[發明專利]一種制備銅銦碲薄膜的方法有效
| 申請號: | 201310301206.3 | 申請日: | 2013-07-09 |
| 公開(公告)號: | CN103390692A | 公開(公告)日: | 2013-11-13 |
| 發明(設計)人: | 劉科高;張力;李靜;石磊;許斌 | 申請(專利權)人: | 山東建筑大學 |
| 主分類號: | H01L31/18 | 分類號: | H01L31/18 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 250101 山東省*** | 國省代碼: | 山東;37 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 制備 銅銦碲 薄膜 方法 | ||
技術領域
本發明屬于光電薄膜制備技術領域,尤其涉及一種制備銅銦碲薄膜的制備方法。?
背景技術
眾所周知,經濟的高速發展必然帶來能源消耗量的激增。隨著近年來我國社會和經濟高速發展,能源緊缺及消費能源帶來的污染已成為國內社會發展中的突出問題,因此開發利用清潔能源對保護環境、經濟可持續發展和構筑和諧社會都有重要的意義。為了更充分的利用太陽能這種清潔、安全和環保的可再生資源,近年來光電材料的研究和應用日益受到重視。?
銅銦碲基薄膜太陽電池目前可以認為是最有發展前景的薄膜電池,這是因為其吸收層材料CuInTe2具有較高的光電轉化率等一系列優點。特別是以銅銦碲光電薄膜的制備研究已經取得了較大的進展。?
目前銅銦碲薄膜的制備方法主要有溶劑熱法、噴射熱解法、化學沉積法、反應濺射法、真空蒸發法等。由于原料成本低,因此是一種非常有發展前途的光電薄膜材料,但現有工藝路線復雜、制備成本高,因而需要探索低成本的制備工藝。?
象前面所述方法一樣,其它方法也有不同的缺陷。與本發明相關的還有如下文獻:?
[1]Leccabue?F,Pelosi?C.Growth?conditions?of?CuBTe2(B=Ga,In)single?crystals?by?the?closed?tube?chemical?vapor?transport?technique.Materials?Letters,1983,2(1):42-44.?
主要描述了首次通過連通管化學氣象傳輸技術制備CuGaTe2和CuInTe2單晶。并且所有樣品經測試都具有P型導電型。?
[2]Xian-Zhou?Z,Ke-Sheng?S,Zhao-Yong?J,et?al.A?study?of?the?electronic?structures?and?optical?properties?of?CuXTe2(X=Al,Ga,In)ternary?semiconductors.Computational?and?Theoretical?Chemistry,2013.?
主要研究了三元半導體CuXTe2(X=Al,Ga,In)的電子結構和光學性能,并且這些化合物有相似的光學光譜和各向異性。這些發現預言CuGaTe2和CuInTe2因為其在可見光范圍內優秀的光吸收率和光導電性,而在光伏領域具有廣闊的前景。?
[3]Bhattacharya?R?N,Rajeshwar?K.Electrodeposition?of?CuInX(X=Se,Te)thin?films.Solar?Cells,1986,16:237-243.?
主要描述了用電沉積法制備CuInX(X=Se,Te)薄膜的過程。并研究了不同電解質對薄膜制備的影響。?
[4]Orts?J?L,Diaz?R,Herrasti?P,et?al.CuInTe2and?In-rich?telluride?chalcopyrites?thin?films?obtained?by?electrodeposition?techniques.Solar?energy?materials?and?solar?cells,2007,91(7):621-628.?
主要描述了使用電沉積方法在鉬玻璃基片上制備單相的CuInTe2薄膜。并研究了不同Te氣氛與In/Cu比例對CuInTe2合成和形態的影響。?
[5]Ishizaki?T,?Saito?N,Fuwa?A.Electrodeposition?of?CuInTe2film?from?an?acidic?solution.Surface?and?Coatings?Technology,2004,182(2):156-160.?
主要描述了使用電化學沉積方法制備多晶的CuInTe2薄膜。并研究了不同沉積溫度和過電位對CuInTe2合成的影響,以及研究了多晶CuInTe2薄膜的禁帶寬度。?
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于山東建筑大學,未經山東建筑大學許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201310301206.3/2.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
- 上一篇:組合鉤環
- 下一篇:一種氣體壓力調節裝置
- 同類專利
- 專利分類
H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L31-00 對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射,或微粒輻射敏感的,并且專門適用于把這樣的輻射能轉換為電能的,或者專門適用于通過這樣的輻射進行電能控制的半導體器件;專門適用于制造或處理這些半導體器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半導體本體為特征的
H01L31-04 .用作轉換器件的
H01L31-08 .其中的輻射控制通過該器件的電流的,例如光敏電阻器
H01L31-12 .與如在一個共用襯底內或其上形成的,一個或多個電光源,如場致發光光源在結構上相連的,并與其電光源在電氣上或光學上相耦合的





