[發明專利]一種制備無泥裂涂層的方法

有效

• 申請號: 201310286339.8
• 申請日: 2013-07-09
• 公開（公告）號: CN103395236A
• 公開（公告）日: 2013-11-20
• 發明（設計）人: 王龍耀;潘繁榮;王嵐;陳群
• 申請（專利權）人: 常州大學
• 主分類號: B32B3/30
• 分類號: B32B3/30
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種制備無泥裂涂層的方法,通過制備基體材料或對已有基體材料進行處理，使其表面層的微觀形貌具有與涂層材料相適應的三維網狀的結構特點，以有效地補償材料內部及材料間產生的應力；將構成涂層的組分或其前驅物以涂層液形式涂覆于基體表面，經干燥或熱分解處理，形成涂層材料并固化于基體表面，制備得到無泥裂涂層。

2.根據權利要求1所述的一種制備無泥裂涂層的方法，其特征在于其中所述基體材料是涂層所附著的具有穩定外形的固體材料，可以是純金屬（如鈦、鉛、鎳、鐵、鋁、銅、錫、銀、金、鉑、鈀、釕、銥、鉻、鉭）或其合金（如不銹鋼、鈦合金、鉛合金、錫銻合金、哈氏合金）、金屬氧化物、陶瓷、玻璃、石墨、無機鹽、固體酸、固體堿、高分子材料中的任意一種或幾種的復合物或摻雜物。

3.根據權利要求1所述的一種制備無泥裂涂層的方法，其特征在于其中所述基體材料可以為多孔材料，多孔材料與致密材料的復合物，或局部表面形貌具有三維網狀結構特點的固體材料。

4.根據權利要求1所述的一種制備無泥裂涂層的方法，其特征在于其中所述基體材料表面層的微觀形貌和與涂層材料相適應的三維網狀的結構特點，是指基體外表面與深入進基體內部的孔道內表面一起形成具有三維網狀結構特點的微觀形貌；基體外表面與深入進基體內部的孔道內表面可以是光滑的，或者是非光滑的；通過對三維孔道結構的調整和適當表面處理，實現對涂層材料內應力的充分補償。

5.根據權利要求1所述的一種制備無泥裂涂層的方法，其特征在于具有多孔狀表面層的基體可以是下述1）或2）中的一種：1）組織結構相對均一,平均孔徑介于0.1μm～1000μm，孔隙率1～85%，開孔孔隙率0～100%的多孔材料；2）具有多孔表面層的致密基體，或在致密材料基礎上制備多孔表面層，其中多孔表面層的表觀平均孔徑介于0.1μm～1000μm,孔隙率1～85%，開孔孔隙率0～100%。

6.根據權利要求1所述的一種制備無泥裂涂層的方法，其特征在于其中所述涂層材料是附著于基體表面，具有一定厚度的固體材料，可以是純金屬（如鈦、鉛、鎳、鐵、鋁、銅、錫、銀、金、鉑、鈀、釕、銥、鉻、鉭）或其合金（如不銹鋼、鈦合金、鉛合金、錫銻合金、哈氏合金）、金屬氧化物、陶瓷、玻璃、石墨、鹽、固體酸、固體堿、高分子材料中的任意一種或幾種的混合物或摻雜物。

7.根據權利要求1所述的一種制備無泥裂涂層的方法，其特征在于其中所述涂層液可以是形成涂層的組分或其前驅物的熔融物、溶液、懸混液或溶膠-凝膠，其溶劑可以是水或有機溶劑，并可添加有助于涂層液配制和使用的助劑（如表面活性劑、懸混穩定劑、增稠劑）；涂層液可以經刷涂、浸涂、浸漬、噴涂方法分布于基體表面；涂布過程中可以使用超聲、離心、控溫、過濾等方法或強化傳質手段以提高涂布效果。

8.根據權利要求1所述的一種制備無泥裂涂層的方法，其特征在于其中所述干燥或熱分解處理，可以在負壓、常壓或正壓條件下進行；處理溫度可在-50～3000℃范圍內選取，并可采用程序升溫或降溫措施；干燥或熱處理環境氛圍可以是自然氛圍、氧化性氛圍、還原性氛圍或惰性氛圍。

9.根據權利要求1所述的一種制備無泥裂涂層的方法，其特征在于其中所述涂層材料與基體材料間可以具有清晰的分界面，也可以因為相互滲透作用具有模糊的分界面，或二者因形成固溶體等互溶固形物而沒有明顯分界面；涂層可以具有一層或多層結構，相同層的構成材料可以是相同的，也可以是不同的（即相同層不同部位的構成材料可出現差異）；不同層的構成材料可以是相同的，也可以是不同的；當制備多層涂層時，先制備的涂層將成為基體材料的一部分，為后制備的涂層提供附著表面；多孔表面層表觀平均孔徑應大于所制備涂層平均厚度。