[發明專利]彩色濾光陣列基板及其制造方法

有效

• 申請號: 201310288932.6
• 申請日: 2013-07-10
• 公開（公告）號: CN103309106A
• 公開（公告）日: 2013-09-18
• 發明（設計）人: 董成才
• 申請（專利權）人: 深圳市華星光電技術有限公司
• 主分類號: G02F1/1362
• 分類號: G02F1/1362;G02F1/1335
• 代理公司: 深圳市德力知識產權代理事務所 44265
• 代理人: 林才桂

1.一種彩色濾光陣列基板，其特征在于，包括：

一玻璃基板（20），其包括顯示區及位于顯示區外圍的非顯示區；

一第一金屬層，位于所述玻璃基板（20）上，用來形成位于非顯示區的第一外圍金屬層部分（21）及位于顯示區的第一內部金屬層部分；

一絕緣層（22），位于所述玻璃基板（20）以及所述第一金屬層上；

一第二金屬層，位于所述絕緣層（22）上，用來形成位于非顯示區的第二外圍金屬層部分（26）及位于顯示區的第二內部金屬層部分；

一彩色濾光層（23），位于所述絕緣層（22）與第二金屬層之間，所述彩色濾光層（23）包括位于顯示區的彩色部分及位于第一外圍金屬層部分（21）與第二外圍金屬層部分（26）交錯位置的阻隔部分（50）；

一透明導電層，位于第二金屬層上。

2.如權利要求1所述的彩色濾光陣列基板，其特征在于，還包括：

一第一保護層（24），位于所述彩色濾光層（23）上；

一主動層（25），位于所述第一保護層（24）上，所述第二金屬層位于所述主動層（25）上；

一第二保護層（27），位于所述第二金屬層以及第一保護層（24）上；

一平坦化層（28），位于所述第二保護層（27）上，所述透明導電層位于該平坦化層（28）上。

3.如權利要求2所述的彩色濾光陣列基板，其特征在于，還包括一非晶硅層（30），該非晶硅層（30）位于第一保護層（24）與主動層（25）之間。

4.如權利要求1所述的彩色濾光陣列基板，其特征在于，所述阻隔部分（50）為單層、雙層或三層結構，當所述阻隔部分（50）為單層結構時，該阻隔部分（50）為紅色色阻層、藍色色阻層或綠色色阻層；當所述阻隔部分（50’）為雙層結構時，該阻隔部分（50’）包括紅色色阻層、藍色色阻層以及綠色色阻層中的任意兩種；當所述阻隔部分（50’’）為三層結構時，該阻隔部分（50’’）包括紅色色阻層、藍色色阻層以及綠色色阻層。

5.一種彩色濾光陣列基板的制造方法，其特征在于，包括以下步驟：

步驟1、提供一玻璃基板（20），該玻璃基板（20）包括顯示區及位于顯示區外圍的非顯示區；

步驟2、在所述玻璃基板（20）上形成第一金屬層，并通過光罩制程圖案化該第一金屬層，以形成位于非顯示區的第一外圍金屬層部分（21）及位于顯示區的第一內部金屬層部分，該第一內部金屬層部分包括薄膜晶體管的柵極及存儲電容的一電極；

步驟3、在所述第一金屬層以及玻璃基板（20）上形成絕緣層（22），并通過光罩制程圖案化該絕緣層（22）；

步驟4、在所述絕緣層（22）上形成彩色濾光層（23），并通過光罩制程圖案化該彩色濾光層（23），以形成位于顯示區的彩色部分及位于非顯示區的阻隔部分（50）；

步驟5、在彩色濾光層（23）上形成第一保護層（24），并通過光罩制程圖案化該第一保護層（24）；

步驟6、在第一保護層（24）上形成主動層（25），并通過光罩制程圖案化該主動層（25），以形成所述薄膜晶體管的通道；

步驟7、在主動層（25）上形成第二金屬層，并通過光罩制程圖案化該第二金屬層，以形成位于非顯示區的第二外圍金屬層部分（26）及位于顯示區的第二內部金屬層部分，所述第二內部金屬層部分包括薄膜晶體管的源/漏極，所述阻隔部分（50）位于第一外圍金屬層部分（21）與第二外圍金屬層部分（26）交錯位置；

步驟8、在所述第二金屬層以及第一保護層（24）上形成第二保護層（27），并通過光罩制程圖案化該第二保護層（27）；

步驟9、在第二保護層（27）上形成透明導電層，并通過光罩制程圖案化該透明導電層，以形成所述存儲電容的另一電極，該另一電極電性連接于所述薄膜晶體管的源/漏極。

6.如權利要求5所述的彩色濾光陣列基板的制造方法，其特征在于，所述步驟8還包括在第二保護層（27）上形成平坦化層（28），并通過光罩制程圖案化該平坦化層（28）；所述步驟9中的透明導電層形成于平坦化層（28）上。

7.如權利要求5所述的彩色濾光陣列基板的制造方法，其特征在于，所述步驟5還包括在第一保護層（24）上形成非晶硅層（30），并對該非晶硅層（30）進行摻雜制程；所述步驟6中的主動層（25）形成于該非晶硅層（30）上。