[發明專利]濺射裝置、薄膜形成方法及有機發光顯示裝置的制造方法有效
| 申請號: | 201310301221.8 | 申請日: | 2013-07-17 |
| 公開(公告)號: | CN104120391B | 公開(公告)日: | 2019-04-19 |
| 發明(設計)人: | 崔丞鎬 | 申請(專利權)人: | 三星顯示有限公司 |
| 主分類號: | C23C14/35 | 分類號: | C23C14/35;H01L51/56;H05B33/10 |
| 代理公司: | 北京德琦知識產權代理有限公司 11018 | 代理人: | 齊葵;周艷玲 |
| 地址: | 韓國*** | 國省代碼: | 韓國;KR |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 濺射 裝置 薄膜 形成 方法 有機 發光 顯示裝置 制造 | ||
本發明涉及一種用于對基板進行沉積工序的濺射裝置,提供一種濺射裝置、薄膜形成方法及有機發光顯示裝置的制造方法,濺射裝置包括:腔室,配置有基板并且包括實現基板的沉積工序的沉積空間;旋轉型靶,在所述腔室內配置為與所述基板相對;內部磁鐵部件,配置在所述旋轉型靶內;以及外部磁鐵部件,在所述腔室內與所述基板相對并且在所述旋轉型靶的外部配置為與所述旋轉型靶相隔開。
技術領域
本發明涉及一種濺射裝置、利用該裝置的薄膜形成方法及有機發光顯示裝置的制造方法,更為詳細地涉及一種能夠有效進行薄膜形成工序并且易于提高沉積膜特性的濺射裝置、利用該裝置的薄膜形成方法及有機發光顯示裝置的制造方法。
背景技術
半導體元件、顯示裝置以及其他電子元件等具備多個薄膜。這種多個薄膜的形成方法有多種,沉積方法是其中的一種方法。
沉積方法例如有濺射(sputtering)、化學氣相沉積(CVD:chemical vapordeposition)、原子層沉積(ALD:atomic layer deposition)以及其他多種方法。
另外,在顯示裝置中有機發光顯示裝置不僅具有視角寬、對比度高的優點,還具有響應速度快的優點,因此作為下一代顯示裝置備受矚目。
有機發光顯示裝置在彼此相對的第一電極和第二電極之間包括具備有機發光層的中間層,此外還具備一個以上的多種薄膜。此時,為了形成有機發光顯示裝置的薄膜,有時利用濺射工序。
進行這種濺射工序時,在靶和基板之間發生等離子放電,不易確保這種等離子放電特性的均勻度。
特別是,隨著有機發光顯示裝置的大型化、要求高清晰度,對包括在有機發光顯示裝置中的薄膜要求均勻的特性。但是,在利用濺射工序形成薄膜時,因難以維持等離子的放電特性,形成具有期望特性的薄膜是有限的。
發明內容
本發明能夠提供一種濺射沉積裝置、利用該裝置的薄膜形成方法及有機發光顯示裝置的制造方法,該濺射沉積裝置、薄膜形成方法及有機發光顯示裝置的制造方法能夠有效進行薄膜形成工序并且易于提高沉積膜特性。
本發明公開一種濺射裝置,用于對基板進行沉積工序,包括:腔室,用于配置基板,所述腔室包括對基板進行沉積工序的沉積空間;旋轉型靶,在所述腔室內配置為與所述基板相對;內部磁鐵部件,配置在所述旋轉型靶內;以及外部磁鐵部件,在所述腔室內配置為與所述基板相對,并且在所述旋轉型靶的外部與所述旋轉型靶相隔開。
在本發明中,所述外部磁鐵部件可具備以所述旋轉型靶為中心配置在兩側的第一磁鐵部件及第二磁鐵部件。
在本發明中,所述第一磁鐵部件可配置為與所述旋轉型靶的一側面區域相對,所述第二磁鐵部件可配置為與所述旋轉型靶的所述一側面區域的相反側面區域相對。
在本發明中,所述外部磁鐵部件可具有與所述旋轉型靶的長度方向并排延長的形狀。
在本發明中,所述外部磁鐵部件可配置為與所述內部磁鐵部件平行。
在本發明中,所述外部磁鐵部件可配置為與所述基板平行。
在本發明中,所述外部磁鐵部件可配置為相對于所述基板按規定的角度傾斜,使得所述外部磁鐵部件和所述基板之間的距離逐漸變化。
在本發明中,所述外部磁鐵部件可包括多個分割磁鐵部件,并且所述多個分割磁鐵部件可分別相互獨立地配置,從而獨立控制所述多個分割磁鐵部件和所述基板之間的距離。
在本發明中,所述外部磁鐵部件至少可具有與所述內部磁鐵部件對應的長度。
在本發明中,所述旋轉型靶形成為中空的圓柱形狀,并且所述旋轉型靶的內部可配置有支撐所述旋轉型靶的襯板。
在本發明中,所述旋轉型靶可發揮陰極功能。
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