[發(fā)明專利]光學(xué)電子行業(yè)專用鋯鋁復(fù)合研磨微粉及其制作方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201310304901.5 | 申請日: | 2013-07-19 |
| 公開(公告)號: | CN103342987A | 公開(公告)日: | 2013-10-09 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 丁建平;丁捷 | 申請(專利權(quán))人: | 淄博金紀(jì)元研磨材有限公司 |
| 主分類號: | C09K3/14 | 分類號: | C09K3/14 |
| 代理公司: | 常德市長城專利事務(wù)所 43204 | 代理人: | 張啟炎 |
| 地址: | 255086 山東省淄*** | 國省代碼: | 山東;37 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 光學(xué) 電子 行業(yè) 專用 復(fù)合 研磨 及其 制作方法 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及研磨材料,即一種光學(xué)電子行業(yè)專用鋯鋁復(fù)合研磨微粉及其制作方法。
背景技術(shù)
研磨材料是工業(yè)領(lǐng)域應(yīng)用較廣泛的一類新材料,主要有氧化鋁、碳化硅、金剛石等,據(jù)全國磨料磨具協(xié)會專家統(tǒng)計,近年來,隨著工業(yè)領(lǐng)域的快速發(fā)展,磨料的需求不斷增長。美國2012年市場銷售?1.4億美元,平均每年的增長率達20%;歐盟市場2012年的銷售額達到了1.8億歐元,增?長率也在15%以上;亞洲市場以中國、日本、韓國為主,2012年銷售額折合人民幣達15億,全球市場折合人民幣可達50億。隨著高科技領(lǐng)域的發(fā)展,對高性能的研磨材料的需求將不斷增加,據(jù)不完全統(tǒng)計2012年僅精密研磨拋光微粉需求可達到10億人民幣,預(yù)計2013年增長10%以上,達到11億元。
我國是研磨材料生產(chǎn)大國,一方面每年出口大量的中低檔次的磨料微粉,另一方面,芯片所需的高性能磨料微粉需要進口。據(jù)海關(guān)統(tǒng)計,我國去年進口高性能磨料微粉約?6000噸左右,價值2億元人民幣。而出口中低檔次磨料近5億元,高端產(chǎn)品僅幾千萬人民幣。國內(nèi)生產(chǎn)廠家生產(chǎn)的產(chǎn)品大多以中低檔的顆粒狀剛玉材料為主。
隨著光學(xué)電子行業(yè)的飛速發(fā)展,計算機芯片等的微觀尺寸不斷微細(xì)化,對拋光精度要求越來越高,芯片上極其微小的高度差異都可能使IC布線圖案發(fā)生變形、扭曲,導(dǎo)致絕緣層絕緣能力降低,所以要求其具有光滑平整的表面形狀,因此對研磨微粉的品質(zhì)提出了更高的要求。以致高性能的研磨微粉的市場需求不斷增加,在研磨材料中所占的比例不斷擴大,特別是在硅片中后期的研磨拋光過程中,對表面質(zhì)量要求非常高,不得有絲毫劃痕,這就要求微粉粒度分布要均勻,顆粒形狀要圓滑,不得有棱角尖狀物。這些都對研磨微粉的技術(shù)指標(biāo)提出了更高的要求。高級研磨微粉主要用于光學(xué)電子材料的研磨拋光,如:半導(dǎo)體材料、壓電晶體材料、單晶硅、多晶硅、光學(xué)玻璃的精密研磨和拋光。電子材料在研磨拋光中對研磨微粉質(zhì)量要求非常高,不得有絲毫劃痕,同時還要保持一定的研磨效率,這就要求微粉顆粒分布要集中,均勻,顆粒形狀要圓滑,潤滑性要好,從而保證光學(xué)或電子元件的研磨拋光效果達到優(yōu)良的表面質(zhì)量。
目前此類高級研磨微粉產(chǎn)品的進口價格為3萬元/噸,價格昂貴,市場無法接受,因此,如何制備磨削速度快、被拋表面精度高、生產(chǎn)成本較低的新型研磨拋光材料是當(dāng)前半導(dǎo)體和微電子領(lǐng)域的重點研究內(nèi)容之一。
鋯鋁復(fù)合研磨微粉主要應(yīng)用于半導(dǎo)體、單晶硅、多晶硅、壓電晶體、光學(xué)器件等的研?磨、拋光,具有拋光精度高、適應(yīng)性強,研磨性能穩(wěn)定等優(yōu)點,使得研磨拋光過程中不易損傷工件、表面無明顯劃痕。其特殊的復(fù)混工藝使得該產(chǎn)品在國內(nèi)一直是空白。
發(fā)明內(nèi)容
????本發(fā)明的目的是提出一種光學(xué)電子行業(yè)專用鋯鋁復(fù)合研磨微粉及其制作方法。
本發(fā)明制作方法的步驟如下:
一、對電熔氧化鋁、硅酸鋯兩種主要原材料,分別經(jīng)進行精選,確保原料結(jié)晶好、顏色白、無雜質(zhì),電熔氧化鋁原料中氧化鋁的含量要大于99%,粒徑小于300目,硅酸鋯原料中硅酸鋯的含量要大于98%,粒徑小于350目;
二、球磨、圓化和水洗:A:氧化鋁球磨:用不銹鋼磨球;料球重量比為3:1,通過PLC控制,研磨-時間轉(zhuǎn)速曲線為正弦曲線,球磨機最高轉(zhuǎn)速為3-5轉(zhuǎn)/每分鐘,一個研磨周期為一小時;
圓化,圓化罐為上下都尖的雙錐筒體,筒體內(nèi)壁有彈性,彈性層上均勻分布有許多的凸起,筒體中裝有許多小橡膠球,球磨好的微粉再放入圓化罐中研磨0.5小時,形成國標(biāo)1200號以下的研磨微粉圓片狀結(jié)構(gòu);最大可能的減少顆粒的棱角和尖角,形成比較圓潤規(guī)整的結(jié)構(gòu),保證顆粒均勻,無異形,無大粒;圓化后放入酸洗池內(nèi)加鹽酸酸洗;
B:?硅酸鋯球磨:采用氧化鋯研磨球,料球重量比為3:1,通過PLC控制,研磨時間轉(zhuǎn)速曲線為正弦曲線,球磨機最高轉(zhuǎn)速為3-5轉(zhuǎn)/每分鐘,一個研磨周期為一小時,形成國標(biāo)1200號以下的研磨微粉圓片狀結(jié)構(gòu);最大可能的減少顆粒的棱角和尖角,形成比較圓潤規(guī)整的結(jié)構(gòu),保證顆粒均勻,無異形,無大粒;磨完后放入酸洗池內(nèi)加硫酸酸洗;
三、溢流分級,在分級溢流罐中進行,同時采取如下兩項措施:
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