[發(fā)明專(zhuān)利]發(fā)光裝置無(wú)效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201310294291.5 | 申請(qǐng)日: | 2013-04-10 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN103363409A | 公開(kāi)(公告)日: | 2013-10-23 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | M·布雷梅里希 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人: | 艾科有限公司 |
| 主分類(lèi)號(hào): | F21S8/04 | 分類(lèi)號(hào): | F21S8/04;F21V5/04;F21V1/02;F21V7/04;F21Y101/02 |
| 代理公司: | 中國(guó)國(guó)際貿(mào)易促進(jìn)委員會(huì)專(zhuān)利商標(biāo)事務(wù)所 11038 | 代理人: | 饒辛霞 |
| 地址: | 德國(guó)呂*** | 國(guó)省代碼: | 德國(guó);DE |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 發(fā)光 裝置 | ||
1.一種發(fā)光裝置(10),用于安裝在建筑物室的天花板(25)上和用于照明地板表面(31)或建筑物部分表面,該發(fā)光裝置包括至少一個(gè)具有光發(fā)射面(42)的發(fā)光二極管(11)、由單獨(dú)的部件提供的準(zhǔn)直光學(xué)裝置(12),該準(zhǔn)直光學(xué)裝置具有覆蓋光發(fā)射面的光入射面(20)和光出射面(23),其中,該準(zhǔn)直光學(xué)裝置具有40°到120°之間的發(fā)射角(α)。
2.按權(quán)利要求1所述的發(fā)光裝置,其特征在于,在光的主發(fā)射方向上在準(zhǔn)直光學(xué)裝置(12)之后布置不透光的遮光元件(13),尤其是反射體,或尤其是設(shè)置有亞光白色內(nèi)表面的元件。
3.按權(quán)利要求2所述的發(fā)光裝置,其特征在于,遮光元件(13)具有環(huán)繞發(fā)光裝置光出射口(24)的自由棱邊(38a、38b),所述棱邊定位為使得其基本上與發(fā)射角(α)鄰接(圖6)。
4.一種發(fā)光裝置(10),特別是按上述權(quán)利要求之一所述的發(fā)光裝置,用于安裝在建筑物室的天花板(25)上和用于照明地板表面(31)或建筑物部分表面,該發(fā)光裝置包括至少一個(gè)具有光發(fā)射面(42)的發(fā)光二極管(11)、準(zhǔn)直光學(xué)裝置(12),該準(zhǔn)直光學(xué)裝置具有覆蓋光發(fā)射面(42)的光入射面(20)和光出射面(23),并且該發(fā)光裝置包括反射體(13),其中,該準(zhǔn)直光學(xué)裝置的光出射面伸入反射體的內(nèi)部空間(43)中或鑲邊于反射體的內(nèi)部空間。
5.按權(quán)利要求4所述的發(fā)光裝置,其特征在于,準(zhǔn)直光學(xué)裝置(12)具有40°到120°之間的發(fā)射角(α)。
6.按權(quán)利要求5所述的發(fā)光裝置,其特征在于,反射體具有環(huán)繞發(fā)光裝置光出射口(24)的自由棱邊(38a、38b),所述棱邊定位為使得其基本上與發(fā)射角(α)鄰接。
7.按權(quán)利要求4至6之一所述的發(fā)光裝置,其特征在于,反射體(13)基本上環(huán)形環(huán)繞光出射面(23),并且尤其旋轉(zhuǎn)對(duì)稱(chēng)地構(gòu)造。
8.按上述權(quán)利要求之一所述的發(fā)光裝置,其特征在于,反射體(13)構(gòu)造為筒燈反射體(圖3)。
9.按上述權(quán)利要求之一所述的發(fā)光裝置,其特征在于,發(fā)光裝置具有多個(gè)反射體(13a、13b、13c、13d)和/或多個(gè)準(zhǔn)直光學(xué)裝置(12a、12b、12c、12d)。
10.按權(quán)利要求9所述的發(fā)光裝置,其特征在于,多個(gè)反射體至少部分由一個(gè)共同的部件提供,和/或多個(gè)準(zhǔn)直光學(xué)裝置至少部分由一個(gè)共同的部件提供。
11.按權(quán)利要求9或10所述的發(fā)光裝置,其特征在于,設(shè)置四個(gè)準(zhǔn)直光學(xué)裝置(12a、12b、12c、12d),并且為每個(gè)準(zhǔn)直光學(xué)裝置(12a)配設(shè)一個(gè)四分之一圓形的反射元件(13a、13b、13c、13d)。
12.按上述權(quán)利要求之一所述的發(fā)光裝置,其特征在于,發(fā)光二極管(11)是具有多個(gè)發(fā)光二極管的一個(gè)發(fā)光二極管裝置的組成部分。
13.按權(quán)利要求12所述的發(fā)光裝置,其特征在于,發(fā)光二極管裝置(11)由多重發(fā)光二極管、尤其是多芯片發(fā)光二極管提供。
14.按權(quán)利要求12或13所述的發(fā)光裝置,其特征在于,設(shè)置多個(gè)發(fā)光二極管裝置(11),并且為每個(gè)發(fā)光二極管配設(shè)一個(gè)反射體和/或一個(gè)準(zhǔn)直光學(xué)裝置。
15.按權(quán)利要求1至11之一所述的發(fā)光裝置,其特征在于,設(shè)置多個(gè)發(fā)光二極管(11),并且為每個(gè)發(fā)光二極管配設(shè)一個(gè)反射體和/或一個(gè)準(zhǔn)直光學(xué)裝置。
16.按上述權(quán)利要求之一所述的發(fā)光裝置,其特征在于,沿一條直線(xiàn)布置多個(gè)反射體和/或多個(gè)準(zhǔn)直光學(xué)裝置和多個(gè)發(fā)光二極管裝置或多個(gè)發(fā)光二極管,用于形成縱向延伸構(gòu)造的發(fā)光裝置。
17.按權(quán)利要求1至15之一所述的發(fā)光裝置,其特征在于,多個(gè)反射體(13a、13b)和/或多個(gè)準(zhǔn)直光學(xué)裝置(12a、12b)和多個(gè)發(fā)光二極管裝置或多個(gè)發(fā)光二極管沿包含數(shù)行和數(shù)列的柵格(圖4、圖5)布置。
18.按上述權(quán)利要求之一所述的發(fā)光裝置,其特征在于,在由發(fā)光二極管發(fā)射的光的光路中在反射體(13)之后布置附加的反射體,用于影響光分布,尤其是用于實(shí)現(xiàn)窄發(fā)射或?qū)挵l(fā)射的光分布。
該專(zhuān)利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專(zhuān)利權(quán)人授權(quán)。該專(zhuān)利全部權(quán)利屬于艾科有限公司,未經(jīng)艾科有限公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購(gòu)買(mǎi)此專(zhuān)利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201310294291.5/1.html,轉(zhuǎn)載請(qǐng)聲明來(lái)源鉆瓜專(zhuān)利網(wǎng)。
- 光源裝置、照明裝置、液晶裝置和電子裝置
- 預(yù)測(cè)裝置、編輯裝置、逆預(yù)測(cè)裝置、解碼裝置及運(yùn)算裝置
- 圖像形成裝置、定影裝置、遮光裝置以及保持裝置
- 打印裝置、讀取裝置、復(fù)合裝置以及打印裝置、讀取裝置、復(fù)合裝置的控制方法
- 電子裝置、光盤(pán)裝置、顯示裝置和攝像裝置
- 光源裝置、照明裝置、曝光裝置和裝置制造方法
- 用戶(hù)裝置、裝置對(duì)裝置用戶(hù)裝置、后端裝置及其定位方法
- 遙控裝置、通信裝置、可變裝置及照明裝置
- 透鏡裝置、攝像裝置、處理裝置和相機(jī)裝置
- 抖動(dòng)校正裝置、驅(qū)動(dòng)裝置、成像裝置、和電子裝置





