[發(fā)明專利]一種用于飛行時(shí)間質(zhì)譜的磁控濺射團(tuán)簇離子源無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201310291516.1 | 申請日： | 2013-07-11 |
| 公開（公告）號： | CN104282526A | 公開（公告）日： | 2015-01-14 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 唐紫超;秦正波;張世宇 | 申請（專利權(quán)）人： | 中國科學(xué)院大連化學(xué)物理研究所 |
| 主分類號： | H01J49/10 | 分類號： | H01J49/10;H01J49/14 |
| 代理公司： | 沈陽晨創(chuàng)科技專利代理有限責(zé)任公司 21001 | 代理人： | 張晨 |
| 地址： | 116023 *** | 國省代碼： | 遼寧;21 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 一種 用于 飛行 時(shí)間 磁控濺射 離子源 | ||
1.一種用于飛行時(shí)間質(zhì)譜的磁控濺射團(tuán)簇離子源，其特征在于：該離子源包括腔體（1）、氬進(jìn)氣管（2）、氦進(jìn)氣管（3）、金屬靶材（4）、噴口（5）；
金屬靶材（4）位于靠近飛行時(shí)間質(zhì)譜的一側(cè)，氬進(jìn)氣管（2）和氦進(jìn)氣管（3）在金屬靶材（4）的兩端，腔體（1）與飛行時(shí)間質(zhì)譜相鄰的一側(cè)有1個(gè)凸向腔體的噴口（5）。
2.按照權(quán)利要求1所述用于飛行時(shí)間質(zhì)譜的磁控濺射團(tuán)簇離子源，其特征在于：所述離子源與飛行時(shí)間質(zhì)譜的質(zhì)量分析器緊密相連，測試時(shí)產(chǎn)生的金屬團(tuán)簇離子直接進(jìn)入質(zhì)譜儀器中，減少了離子在飛行過程中的損耗。
3.按照權(quán)利要求1所述用于飛行時(shí)間質(zhì)譜的磁控濺射團(tuán)簇離子源，其特征在于：所述離子源可應(yīng)用于尺寸可控的原子團(tuán)簇的表面沉積。
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