[發明專利]一種采用化學沉積顯現金屬表面潛指紋的方法

無效

• 申請號: 201310306192.4
• 申請日: 2013-07-19
• 公開（公告）號: CN103356199A
• 公開（公告）日: 2013-10-23
• 發明（設計）人: 張美芹;劉守亮;秦剛;朱雨;于溪;王美玲;張學記
• 申請（專利權）人: 北京科技大學
• 主分類號: A61B5/117
• 分類號: A61B5/117
• 代理公司: 北京市廣友專利事務所有限責任公司 11237
• 代理人: 張仲波

1.一種采用化學置換沉積技術顯現金屬表面潛指紋的方法，其特征在于，以金屬活波性較弱的鹽如硫酸銅溶液為顯現試劑，利用金屬氧化還原活性的差異和指紋殘留物的絕緣性，顯現多種較活波金屬客體上的潛指紋；步驟如下：

（1）以五水硫酸銅或無水硫酸銅、超純水或去離子水為原料，配置硫酸銅母液作為顯現劑；

（2）依據指紋客體體積大小和金屬材料的性質，取顯現劑硫酸銅母液稀釋成所需要的倍數備用；金屬材料包括鋅、鎂、普通碳鋼；

（3）將指紋客體檢材浸入稀釋好的硫酸銅溶液中或滴加該溶液到檢材表面，反應一段時間；

（4）將樣品取出后用氮氣吹干，在自然光下，用肉眼即可直接觀察到清晰的指紋，用數碼相機拍照采集顯現好的指紋圖像。

2.根據權利要求1所述采用化學置換沉積技術顯現金屬表面潛指紋的方法，其特征是：所述的步驟（1）具體包括：以五水硫酸銅、超純水為原料，配置硫酸銅母液；用分析天平稱取12.484g五水硫酸銅，置于100ml容量瓶中，加超純水至100ml處，充分混勻，備用。

3.根據權利要求1所述采用化學置換沉積技術顯現金屬表面潛指紋的方法，其特征是：針對于鋅金屬基底潛指紋：

（1）依據指紋客體大小取母液并稀釋；針對片狀金屬或厚度不厚的基底，取溶液多少依據是：所取母液體積/客體面積=40μl/㎝²，并將母液稀釋100倍，混勻；

（2）將客體浸入反應溶液中，反應100s；

（3）將鋅金屬客體取出，用氮氣吹干，即可得到清晰指紋。

4.根據權利要求1所述采用化學置換沉積技術顯現金屬表面潛指紋的方法，其特征是：針對于鎂金屬基底潛指紋：

（1）依據指紋客體大小取母液并稀釋；針對片狀金屬或厚度不厚的基底，取溶液多少依據是：所取母液體積/客體面積=45μl/㎝²，并將母液稀釋50倍，混勻；

（2）將客體浸入反應溶液中，反應50-60s；

（3）將鎂金屬客體取出，用氮氣吹干，即可得到清晰指紋。

5.根據權利要求1所述采用化學置換沉積技術顯現金屬表面潛指紋的方法，其特征是：針對于普通碳鋼基底潛指紋：

（1）依據指紋客體大小取母液并稀釋；針對片狀金屬或厚度不厚的基底，取溶液多少依據是：所取母液體積/客體面積=16μl/㎝²，并將母液稀釋100倍，混勻；

（2）將客體浸入反應溶液中，反應120s；

（3）將普通碳鋼客體取出，用氮氣吹干，即可得到清晰指紋。

6.根據權利要求1-5所述采用化學置換沉積技術顯現金屬表面潛指紋的方法，其特征是：所述的指紋類型是指油性潛指紋、汗性潛指紋中的任意一種或混合物。

7.根據權利要求1所述采用化學置換沉積技術顯現金屬表面潛指紋的方法，其特征是：所述的顯現劑溶液和檢材客體的接觸是將指紋客體檢材浸入稀釋好的硫酸銅溶液中或滴加該溶液到檢材表面或任何一種使顯現劑溶液和檢材充分接觸可使其發生置換反應的方式。

8.根據權利要求1所述采用化學置換沉積技術顯現金屬表面潛指紋的方法，其特征是：將硫酸銅母液稀釋50-100倍，檢材在室溫下浸濕1～3min，在顯現過程中，以100-200次/分鐘的頻率在水平方向上振蕩樣品，使潛指紋均勻顯現。