[發明專利]一種無蝕刻痕的電容屏Sensor制作方法

有效

• 申請號: 201310302064.2
• 申請日: 2013-07-18
• 公開（公告）號: CN103365520A
• 公開（公告）日: 2013-10-23
• 發明（設計）人: 唐桂昌
• 申請（專利權）人: 四川世創達電子科技有限公司
• 主分類號: G06F3/044
• 分類號: G06F3/044
• 代理公司: 成都蓉信三星專利事務所(普通合伙) 51106
• 代理人: 涂鳳霞

技術領域

?本發明涉及一種消除Sensor蝕刻痕的方法，尤其涉及一種無蝕刻痕的電容屏Sensor制作方法。

背景技術

近年來，觸控面板在各行各業得到了廣泛的應用。觸摸屏廠商也如雨后春筍一樣涌現出來。觸摸屏廠商之間的競爭也越來越激烈，作為考核觸摸屏外觀的一個重要指標，如何消除蝕刻痕成為一個重要的課題。

這種觸摸屏的薄膜電容Sensor構成為：透明基材上設有導電層，導電層的四周的導電物質被蝕刻并設以電極，導電層中央導電物質被蝕刻并設以精心制作的圖案，也就是pattern。蝕刻痕是指形成Pattern后，蝕刻區域與未蝕刻區域的差異。其形成主要由兩個原因：1、Pattern區域的反射率與蝕刻區域的反射率不同；2、Pattern區域的形變與基材的形變不同，導致漫反射的形成，表現為蝕刻痕。為了避免上述問題2，現有技術中，常在導電薄膜上專門制作一層反射層，增加反射層意味著增加成本。然而隨著市場競爭日益激烈，成本壓力逐漸凸顯，低成本的要求隨之而來。

發明內容

本發明的目的就在于提供一種解決上述問題，避免Pattern區域的形變與基材的形變不同，導致漫反射的形成，形成蝕刻痕的一種無蝕刻痕的電容屏Sensor制作方法。

為了實現上述目的，本發明采用的技術方案是這樣的：一種無蝕刻痕的電容屏Sensor制作方法，包括以下步驟：

（1）導電薄膜烘烤縮水：將導電薄膜置于烤箱進行縮水，使導電薄膜中雜質吸收的水分析出，內部分子穩定，所述導電薄膜包括基材和設置在基材上的導電層；

（2）電極處導電層蝕刻：采用酸刻或蝕刻膏蝕刻的方式，將導電薄膜需要布設電極區域的導電層蝕刻掉；

（3）在已蝕刻區域布設電極；

（4）將布設好電極的導電薄膜置于烤箱進行烘烤，烘干電極材料；

（5）導電層中央蝕刻出Pattern，其中，蝕刻線的寬度小于75μm，蝕刻方式為酸刻、蝕刻膏蝕刻或干刻。

作為優選：所述導電薄膜選用ITO膜，其基材是PET，導電層為ITO，其中烘烤條件為135℃、60分鐘。

作為優選：所述步驟（3）中布設電極采用的電極材料為銀漿或碳漿。

作為優選：所述步驟（3）中的蝕刻線的寬度為50μm，蝕刻方式干刻。

與現有技術相比，本發明的優點在于：改變了現有制作電容屏Sensor的步驟，將原來的導電薄膜→烘烤縮水→導電層蝕刻形成Pattern→電極制作(涉及烘烤)中，制作電極的步驟提前，Pattern的制作提后，這樣Pattern制作后，不再經過高溫烘烤，而避免了基材形變與導電層形變的不同，水波紋也隨之消除。

附圖說明

圖1為Sensor的結構示意圖；

圖2為理論上Pattern區域反射與蝕刻區域蝕刻反射示意圖；

圖3為現有制作方法后漫反射示意圖；

圖4為現有技術中添加反射層的導電薄膜結構示意圖。

圖中：1、基材；2、Pattern；3、電極；4、反射層；5、導電層。

具體實施方式

下面將結合附圖對本發明作進一步說明。

實施例1：參見圖1、薄膜電容Sensor構成為：透明基材1上設有導電層5，導電層5的四周的導電物質被蝕刻并設以電極3，導電層5中央導電物質被蝕刻并設以pattern，其Pattern區域反射與蝕刻區域蝕刻反射示意圖如圖2所示。

傳統的薄膜式結構的Sensor制程如下所示：

導電薄膜→烘烤縮水→導電層5蝕刻形成Pattern2→電極3制作(涉及烘烤)。

參見圖3，此制作過程中，電極3處的導電層5的蝕刻與Pattern2處導電層5的蝕刻同時完成，但是在電極3制作后，會涉及烘烤制程，這樣就會導致導電層5與基材1形變不同，而且導電層5本身蝕刻線寬存在差異，受力不均，蝕刻痕會很明顯。

參見圖4，為了達到無蝕刻痕的效果，現有技術中一般會在導電薄膜上專門制作一層反射層4，但增加反射層4意味著增加成本。

而本實施例中，提供了一種無蝕刻痕的電容屏Sensor制作方法，其主要思想是將制作電極的步驟提前，Pattern制作提后，這樣Pattern制作后，不再經過高溫烘烤，從而避免了基材形變與導電層形變的不同，水波紋也隨之消除。制作過程簡化如下所示：

導電薄膜→烘烤縮水→電極處導電層蝕刻→電極制作(涉及烘烤)→制作Pattern；

具體步驟如下：