[發明專利]一種節能低輻射玻璃立式磁控濺射生產設備

無效

• 申請號: 201310303597.2
• 申請日: 2013-07-19
• 公開（公告）號: CN103388125A
• 公開（公告）日: 2013-11-13
• 發明（設計）人: 劉戰合
• 申請（專利權）人: 有度功能薄膜材料揚州有限公司
• 主分類號: C23C14/35
• 分類號: C23C14/35;C03C17/00
• 代理公司: 江蘇銀創律師事務所 32242
• 代理人: 何震花

技術領域

本發明涉及節能低輻射玻璃生產設備。

背景技術

節能低輻射鍍膜玻璃是最新開發的一種采光材料，它通過高科技方法在優質浮法玻璃表面均勻地鍍上特殊的膜系，極大地降低了玻璃表面輻射熱或紫外線等的透過率，并提高了玻璃的光譜選擇性，玻璃鍍上節能低輻射膜后，可見光可以有效地透過膜系和玻璃，但有害的紫外線部份就會有效地被抑制，肉眼看不見的紅外線，80%以上被膜系反射。透過節能低輻射鍍膜玻璃的太陽能光譜，經膜系過濾后進入室內的是“冷光”，節能低輻射鍍膜玻璃成功地解決了玻璃采光與節能難以兼顧的矛盾。特別是當節能低輻射鍍膜玻璃加工合成為中空玻璃后，與普通單體玻璃比較，夏季可以節省降溫能源60%以上，冬季可以節省采暖能源70%以上。因此，使用節能低輻射鍍膜玻璃的中空玻璃可以有效節省空調費或取暖費。同時，節能低輻射鍍膜玻璃的中空玻璃具有良好的隔音性能，噪聲可以降低34dB以上。

目前低輻射鍍膜玻璃無論是采用在線的沉積方法，還是采用離線的薄膜沉積方法，其所采用的設備都是臥式的多腔體串列式的連續薄膜沉積生產線，而且這一類的腔體在制造時為了降低成本，多采用易氧化且表面吸附性很強的碳鋼制造。在這樣的臥式的多腔體串列式的連續薄膜沉積生產線沉積薄膜時，玻璃基板通常放置在水平滾動的傳動軸上，通過玻璃與傳動軸間的摩擦力帶動玻璃水平向前運動，依次通過整條薄膜沉積生產線的各個腔體，所有的薄膜沉積陰極和靶材或者其它類似的氣相沉積源都置于玻璃沉積表面的上方。使得在玻璃進行薄膜沉積生產時，由于各種震動導致腔體上的各種氧化物微粒，以及腔體內表面吸附的眾多雜質隨時都能掉落在玻璃的鍍膜面上，這既破壞了所沉積的薄膜的連續一致性，又阻斷了薄膜與玻璃基體表面的聯結，降低了薄膜的附著力，從而大大的降低了整個沉積薄膜的綜合品質。很大程度的縮短了低輻射玻璃的耐候性能和使用功能。同時，在這樣的臥式的多腔體串列式的連續薄膜沉積生產線上多布置有大量的加熱裝置，薄膜沉積時，由于加熱裝置布置的不一定均勻，也就造成了腔體內的溫度場不一定很均勻，導致了整個玻璃上的溫度不能均勻一致，在重力和其它各種外力作用下，使得玻璃的上表面變形很不一致，明顯的影響了所沉積的薄膜在整個玻璃表面的均勻性，產生了很難以克服的邊沿效應，也就降低了整個沉積薄膜的綜合品質。過量的加熱裝置即增加了腔體內部的結構復雜性，加大了腔體內的灰層死角，也增大了生產成本，降低了生產效率。臥式的多腔體串列式的連續薄膜沉積生產線由于必須將整個沉積陰極和靶材或者其它類似的氣相沉積源懸掛于腔體上，使得陰極的整體結構復雜笨重，完全沒有可調節的空間，安裝及調試極為困難，導致薄膜的沉積工藝難以實現。

發明內容

本發明所要解決的問題：為了解決現有技術下低輻射玻璃質量不足的問題。

為解決上述問題，本發明采用的方案如下：

一種節能低輻射玻璃立式磁控濺射生產設備，由多個鍍膜腔體單元串接而成；相鄰鍍膜腔體單元之間設有工藝隔離腔體；鍍膜腔體單元與工藝隔離腔體之間設有隔離閥。所述鍍膜腔體單元，包括基座、靶材架、背板座、玻璃架；靶材架、背板座安裝于基座上，圍成鍍膜腔。靶材架上設有靶材陰極，靶材架與基座之間設有開合裝置。所述玻璃架與垂直面具有0－10度的角度，所述靶材陰極與垂直面具有0－10度的角度。所述的靶材架上的靶材陰極采用自閉合形式的非平衡磁場布置形式的多陰極的濺射靶位布置。所述玻璃架設有玻璃傳送裝置。所述開合裝置包括：驅動桿、軸套、轉軸、傳動臂、壓力機；驅動桿的一端與靶材架固定，另一端固定在軸套上；軸套套在轉軸外；傳動臂的一端固定在軸套上；壓力機的壓力桿頂在傳動臂的另一端。所述壓力機為液壓缸或氣壓缸。

本發明的技術效果：

1、?本發明薄膜沉積時，玻璃基體在整條生產線內采用立式的輸送方式進行，從而避免了臥式的多腔體串列式的連續薄膜沉積生產線薄膜沉積過程中存在的由于各種震動導致腔體上的各種氧化物微粒，以及腔體內表面吸附的眾多雜質隨時都能掉落在玻璃的鍍膜面上，既破壞了所沉積的薄膜的連續一致性，又阻斷了薄膜與玻璃基體表面的聯結，降低了薄膜的附著力之一不可克服的巨大缺陷，保證了在玻璃的整個表面上所沉積的薄膜均勻一致，附著力牢固可靠。

2、?本發明薄膜沉積時，玻璃基體在整條生產線內采用立式的輸送方式進行，這種方式下減少了濺射過程中所產生的各種粉塵落在濺射靶的表面上所引起的弧光放電現象，確保靶材表面濺射的均勻穩定。