[發明專利]一種中空低輻射率鍍膜玻璃的制備方法無效
| 申請號： | 201310296870.3 | 申請日： | 2013-07-16 |
| 公開（公告）號： | CN103420629A | 公開（公告）日： | 2013-12-04 |
| 發明（設計）人： | 唐華明 | 申請（專利權）人： | 蘇州華東鍍膜玻璃有限公司 |
| 主分類號： | C03C27/10 | 分類號： | C03C27/10;C03C17/36 |
| 代理公司： | 暫無信息 | 代理人： | 暫無信息 |
| 地址： | 215011 江蘇省蘇州*** | 國省代碼： | 江蘇;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 中空 輻射 鍍膜 玻璃 制備 方法 | ||
【權利要求書】：
1.一種中空低輻射率鍍膜玻璃的制備方法，其特征在于，包括如下步驟：
a)首先在玻璃基片上進行鍍膜；
b)接著準備好棉布和清水，把棉布蘸上清水后抹涂玻璃上的除膜部位，濕潤后用手動除膜機進行除膜操作；
c)然后把除膜后的玻璃經過清洗、上框和合片工序，制成中空玻璃；
d)最后用玻璃密封膠對中空玻璃進行打膠。
2.如權利要求1所述的中空低輻射率鍍膜玻璃的制備方法，其特征在于，所述步驟a)的鍍膜過程如下：采用真空磁控濺射鍍膜方法在玻璃基片上依次濺鍍第一四氮化三硅膜層、第一鎳鉻膜層、銀膜層、第二鎳鉻膜層和第二四氮化三硅膜層。
3.如權利要求2所述的中空低輻射率鍍膜玻璃的制備方法，其特征在于，所述第二鎳鉻膜層和第二四氮化三硅膜層之間還濺鍍有氧化鋅膜層。
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