[發明專利]一種避免飛片的石墨盤結構無效
| 申請號: | 201310287144.5 | 申請日: | 2013-07-10 |
| 公開(公告)號: | CN103343333A | 公開(公告)日: | 2013-10-09 |
| 發明(設計)人: | 郭麗彬 | 申請(專利權)人: | 合肥彩虹藍光科技有限公司 |
| 主分類號: | C23C16/458 | 分類號: | C23C16/458 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 230012 *** | 國省代碼: | 安徽;34 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 避免 石墨 盤結 | ||
1.一種避免飛片的石墨盤結構,包括石墨盤的Pocket底座,其特征在于,所述Pocket底座為下凹的曲面底面形狀,曲面的圓心角為0~10度。
2.根據權利要求1所述的避免飛片的石墨盤結構,其特征在于,所述Pocket底座沿曲面底面的兩側上邊緣為Pocket側壁,所述Pocket側壁向腔體內傾斜,呈“7”型或“Z”型。
3.根據權利要求1所述的避免飛片的石墨盤結構,其特征在于,所述Pocket底座的曲面底面的下凹深度L為5~60μm。
4.根據權利要求3所述的避免飛片的石墨盤結構,其特征在于,所述Pocket底座的曲面底面距離所述Pocket側壁的高度H為10~100μm。
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C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴散法,化學轉化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C16-00 通過氣態化合物分解且表面材料的反應產物不留存于鍍層中的化學鍍覆,例如化學氣相沉積
C23C16-01 .在臨時基體上,例如在隨后通過浸蝕除去的基體上
C23C16-02 .待鍍材料的預處理
C23C16-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金屬材料的沉積為特征的
C23C16-22 .以沉積金屬材料以外之無機材料為特征的





