[發明專利]光刻機照明系統偏振測量用光學系統

有效

• 申請號: 201310301241.5
• 申請日: 2013-07-15
• 公開（公告）號: CN103364927A
• 公開（公告）日: 2013-10-23
• 發明（設計）人: 蔡燕民;王向朝
• 申請（專利權）人: 中國科學院上海光學精密機械研究所
• 主分類號: G02B13/00
• 分類號: G02B13/00;G03F7/20;G01J4/00
• 代理公司: 上海新天專利代理有限公司 31213
• 代理人: 張澤純

1.一種光刻機照明系統偏振測量用光學系統，沿其光軸方向依次包括：孔徑光闌、成像物鏡、波片、檢偏器、中繼物鏡、像傳感器，其特征在于，孔徑光闌平面位于所述的成像物鏡的前焦面，所述的波片位于成像物鏡的后焦面，所述的像傳感器的光敏面位于所述的中繼物鏡的像面位置，所述的成像物鏡包括第一透鏡、第二透鏡、第三透鏡、第四透鏡和第五透鏡，所述的第一透鏡、第二透鏡和第四透鏡是凹面朝向孔徑光闌面的彎月透鏡，第三透鏡是凹面朝向像平面的彎月透鏡，第五透鏡為雙凸透鏡，所述的中繼物鏡包括第六透鏡、第七透鏡、第八透鏡、第九透鏡、第十透鏡和第十一透鏡，所述的第七透鏡、第八透鏡、第九透鏡和第十透鏡為彎月透鏡，第六透鏡和第十一透鏡為雙凸透鏡，所述的第八透鏡和第十透鏡的凹面朝向孔徑光闌面，第七透鏡和第九透鏡的凹面朝向像平面，所述的第六透鏡和第十一透鏡具有正光焦度，第七透鏡、第八透鏡、第九透鏡和第十透鏡具有負光焦度，且所述每一透鏡的光學表面均為球面。

2.根據權利要求1所述的光學系統，其特征在于，所有透鏡及波片采用高透過率的熔石英材料制成，所述的檢偏器采用氟化鎂晶體材料制成。