[發(fā)明專利]基于CCD成像技術(shù)的側(cè)向激光雷達(dá)測量氣溶膠參數(shù)的方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201310299334.9 | 申請日: | 2013-07-16 |
| 公開(公告)號: | CN103344611A | 公開(公告)日: | 2013-10-09 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 陶宗明;麻曉敏;陳向春;張清澤;陳宇;儲(chǔ)德林 | 申請(專利權(quán))人: | 中國人民解放軍陸軍軍官學(xué)院 |
| 主分類號: | G01N21/49 | 分類號: | G01N21/49 |
| 代理公司: | 合肥和瑞知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 34118 | 代理人: | 任崗生 |
| 地址: | 230031 *** | 國省代碼: | 安徽;34 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 基于 ccd 成像 技術(shù) 側(cè)向 激光雷達(dá) 測量 氣溶膠 參數(shù) 方法 | ||
1.一種基于CCD成像技術(shù)的側(cè)向激光雷達(dá)測量氣溶膠參數(shù)的方法,包括CCD相機(jī)的標(biāo)定和利用CCD成像技術(shù)獲取激光在大氣中的散射光信號,其特征在于主要組成步驟為:
步驟1,先將CCD側(cè)向激光雷達(dá)工作在大氣較均勻時(shí)間段內(nèi)的水平方向上,選定散射角為179~180度處為參考點(diǎn)的氣溶膠比相函數(shù)值和大氣分子比相函數(shù)值皆為1,再測得參考點(diǎn)上的氣溶膠后向散射系數(shù)值,并認(rèn)定此值與水平方向上各散射角處的氣溶膠后向散射系數(shù)值皆相等,之后,
步驟1.1,將參考點(diǎn)上的氣溶膠后向散射系數(shù)值和氣溶膠比相函數(shù)值與CCD相機(jī)各像素的偏角(θ)、角寬度(dθ)、CCD相機(jī)(3)和激光雷達(dá)發(fā)射光束(5)的垂直距離(D)一起代入側(cè)向激光雷達(dá)方程式中,方程中的P(θ)為θ偏角方向上對應(yīng)像素接收到的信號強(qiáng)度,P0為激光雷達(dá)發(fā)射光束的功率,K為接收系統(tǒng)的光學(xué)透過率,A為光學(xué)系統(tǒng)的有效面積,Ti、Tr分別為激光豎直方向和斜方向上的透過率,β(θ)為氣溶膠側(cè)向散射系數(shù),其由β(θ)=β1(θ)f1(θ)+β2(θ)f2(θ)構(gòu)成,式中的β1(θ)為氣溶膠后向散射系數(shù)、β2(θ)為大氣分子后向散射系數(shù)、f1(θ)為氣溶膠比相函數(shù)、f2(θ)為大氣分子比相函數(shù),按以下方法反演計(jì)算出參考點(diǎn)相鄰點(diǎn)上的氣溶膠比相函數(shù)值,
設(shè)參考點(diǎn)散射角為θc,氣溶膠后向散射系數(shù)為β1(θc),大氣的光學(xué)厚度為τc,取常數(shù)則帶衰減的側(cè)向激光雷達(dá)信號β′(θ)定義為
理論上帶衰減的側(cè)向激光雷達(dá)信號的表達(dá)式為,
β′(θ)=[β1(θ)f(θ)1+β2(θ)f2(θ)]exp-(Δτ+τc(1/cos(π-θ)-1/cos(π-θc))+Δτ/cos(π-θ))dθ
??????????????????????????????????????????????????????②,
式中的Δτ為散射角從θc到θ處的大氣垂直光學(xué)厚度,從參考點(diǎn)開始,運(yùn)用數(shù)值算法,擬合方程①式和②式,數(shù)值解出參考點(diǎn)相鄰點(diǎn)上的氣溶膠比相函數(shù)f1(θc+dθ),
步驟1.2,將相鄰點(diǎn)作為新的參考點(diǎn),向散射角變小的方向選取新的相鄰點(diǎn),重復(fù)步驟1.1,數(shù)值解出新相鄰點(diǎn)上的氣溶膠比相函數(shù)f1(θc+dθ),直至獲得探測范圍內(nèi)所有選定散射角的氣溶膠比相函數(shù)值,得到氣溶膠比相函數(shù)f1(θ)的廓線;
步驟2,先將CCD側(cè)向激光雷達(dá)工作在與水平面相垂直方向上,并認(rèn)定由步驟1得到的水平方向上的氣溶膠比相函數(shù)值與垂直方向上的相等,再選取探測高度上的某處作為參考點(diǎn),測得該點(diǎn)上的氣溶膠后向散射系數(shù)值,之后,
步驟2.1,將參考點(diǎn)上的氣溶膠后向散射系數(shù)值和氣溶膠比相函數(shù)值與CCD相機(jī)各像素的偏角(θ)、角寬度(dθ)、CCD相機(jī)(3)和激光雷達(dá)發(fā)射光束(5)的垂直距離(D)一起代入側(cè)向激光雷達(dá)方程式中,按以下方法反演計(jì)算出參考點(diǎn)相鄰點(diǎn)上的氣溶膠后向散射系數(shù)值,
設(shè)參考點(diǎn)散射角為θc,氣溶膠后向散射系數(shù)為β1(θc),大氣的光學(xué)厚度為τc,取常數(shù)則帶衰減的側(cè)向激光雷達(dá)信號β′(θ)定義為
理論上帶衰減的側(cè)向激光雷達(dá)信號的表達(dá)式為,
β′(θ)=[β1(θ)f(θ)1+β2(θ)f2(θ)]exp-(Δτ+τc(1/cos(π-θ)-1/cos(π-θc))+Δτ/cos(π-θ))dθ
??????????????????????????????????????????????????????②,
式中的Δτ為散射角從θc到θ處的大氣垂直光學(xué)厚度,從參考點(diǎn)開始,運(yùn)用數(shù)值算法,擬合方程①式和②式,數(shù)值解出參考點(diǎn)相鄰點(diǎn)上的氣溶膠后向散射系數(shù)β1(θc+dθ),
步驟2.2,將相鄰點(diǎn)作為新的參考點(diǎn),先后向高處和低處兩個(gè)方向上選取新的相鄰點(diǎn),重復(fù)步驟2.1,數(shù)值解出新相鄰點(diǎn)上的氣溶膠后向散射系數(shù)β1(θc+dθ),直至獲得探測范圍內(nèi)所有選定高度上的氣溶膠后向散射系數(shù)值,得到氣溶膠后向散射系數(shù)β1(θ)的廓線;
步驟3,由θ角上的氣溶膠相函數(shù)與氣溶膠后向散射系數(shù)之比為氣溶膠比相函數(shù)的定義得到氣溶膠相函數(shù)的廓線。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于中國人民解放軍陸軍軍官學(xué)院,未經(jīng)中國人民解放軍陸軍軍官學(xué)院許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201310299334.9/1.html,轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 同類專利
- 專利分類
G01N 借助于測定材料的化學(xué)或物理性質(zhì)來測試或分析材料
G01N21-00 利用光學(xué)手段,即利用紅外光、可見光或紫外光來測試或分析材料
G01N21-01 .便于進(jìn)行光學(xué)測試的裝置或儀器
G01N21-17 .入射光根據(jù)所測試的材料性質(zhì)而改變的系統(tǒng)
G01N21-62 .所測試的材料在其中被激發(fā),因之引起材料發(fā)光或入射光的波長發(fā)生變化的系統(tǒng)
G01N21-75 .材料在其中經(jīng)受化學(xué)反應(yīng)的系統(tǒng),測試反應(yīng)的進(jìn)行或結(jié)果
G01N21-84 .專用于特殊應(yīng)用的系統(tǒng)
- 防止技術(shù)開啟的鎖具新技術(shù)
- 技術(shù)評價(jià)裝置、技術(shù)評價(jià)程序、技術(shù)評價(jià)方法
- 防止技術(shù)開啟的鎖具新技術(shù)
- 視聽模擬技術(shù)(VAS技術(shù))
- 用于技術(shù)縮放的MRAM集成技術(shù)
- 用于監(jiān)測技術(shù)設(shè)備的方法和用戶接口、以及計(jì)算機(jī)可讀存儲(chǔ)介質(zhì)
- 用于監(jiān)測技術(shù)設(shè)備的技術(shù)
- 技術(shù)偵查方法及技術(shù)偵查系統(tǒng)
- 使用投影技術(shù)增強(qiáng)睡眠技術(shù)
- 基于技術(shù)庫的技術(shù)推薦方法





