[發明專利]一種防治反滲透膜或納濾膜污染的清洗方法

有效

• 申請號: 201310289802.4
• 申請日: 2013-07-09
• 公開（公告）號: CN103301753A
• 公開（公告）日: 2013-09-18
• 發明（設計）人: 蘇保衛;吳桐;高學理;叢鑫
• 申請（專利權）人: 中國海洋大學
• 主分類號: B01D65/06
• 分類號: B01D65/06;C02F1/44
• 代理公司: 青島高曉專利事務所 37104
• 代理人: 張世功

1.一種防治反滲透膜或納濾膜污染的清洗方法，其特征在于用反滲透裝置實現清洗，反滲透裝置采用模塊化設計，一套反滲透裝置由一組或多組反滲透模塊并聯結構組合構成，并共用高壓泵和能量回收裝置及預防性在線清洗系統，每一組反滲透模塊包括多支反滲透膜壓力容器；每一組反滲透模塊的工作分為運行狀態和清洗狀態，運行狀態時預處理水一部分經過高壓泵加壓后進入各組反滲透模塊，另一部分經過能量回收裝置回收濃水的壓力能后，再經增壓泵后進入各組反滲透模塊，各組反滲透模塊的濃水匯集后進入能量回收裝置，將壓力能傳遞給預處理水后，一部分濃水被收集于反滲透清洗水箱備用，其余部分濃水直接排放；當達到清洗觸發條件時，在反滲透裝置的高壓泵不停止運行的情況下，從該組反滲透模塊開始，利用反滲透濃水和壓縮空氣形成氣水兩相流清洗，或再結合同時加入化學藥劑進行化學清洗，并通過濃水正向沖洗，依次對所有各組反滲透模塊進行在線預防性清洗；或清洗觸發條件尚未達到，反滲透裝置的校正產水量長期保持穩定的情況下，從任一組反滲透模塊開始，定期或不定期地依次對所有各組反滲透模塊進行在線預防性清洗，使反滲透模塊的產水恢復至初始平均校正產水量的99%以上，壓降和產水電導率與進水電導率的比值恢復正常；其具體清洗過程包括如下三個工藝步驟：

第一步：氣水兩相流清洗或同時化學清洗：依次關閉同一組反滲透模塊的進水閥和濃水閥，打開壓縮空氣進氣閥、清洗水閥以及該組反滲透模塊的清洗水進水閥、清洗水排放閥，由清洗水泵將反滲透清洗水箱中的反滲透濃水經保安過濾器輸送至靜態混合器；化學清洗時打開加藥閥，由計量泵將化學藥劑加入反滲透濃水管路中，化學藥劑的加入位置在保安過濾器之前；在靜態混合器中氣水混合后由該組反滲透模塊進水口進入反滲透膜元件的進水流道中進行氣水兩相流清洗，清洗后廢液由清洗水排放閥排出，氣水兩相流清洗時間小于300秒；

第二步：濃水沖洗：關閉壓縮空氣進氣閥和加藥閥，清洗低壓泵直接從反滲透清洗水箱抽取反滲透濃水，由該組反滲透模塊進水口進入反滲透膜元件的進水流道沖洗反滲透膜表面后，經濃水排放閥排出，直到排出水中無明顯氣泡為止，所用的時間定為濃水沖洗時間；

第三步：置換沖洗：關閉清洗水進水閥和加藥閥，打開該組反滲透模塊的進水閥，將預處理水輸送至該組反滲透模塊，將反滲透濃水側的清洗濃水置換排出，直到電導率恢復到預處理水電導率的98%，所用的時間設定為置換沖洗時間；然后關閉清洗水排放閥，打開濃水排放閥，該反滲透模塊恢復正常運行；依次清洗其它各組反滲透模塊。

2.根據權利要求1所述的防治反滲透膜或納濾膜污染的清洗方法，其特征在于涉及的清洗觸發條件為：任一組反滲透模塊的平均校正產水量的下降幅度超過該組模塊初始平均校正產水量的2%，或反滲透濃水側的壓降增加量超過正常值的3%，或任一組反滲透模塊的產水電導率與進水電導率的比值變化量超過正常值的3%，或任意一支反滲透膜壓力容器的產水電導率與進水電導率的比值變化量超過正常值的3%時；清洗觸發條件的參數值根據具體清洗過程調整，清洗觸發條件的參數值小于5%。

3.根據權利要求1所述的防治反滲透膜或納濾膜污染的清洗方法，其特征在于涉及的反滲透裝置采用一段式反滲透工藝或兩段式反滲透工藝或二級反滲透工藝，并采用能量回收裝置。

4.根據權利要求1所述的防治反滲透膜或納濾膜污染的清洗方法，其特征在于涉及的氣水兩相流沖洗和濃水沖洗用水均為反滲透濃水；化學藥劑包括殺菌劑、表面活性劑、酸性清洗劑、堿性清洗劑、中性清洗劑和絡合物清洗劑，均為市售產品，加入的具體化學藥品和加入劑量根據實際進水水質決定，加入方式為通過計量泵直接加入到清洗水管路中；壓縮空氣為經過除油和除塵的潔凈壓縮空氣，其進氣壓力為0.1～0.5MPa；清洗進水的壓力小于壓縮空氣壓力，并控制在0.4MPa以下，氣水兩相流清洗水的流量為正常運行時進水流量的10-50%；濃水沖洗水流量為正常運行時進水量的1.2～3倍；預處理水置換反滲透濃水的時間由電導率控制，排放水的電導率達到原水電導率的98%時置換完成，進入正常運行狀態。

5.根據權利要求1所述的防治反滲透膜或納濾膜污染的清洗方法，其特征在于涉及的反滲透膜元件采用卷式或中空纖維式結構，反滲透膜包括納濾膜。