[發明專利]曝光裝置和曝光方法

有效

• 申請號: 201310299495.8
• 申請日: 2013-07-17
• 公開（公告）號: CN103412466A
• 公開（公告）日: 2013-11-27
• 發明（設計）人: 彭川
• 申請（專利權）人: 京東方科技集團股份有限公司;成都京東方光電科技有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 北京中博世達專利商標代理有限公司 11274
• 代理人: 申健

1.一種曝光裝置，包括：曝光光源、復眼系統和光學系統，其特征在于，還包括兩片光闌，

所述兩片光闌設置在所述復眼系統的入射表面一側或出射表面一側，且所述兩片光闌相對于所述復眼系統的中心對稱設置；

其中，所述兩片光闌的開口取向根據待曝光部件的關鍵尺寸取向調節。

2.根據權利要求1所述的裝置，其特征在于，所述兩片光闌的開口取向設計為連續可調。

3.根據權利要求1所述的裝置，其特征在于，所述兩片光闌的開口寬度根據要求的關鍵尺寸取向上的最大發散角調節。

4.根據權利要求2所述的裝置，其特征在于，所述兩片光闌的開口寬度設計為連續可調。

5.根據權利要求1所述的裝置，其特征在于，所述兩片光闌與所述復眼系統之間的間距可調。

6.根據權利要求1所述的裝置，其特征在于，所述曝光裝置還包括光闌調節機構，所述光闌調節機構用于調節所述兩片光闌的開口取向和開口寬度，以及所述兩片光闌與所述復眼系統之間的間距。

7.根據權利要求1所述的裝置，其特征在于，所述兩片光闌能夠遮擋復眼系統任意兩個對邊的邊緣部分。

8.根據權利要求1或2所述的裝置，其特征在于，所述兩片光闌都是矩形光闌。

9.一種曝光方法，其特征在于，所述方法應用權利要求1所述的曝光裝置，所述方法包括：

調節并確定所述曝光裝置中兩片光闌與復眼系統之間的間距；

調節所述兩片光闌的開口取向和開口寬度試制出若干基板，確定制作出最優的所述待曝光部件時，所述曝光裝置中的所述兩片光闌的開口取向和開口寬度；

根據確定的所述兩片光闌的開口取向和開口寬度，對所述待曝光部件進行曝光。

10.根據權利要求9所述的方法，其特征在于，所述調節所述兩片光闌的開口取向和開口寬度試制出若干基板，確定制作出最優的所述待曝光部件時，所述曝光裝置中的所述兩片光闌的開口取向和開口寬度，包括：

調節所述光闌的開口取向，試制一個基板，獲得關鍵尺寸取向與所述光闌的開口取向的對應關系；

根據所述關鍵尺寸取向與所述光闌的開口取向的對應關系，確定所述待曝光部件的關鍵尺寸取向所對應的所述光闌的開口取向；

調節所述光闌處于不同的開口寬度，試制若干基板，獲得關鍵尺寸取向上的最大發散角與所述光闌的開口寬度的對應關系，進而根據所述對應關系確定制作出最優的所述待曝光部件時，所述曝光裝置中的所述兩片光闌的開口寬度。