼包含硅石,其由至少一種硅石前驅體沉積在所述核材料上。
5.如權利要求4所述的涂層組合物,其中,所述殼中硅石占至少90重量%。
6.如權利要求1至5中任意一項所述的涂層組合物,其中,所述核材料包含熱不穩(wěn)定聚合物。
7.如權利要求1至5中任意一項所述的涂層組合物,其中,所述核材料包含聚(甲基)丙烯酸酯。
8.如權利要求1至5中任意一項所述的涂層組合物,其中,所述陽離子共聚物包含部分或全部季銨化的胺官能乙烯基單體。
9.如權利要求1至5中任意一項所述的涂層組合物,其中,所述納米粒子具有5%至90%的潛在空洞分數(shù),所述潛在空洞分數(shù)由從所述納米粒子中除去一些或全部核材料而產(chǎn)生。
10.如權利要求1至5中任意一項所述的涂層組合物,其中,所述粘結劑包括具有烷基或烷氧基的無機化合物。
11.如權利要求10所述的涂層組合物,其中,所述粘結劑包括四烷氧基硅烷。
12.如權利要求1至5中任意一項所述的涂層組合物,其中,所述溶劑是選自由水、異丙醇、乙醇、丙酮、乙基纖維素、甲醇、丙醇、丁醇、乙二醇、丙二醇、甲基乙基醚、甲基丁基醚、甲苯、和甲基乙基甲酮組成的組中的至少一個。
13.如權利要求1至5中任意一項所述的涂層組合物,其中,所述涂層組合物的粘度為2.0-20mPa·s。
14.如權利要求1至5中任意一項所述的涂層組合物,其中,所述涂層組合物的固含量為1-5重量%。
15.一種在基材上用于形成抗反射涂層的方法,所述方法包括如下步驟:
·將權利要求1至14中任意一項所述的涂層組合物涂敷到基材上,從而得到涂布涂層;
·固化所述涂布涂層;并且
·從所述涂布涂層的核殼納米粒子中除去一些或全部核材料。
16.如權利要求15所述的方法,其中,固化通過加熱實現(xiàn),并且所述核材料至少部分通過固化步驟熱降解。
17.如權利要求16所述的方法,其中,所述基材是無機的,并且固化在200-700℃下實施。
18.如權利要求17所述的方法,其中,所述涂層組合物被涂覆到玻璃板上,然后對所述板進行回火,并且固化和回火在一個步驟中實施。
19.如權利要求15至18中任意一項所述的方法,其中,所得涂層的厚度為50-300nm。
20.一種制品,所述制品包含至少部分被采用權利要求15-19中任意一項所述的方法得到的抗反射涂層涂布的基材。
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