[發(fā)明專利]用于制造印刷電路板的方法無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201310308719.7 | 申請日: | 2013-07-22 |
| 公開(公告)號: | CN103572269A | 公開(公告)日: | 2014-02-12 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 下地輝明;李恩惠;金致成;方正潤;南孝昇;趙成愍 | 申請(專利權(quán))人: | 三星電機(jī)株式會社 |
| 主分類號: | C23C18/40 | 分類號: | C23C18/40 |
| 代理公司: | 北京潤平知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11283 | 代理人: | 李婉婉;王崇 |
| 地址: | 韓國*** | 國省代碼: | 韓國;KR |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 用于 制造 印刷 電路板 方法 | ||
1.一種用于制造印刷電路板的方法,該方法包括:
通過在基底的表面上涂覆含有銅鹽和碘化合物的催化劑溶液進(jìn)行無電鍍銅,利用還原劑對涂覆有所述催化劑溶液的基底進(jìn)行表面處理,然后將利用所述還原劑進(jìn)行表面處理的基底浸入到化學(xué)鍍銅液中;
通過利用抗電鍍劑在經(jīng)過所述無電鍍銅的基底的表面上形成電路圖案;
在具有所述電路圖案的基底的表面上進(jìn)行電鍍銅;以及
通過剝落所述抗電鍍劑,然后在銅膜的不必要部分進(jìn)行蝕刻,形成電路。
2.一種用于制造印刷電路板的方法,該方法包括:
通過在基底的表面上涂覆含有銅鹽和碘化合物的催化劑溶液進(jìn)行無電鍍銅,利用還原劑對涂覆有所述催化劑溶液的基底進(jìn)行表面處理,然后將利用所述還原劑進(jìn)行表面處理的基底浸入到化學(xué)鍍銅液中;
在經(jīng)過所述無電鍍銅的基底的表面上進(jìn)行電鍍銅;
通過利用抗蝕劑在經(jīng)過電鍍銅的基底的表面上形成電路圖案,然后在銅膜的不必要部分進(jìn)行蝕刻,形成電路;以及
在形成的電路上形成堆積基底,然后重復(fù)以上步驟,從而制造多層印刷電路板。
3.一種用于制造印刷電路板的方法,該方法包括:
通過在基底的表面上涂覆含有銅鹽和碘化合物的催化劑溶液進(jìn)行無電鍍銅,利用還原劑對涂覆有所述催化劑溶液的基底進(jìn)行表面處理,然后將利用所述還原劑進(jìn)行表面處理的基底浸入到化學(xué)鍍銅液中;
通過利用抗電鍍劑在經(jīng)過所述無電鍍銅的基底的表面上形成電路圖案;
在具有所述電路圖案的基底的表面上進(jìn)行電鍍銅;
通過剝落所述抗電鍍劑,然后在銅膜的不必要部分進(jìn)行蝕刻,形成電路;以及
在形成的電路上形成堆積基底,然后重復(fù)以上步驟,從而制造多層印刷電路板。
4.一種用于制造印刷電路板的方法,該方法包括:
通過在基底的表面上涂覆含有銅鹽和碘化合物的催化劑溶液進(jìn)行無電鍍銅,利用還原劑對涂覆有所述催化劑溶液的基底進(jìn)行表面處理,然后將利用所述還原劑進(jìn)行表面處理的基底浸入到化學(xué)鍍銅液中;
在經(jīng)過所述無電鍍銅的基底的表面上進(jìn)行電鍍銅;
通過利用抗蝕刻劑在經(jīng)過電鍍銅的基底的表面上形成電路圖案,然后進(jìn)行蝕刻,形成電路;以及
在形成的電路上形成單側(cè)銅板,然后重復(fù)以上步驟,從而制造多層印刷電路板。
5.根據(jù)權(quán)利要求1-4中任意一項(xiàng)所述的方法,其中,所述銅鹽為氫氧化銅或氧化銅。
6.根據(jù)權(quán)利要求1-4中任意一項(xiàng)所述的方法,其中,所述碘化合物具有單價(jià)抗衡離子。
7.根據(jù)權(quán)利要求1-4中任意一項(xiàng)所述的方法,其中,所述碘化合物選自碘化鋰、碘化鈉、碘化鉀和碘化銨。
8.根據(jù)權(quán)利要求1-4中任意一項(xiàng)所述的方法,其中,所述銅鹽的濃度為0.05-5mol/l。
9.根據(jù)權(quán)利要求1-4中任意一項(xiàng)所述的方法,其中,所述碘化合物的濃度為所述銅鹽的濃度的8-24mol倍。
10.根據(jù)權(quán)利要求1-4中任意一項(xiàng)所述的方法,其中,所述催化劑溶液的pH值為2-11。
11.根據(jù)權(quán)利要求1-4中任意一項(xiàng)所述的方法,其中,所述催化劑溶液還含有pH調(diào)節(jié)劑、pH緩沖液、表面活性劑、防霉劑或分析指示劑物質(zhì)。
12.根據(jù)權(quán)利要求1-4中任意一項(xiàng)所述的方法,其中,所述還原劑選自福爾馬林、肼、次磷酸鹽、二甲胺硼烷、氫硼化鈉、乙醛酸、抗壞血酸和異抗壞血酸。
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C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴(kuò)散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C18-00 通過液態(tài)化合物分解抑或覆層形成化合物溶液分解、且覆層中不留存表面材料反應(yīng)產(chǎn)物的化學(xué)鍍覆
C23C18-02 .熱分解法
C23C18-14 .輻射分解法,例如光分解、粒子輻射
C23C18-16 .還原法或置換法,例如無電流鍍
C23C18-54 .接觸鍍,即無電流化學(xué)鍍
C23C18-18 ..待鍍材料的預(yù)處理





