[發(fā)明專利]一種化學(xué)氣相沉積方法

無效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201310308530.8
• 申請日: 2013-07-22
• 公開（公告）號: CN103343332A
• 公開（公告）日: 2013-10-09
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 戴煜;胡祥龍;胡高健
• 申請（專利權(quán)）人: 湖南頂立科技有限公司
• 主分類號: C23C16/455
• 分類號: C23C16/455
• 代理公司: 北京集佳知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11227
• 代理人: 魏曉波

1.一種化學(xué)氣相沉積方法，以化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)進行化學(xué)氣相沉積，其特征在于，所述化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)包括：

化學(xué)氣相沉積室，所述化學(xué)氣相沉積室內(nèi)設(shè)有發(fā)熱體（11）、隔熱屏（3）和與所述化學(xué)氣相沉積室連通，且分散安裝的多個噴嘴系統(tǒng)；

真空系統(tǒng)，所述真空系統(tǒng)具有與多個所述噴嘴系統(tǒng)連通的真空管路，所述真空管路上設(shè)有真空開關(guān)閥；

化學(xué)沉積氣路系統(tǒng)，所述化學(xué)沉積氣路系統(tǒng)具有與多個所述噴嘴系統(tǒng)連通的充氣管路，所述充氣管路上設(shè)有充氣開關(guān)閥。

2.如權(quán)利要求1所述的化學(xué)氣相沉積方法，其特征在于，所述真空系統(tǒng)包括：

真空機組（10）；

與所述真空機組（10）的輸出口連通的所述真空管路，所述真空管路為相并聯(lián)的多個，且所述真空管路與所述噴嘴系統(tǒng)一一對應(yīng)連通。

3.如權(quán)利要求2所述的化學(xué)氣相沉積方法，其特征在于，所述真空系統(tǒng)還包括焦油尾氣處理系統(tǒng)（9），所述真空機組（10）的輸出口與所述焦油尾氣處理系統(tǒng)（9）的輸入口連通，所述焦油尾氣處理系統(tǒng)（9）的輸出口與所述真空管路連通。

4.如權(quán)利要求1所述的化學(xué)氣相沉積方法，其特征在于，所述化學(xué)沉積氣路系統(tǒng)包括：

氣體配氣屏（6）；

與所述氣體配氣屏（6）的輸出口連通的所述充氣管路，所述充氣管路為相并聯(lián)的多個，且所述充氣管路與所述噴嘴系統(tǒng)一一對應(yīng)連通。

5.如權(quán)利要求1-4任一項所述的化學(xué)氣相沉積方法，其特征在于，所述噴嘴系統(tǒng)包括：

氣體分配箱（1），所述真空管路和所述充氣管路與所述氣體分配箱（1）連通；

與所述氣體分配箱（1）連通的多個氣體噴嘴（2）。

6.如權(quán)利要求5所述的化學(xué)氣相沉積方法，其特征在于，所述氣體噴嘴（2）為方形喇叭結(jié)構(gòu)或圓形喇叭結(jié)構(gòu)，且面積較大的一端與所述氣體分配箱（1）連接。

7.如權(quán)利要求1-4任一項所述的化學(xué)氣相沉積方法，其特征在于，所述化學(xué)氣相沉積室的內(nèi)壁的任意位置均安裝有所述發(fā)熱體（11）。