[發明專利]一種自由曲面灰度掩膜的設計方法有效
| 申請號： | 201310303059.3 | 申請日： | 2013-07-17 |
| 公開（公告）號： | CN103425821A | 公開（公告）日： | 2013-12-04 |
| 發明（設計）人： | 杜立群;阮曉鵬 | 申請（專利權）人： | 大連理工大學 |
| 主分類號： | G06F17/50 | 分類號： | G06F17/50 |
| 代理公司： | 大連理工大學專利中心 21200 | 代理人： | 侯明遠 |
| 地址： | 116024*** | 國省代碼： | 遼寧;21 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 自由 曲面 灰度 設計 方法 | ||
【權利要求書】：
1.一種自由曲面灰度掩膜設計方法，其特征包括五部分：
第一部分：利用計算機輔助設計軟件建立目標曲面模型的過程間接控制灰度掩膜上不同區域灰度單元的透射率；
第二部分：利用計算機輔助制造中的刀路模擬對目標曲面模型進行曲面離散；
第三部分：利用計算機輔助制造中的刀路模擬間接控制灰度掩膜圖中灰度單元的排列方式；
第四部分：利用改進后的鋪路法沿固定鋪路節點縱向鋪路來逐次生成灰度單元；
第五部分：在Visual?Studio開發環境下使用C++語言、AutoCAD二次開發工具ObjectARX，對AutoCAD進行二次開發，進行自由曲面灰度掩模設計。
2.根據權利要求1所述的一種自由曲面灰度掩膜設計方法，其特征在于，是從三維立體模型到二維灰度掩膜圖。
3.根據權利要求1所述的一種自由曲面灰度掩膜設計方法，其特征在于，將灰度掩膜振幅編碼調制與CAM中直線插補刀軌生成原理相結合。
4.根據權利要求1所述的一種自由曲面灰度掩膜設計方法，其特征在于，灰度掩模圖設計程序開發工具的選擇。
5.根據權利要求1所述的一種自由曲面灰度掩膜設計方法，其特征在于，灰度掩模圖設計程序直接嵌入AutoCAD中運行。
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