[發(fā)明專利]多層陶瓷電容器及其制造方法和拋光裝置以及電路板

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201310291366.4
• 申請(qǐng)日: 2013-07-11
• 公開（公告）號(hào): CN103971928B
• 公開（公告）日: 2017-03-01
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 吳德錫;蔡恩赫;全正玹;鄭鎮(zhèn)萬
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 三星電機(jī)株式會(huì)社
• 主分類號(hào): H01G4/30
• 分類號(hào): H01G4/30;H01G4/12;H01G4/232;B24B19/22
• 代理公司: 北京潤(rùn)平知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司11283
• 代理人: 施娥娟,董彬

1.一種多層陶瓷電容器，該多層陶瓷電容器包括：

0603型陶瓷本體，該陶瓷本體包括電介質(zhì)層和覆蓋層；

第一內(nèi)電極和第二內(nèi)電極，該第一內(nèi)電極和第二內(nèi)電極配置為彼此相對(duì)，同時(shí)所述第一內(nèi)電極和第二內(nèi)電極之間插入有所述電介質(zhì)層；以及

第一外電極和第二外電極，該第一外電極電連接于所述第一內(nèi)電極，所述第二外電極電連接于所述第二內(nèi)電極，

其中，在所述陶瓷本體的長(zhǎng)度-厚度（L-T）橫截面中，在正方形定義為包括平行于所述陶瓷本體的第一主表面的中央部分的邊和沿對(duì)角方向配置在所述陶瓷本體的外表面上的頂點(diǎn)并且所述邊的長(zhǎng)度為30μm的情況下，當(dāng)所述正方形的未被所述陶瓷本體占據(jù)的區(qū)域的面積定義為A-外，并且所述覆蓋層的厚度定義為t時(shí)，滿足下列方程：10μm²≤A-外，以及A-外/t≤3.5m。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的多層陶瓷電容器，其中，所述陶瓷本體燒制后具有0.12mm或更小的厚度。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的多層陶瓷電容器，其中，所述覆蓋層包括上覆蓋層和下覆蓋層，并且所述覆蓋層的厚度t為所述上覆蓋層和下覆蓋層的厚度的平均值。

4.一種電路板，該電路板中嵌入有多層陶瓷電容器，該電路板包括：

電路板部，該電路板部設(shè)置有用于容納電子元件的凹槽；以及

多層陶瓷電容器，該多層陶瓷電容器包括：0603型陶瓷本體，該0603型陶瓷本體包括電介質(zhì)層和覆蓋層；第一內(nèi)電極和第二內(nèi)電極，該第一內(nèi)電極和第二內(nèi)電極配置為彼此相對(duì)，同時(shí)所述第一內(nèi)電極和第二內(nèi)電極之間插入有所述電介質(zhì)層；以及第一外電極和第二外電極，該第一外電極電連接于所述第一內(nèi)電極，所述第二外電極電連接于所述第二內(nèi)電極，所述多層陶瓷電容器配置在所述凹槽內(nèi)，

其中，在所述陶瓷本體的長(zhǎng)度-厚度（L-T）橫截面上，在正方形定義為包括平行于所述陶瓷本體的第一主表面的中央部分的邊和沿對(duì)角方向配置在所述陶瓷本體的外表面上的頂點(diǎn)并且所述邊的長(zhǎng)度為30μm的情況下，當(dāng)所述正方形的未被所述陶瓷本體占據(jù)的區(qū)域的面積定義為A-外，并且所述覆蓋層的厚度定義為t時(shí)，滿足下列方程：10μm²≤A-外，以及A-外/t≤3.5m。

5.一種多層陶瓷電容器的制造方法，該制造方法包括：

制備陶瓷基片；

使用用于內(nèi)電極的導(dǎo)電漿料在所述陶瓷基片上形成內(nèi)電極圖案；

通過堆疊其上形成有內(nèi)電極圖案的所述陶瓷基片和其上未形成有內(nèi)電極圖案的所述陶瓷基片并且然后燒制堆疊的陶瓷基片來形成0603型陶瓷本體，該0603型陶瓷本體包括：配置為彼此相對(duì)的第一內(nèi)電極和第二內(nèi)電極，電介質(zhì)層，以及覆蓋層；

拋光所述陶瓷本體的邊緣；以及

形成第一外電極和第二外電極，該第一外電極電連接于所述第一內(nèi)電極，所述第二外電極電連接于所述第二內(nèi)電極，

其中，在所述陶瓷本體的長(zhǎng)度-厚度（L-T）橫截面中，在正方形定義為包括平行于所述陶瓷本體的第一主表面的中央部分的邊和沿對(duì)角方向配置在所述陶瓷本體的外表面上的頂點(diǎn)并且所述邊的長(zhǎng)度為30μm的情況下，當(dāng)所述正方形的未被所述陶瓷本體占據(jù)的區(qū)域的面積定義為A-外，并且所述覆蓋層的厚度定義為t時(shí)，滿足下列方程：10μm²≤A-外，以及A-外/t≤3.5m。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的制造方法，其中，所述陶瓷本體燒制后具有0.12mm或更小的厚度。

7.根據(jù)權(quán)利要求5所述的制造方法，其中，所述覆蓋層包括上覆蓋層和下覆蓋層，并且所述覆蓋層的厚度t為所述上覆蓋層和下覆蓋層的厚度的平均值。

8.一種拋光裝置，該拋光裝置包括：

旋轉(zhuǎn)工作臺(tái)，該旋轉(zhuǎn)工作臺(tái)具有垂直于重力方向的旋轉(zhuǎn)軸線；

拋光罐，該拋光罐安裝在所述旋轉(zhuǎn)工作臺(tái)的表面上，并且具有垂直于重力方向的旋轉(zhuǎn)軸線，所述拋光罐包括引入到該拋光罐中的0603型陶瓷本體和拋光件；

拋光罐旋轉(zhuǎn)控制部，該拋光罐旋轉(zhuǎn)控制部控制所述拋光罐的旋轉(zhuǎn)；以及

旋轉(zhuǎn)工作臺(tái)旋轉(zhuǎn)控制部，該旋轉(zhuǎn)工作臺(tái)旋轉(zhuǎn)控制部控制所述旋轉(zhuǎn)工作臺(tái)的旋轉(zhuǎn)，

其中，所述拋光罐的旋轉(zhuǎn)軸線和所述旋轉(zhuǎn)工作臺(tái)的旋轉(zhuǎn)軸線形成在不同的位置以彼此平行。